離心均質(zhì)機(jī)用轉(zhuǎn)鼓的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種離心均質(zhì)機(jī)用轉(zhuǎn)鼓，涉及一種分離裝置；離心均質(zhì)機(jī)用轉(zhuǎn)鼓包括轉(zhuǎn)鼓和轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)鼓內(nèi)設(shè)置有兩個(gè)連通的腔室，兩腔室中位于轉(zhuǎn)鼓上部的為均質(zhì)室，位于轉(zhuǎn)鼓下部的為沉淀室；沉淀室中心設(shè)置有一個(gè)側(cè)壁上設(shè)有出料孔的緩沖倉；均質(zhì)室的中心設(shè)置有進(jìn)料通道，進(jìn)料通道的上端從轉(zhuǎn)鼓的上端穿出，而進(jìn)料通道的下端延伸到緩沖倉內(nèi)；均質(zhì)室的上端還設(shè)置有與均質(zhì)室連通的出料通道；沉淀室內(nèi)從上至下設(shè)置有多塊錐形碟片，相鄰的錐形碟片之間形成一薄流層；均質(zhì)室內(nèi)從上至下設(shè)置有多塊固定在進(jìn)料通道外壁上的帶齒圓盤，且?guī)X圓盤的外周均勻設(shè)多個(gè)尖齒。本裝置可使沉淀顆粒和破碎顆粒同時(shí)進(jìn)行，從而提高均質(zhì)效率。
【專利說明】
離心均質(zhì)機(jī)用轉(zhuǎn)鼓
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及一種分離裝置，尤其涉及一種離心均質(zhì)機(jī)用轉(zhuǎn)鼓。
【背景技術(shù)】
[0002]葛粉的制作過程包括破碎、初過濾、沉淀、打槳、沉淀、分離、沉淀、脫水等多個(gè)步驟，其中沉淀尤為關(guān)鍵，沉淀主要為了能分離出最細(xì)小的葛粉顆粒，使沖粉時(shí)，葛粉能完全分散到水中，增強(qiáng)口感;在沉淀步驟中最重要的一步為均質(zhì)。
[0003]均質(zhì)也稱勻漿，是使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微?；?、均勻化的處理過程，這種處理同時(shí)起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用。但現(xiàn)在的均質(zhì)方法主要為先對混合液進(jìn)行攪拌，使小顆粒均勻分散在水中，然后再沉淀到大顆粒，最后在通過均質(zhì)機(jī)高速攪拌混合液，以破碎掉還未沉降的大顆粒;此方法不僅不再較多，且也較為費(fèi)時(shí)，因此效率不高。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]為了解決上述問題，本實(shí)用新型意在提供一種沉淀顆粒和破碎顆粒為一體的離心均質(zhì)機(jī)用轉(zhuǎn)鼓，以提高均質(zhì)效率。
[0005]本實(shí)用新型的基礎(chǔ)方案離心均質(zhì)機(jī)用轉(zhuǎn)鼓，包括轉(zhuǎn)鼓和轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸與電機(jī)連接，且轉(zhuǎn)軸可帶動所述轉(zhuǎn)鼓轉(zhuǎn)動;所述轉(zhuǎn)鼓內(nèi)設(shè)置有兩個(gè)連通的腔室，兩腔室中位于所述轉(zhuǎn)鼓上部的為均質(zhì)室，位于所述轉(zhuǎn)鼓下部的為沉淀室;所述沉淀室中心還設(shè)置有一個(gè)緩沖倉，緩沖倉的側(cè)壁上設(shè)置有若干連通沉淀室的出料孔;所述均質(zhì)室的中心設(shè)置有進(jìn)料通道，進(jìn)料通道的上端從所述轉(zhuǎn)鼓的上端穿出，而進(jìn)料通道的下端延伸到所述緩沖倉內(nèi)；所述均質(zhì)室的上端還設(shè)置有與均質(zhì)室連通的出料通道;所述沉淀室內(nèi)從上至下設(shè)置有多塊錐形碟片，錐形碟片固定在所述緩沖倉的外壁上，且錐形碟片的大端向下，相鄰的錐形碟片之間形成一狹窄的間隙，此間隙為薄流層;所述均質(zhì)室內(nèi)從上至下設(shè)置有多塊帶齒圓盤，帶齒圓盤固定在所述進(jìn)料通道的外壁上，且?guī)X圓盤的外周均勻設(shè)多個(gè)尖齒。
