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      基于s7-200的混合液體控制系統