[0006]在本方案中，待均質(zhì)的液體從進(jìn)料通道進(jìn)入到緩沖倉中，而出料通道供乳化液流出。
[0007]本方案的離心均質(zhì)機(jī)用轉(zhuǎn)鼓的工作原理為，轉(zhuǎn)軸帶動轉(zhuǎn)鼓高速轉(zhuǎn)動，所以從進(jìn)入通道進(jìn)入緩沖倉中的待均質(zhì)液體將在離心力的作用下向四周分散，并從出料孔中進(jìn)入到沉淀室中；由于轉(zhuǎn)鼓高速主動，所以待均質(zhì)的液體將沖擊轉(zhuǎn)鼓的內(nèi)壁和錐形碟片的下表面，使沉淀室中的壓力增大，因此待均質(zhì)的液體將順著薄流層向均質(zhì)室流動；由于薄流程為很窄的間隙，所以帶均質(zhì)的液體受到的擾動將較小，從而使得帶均質(zhì)的液體向均質(zhì)室流動時(shí)類似于流動平穩(wěn)的層流，因此利于一些大顆粒的沉淀，再者由于薄流層的間隙較小，因此沉降距離較短，所以沉降速度快，且薄流層將待均質(zhì)的液體多層分隔，從而增大了沉降面積，因此沉降效率較快。當(dāng)待均質(zhì)的液體進(jìn)入到均質(zhì)室后，帶齒圓盤的尖齒可破碎一些大顆粒，從而將大顆粒細(xì)化，使其分散在水中形成乳液;在離心力的作用下，乳液從出料通道中流出。
[0008]通過上述可知，本轉(zhuǎn)鼓不僅具有沉降將功能，同時(shí)也具有破碎顆粒的作用，且由于沉降距離小，沉降面積大，所以沉降效率塊;另外破碎與沉降同時(shí)進(jìn)行，進(jìn)一步的提高了效率。
[0009]優(yōu)選方案一，作為對基礎(chǔ)方案的進(jìn)一步優(yōu)化，所述錐形碟片共設(shè)置有十片;錐形碟片的數(shù)量過少，則沉降效率不高，而錐形碟片的數(shù)量過多，則沉淀室將會被延長，因此處于沉淀室下方的待均質(zhì)的液體將無法進(jìn)入到均質(zhì)室中，所以雖然增加了錐形碟片的數(shù)量，其效率也不會提高；因此將錐形碟片設(shè)置為十片，即可使沉降效率達(dá)到最佳。
[0010]優(yōu)選方案二，作為對基礎(chǔ)方案的進(jìn)一步優(yōu)化，所述帶齒圓盤外周的尖齒共設(shè)置有12個(gè)，且所述尖齒的前端為流線型，背面為平直狀;尖刺的前端設(shè)置為流線型可以減小尖齒對液體的沖擊，因此可以減少亂流，使待均質(zhì)的液體流動平穩(wěn)，以達(dá)到進(jìn)一步沉降的效果；而尖齒的數(shù)量設(shè)置過少，則破碎效果不佳，而尖齒數(shù)量過多同樣會增強(qiáng)亂流，因此將尖齒設(shè)置為12個(gè)作為優(yōu)選。
[0011 ]優(yōu)選方案三，作為對基礎(chǔ)方案的進(jìn)一步優(yōu)化，所述轉(zhuǎn)軸的轉(zhuǎn)速為6000r/min;轉(zhuǎn)軸的轉(zhuǎn)速過低則待均質(zhì)的液體的流速則太緩慢，使均質(zhì)效率降低，而轉(zhuǎn)速太高則亂流增強(qiáng)，不利于沉降，因此將轉(zhuǎn)軸的轉(zhuǎn)速設(shè)置為6000r/min作為優(yōu)選。
[0012]優(yōu)選方案四，作為對基礎(chǔ)方案的進(jìn)一步優(yōu)化，所述轉(zhuǎn)鼓的下端設(shè)置有一安裝孔，所述轉(zhuǎn)軸插裝在所述安裝孔中，且轉(zhuǎn)軸與安裝孔為錐度配合;轉(zhuǎn)鼓與轉(zhuǎn)軸通過錐度配合連接，既能使轉(zhuǎn)軸帶動轉(zhuǎn)鼓轉(zhuǎn)動，同時(shí)有利于轉(zhuǎn)軸與轉(zhuǎn)鼓的拆卸，從而便于取下轉(zhuǎn)鼓進(jìn)行清洗。
【附圖說明】
[0013]圖1為離心均質(zhì)機(jī)用轉(zhuǎn)鼓實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面通過【具體實(shí)施方式】對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明:
[0015]說明書附圖中的附圖標(biāo)記包括:轉(zhuǎn)鼓1、轉(zhuǎn)軸2、沉淀室11、均質(zhì)室12、緩沖倉13、錐形碟片14、帶齒圓盤15、出料通道16、進(jìn)料通道17、出料孔18。
[0016]實(shí)施例基本如附圖1所示:離心均質(zhì)機(jī)用轉(zhuǎn)鼓括轉(zhuǎn)鼓I和轉(zhuǎn)軸2;其中轉(zhuǎn)鼓I內(nèi)部為兩個(gè)連通的腔室，其中位于轉(zhuǎn)鼓I上部的腔室為均質(zhì)室12，轉(zhuǎn)鼓I下部為沉淀室11;沉淀室11中心還設(shè)置有一個(gè)緩沖倉13，緩沖倉13上設(shè)置有若干出料孔18，且出料孔18將沉淀室11和緩沖倉13連通;在均質(zhì)室12的中心設(shè)置有進(jìn)料通道17，進(jìn)料通道17的上端從轉(zhuǎn)鼓I的上端穿出，而進(jìn)料通道17的下端延伸到緩沖倉13內(nèi)；且在均質(zhì)室12的上端還設(shè)置有出料通道16，出料通道16與均質(zhì)室12連通。
[0017]如圖1所示，沉淀室11內(nèi)設(shè)置有十塊錐形碟片14，錐形碟片14固定在緩沖倉13的外壁上，且錐形碟片14的大端向下；各錐形碟片14之間具有一個(gè)較薄的間隙，此間隙為薄流層。在均質(zhì)室12內(nèi)設(shè)置有帶齒圓盤15，帶齒圓盤15固定在進(jìn)料通道17的外壁上，且?guī)X圓盤15共設(shè)置有三片，且在豎直方向上層疊排列；帶齒圓盤15的外周均勻設(shè)置有十二個(gè)尖齒，尖齒對粉粒具有破碎作用。
[0018]如圖1所示，轉(zhuǎn)鼓I的下部設(shè)置有一個(gè)安裝孔，轉(zhuǎn)軸2插裝在安裝孔中，且轉(zhuǎn)軸2與安裝孔為錐度配合，以使轉(zhuǎn)鼓I可與轉(zhuǎn)軸2分離，在本實(shí)施例中，轉(zhuǎn)軸2由電機(jī)驅(qū)動，且轉(zhuǎn)軸2的轉(zhuǎn)速為6000r/min;當(dāng)轉(zhuǎn)軸2轉(zhuǎn)動時(shí)將同時(shí)帶動轉(zhuǎn)鼓I一同轉(zhuǎn)動，此時(shí)使待均質(zhì)的液體從進(jìn)料通道17進(jìn)入到緩沖倉13中，由于轉(zhuǎn)鼓I高速轉(zhuǎn)動，所以待均質(zhì)液體將在離心力的作用下向四周分散，并從出料孔18中進(jìn)入到沉淀室11中，當(dāng)待均質(zhì)的液體作用在轉(zhuǎn)鼓I的內(nèi)壁和錐形碟片14的上時(shí)，將會使沉淀室11中的壓力增大，因此待均質(zhì)的液體將順著薄流層向均質(zhì)室12流動；由于薄流程為很窄的間隙，所以帶均質(zhì)的液體受到的擾動將較小，從而使得帶均質(zhì)的液體向均質(zhì)室12流動時(shí)類似于流動平穩(wěn)的層流，因此利于一些大顆粒的沉淀，再者由于薄流層的間隙較小，因此沉降距離較短，所以沉降速度快，且薄流層將待均質(zhì)的液體多層分隔，從而使增大了沉降面積，因此加快了沉降效率。
[0019]雖然錐形碟片14提高了沉降率，當(dāng)仍有一些顆粒將進(jìn)入到均質(zhì)室12中，但在帶齒圓盤15的尖齒具有破碎顆粒的作用，從而將大顆粒細(xì)化;且為了減小待均質(zhì)液體在均質(zhì)室12中流動時(shí)的湍流，尖齒的前端設(shè)置為流線型，而尖齒的背面則為平直狀，以此尖齒對待均質(zhì)的液體的沖擊將減小，使待均質(zhì)的液體的流動更平穩(wěn)，從而可利于待均質(zhì)的液體中顆粒的進(jìn)一步沉降。
[0020]均質(zhì)室12中的待均質(zhì)液體被進(jìn)一步處理后，將在離心力的作用下從均質(zhì)室12上端出料通道16流出，以此較大顆粒從待均質(zhì)的液體中分離出來，使最終得到的液體中僅溶解有微小顆粒。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種離心均質(zhì)機(jī)用轉(zhuǎn)鼓，包括轉(zhuǎn)鼓和轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸與電機(jī)連接，且轉(zhuǎn)軸可帶動所述轉(zhuǎn)鼓轉(zhuǎn)動;其特征在于，所述轉(zhuǎn)鼓內(nèi)設(shè)置有兩個(gè)連通的腔室，兩腔室中位于所述轉(zhuǎn)鼓上部的為均質(zhì)室，位于所述轉(zhuǎn)鼓下部的為沉淀室;所述沉淀室中心還設(shè)置有一個(gè)緩沖倉，緩沖倉的側(cè)壁上設(shè)置有若干連通沉淀室的出料孔;所述均質(zhì)室的中心設(shè)置有進(jìn)料通道，進(jìn)料通道的上端從所述轉(zhuǎn)鼓的上端穿出，而進(jìn)料通道的下端延伸到所述緩沖倉內(nèi)；所述均質(zhì)室的上端還設(shè)置有與均質(zhì)室連通的出料通道;所述沉淀室內(nèi)從上至下設(shè)置有多塊錐形碟片，錐形碟片固定在所述緩沖倉的外壁上，且錐形碟片的大端向下，相鄰的錐形碟片之間形成一狹窄的間隙，此間隙為薄流層;所述均質(zhì)室內(nèi)從上至下設(shè)置有多塊帶齒圓盤，帶齒圓盤固定在所述進(jìn)料通道的外壁上，且?guī)X圓盤的外周均勻設(shè)多個(gè)尖齒。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離心均質(zhì)機(jī)用轉(zhuǎn)鼓，其特征在于，所述錐形碟片共設(shè)置有十片。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離心均質(zhì)機(jī)用轉(zhuǎn)鼓，其特征在于，所述帶齒圓盤外周的尖齒共設(shè)置有12個(gè)，且所述尖齒的前端為流線型，背面為平直狀。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離心均質(zhì)機(jī)用轉(zhuǎn)鼓，其特征在于，所述轉(zhuǎn)軸的轉(zhuǎn)速為6000r/mino5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離心均質(zhì)機(jī)用轉(zhuǎn)鼓，其特征在于，所述轉(zhuǎn)鼓的下端設(shè)置有一安裝孔，所述轉(zhuǎn)軸插裝在所述安裝孔中，且轉(zhuǎn)軸與安裝孔為錐度配合。
【文檔編號】B01F9/10GK205412842SQ201521060651
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2015年12月20日
【發(fā)明人】李正貴
【申請人】重慶市天星寨粉葛食品有限公司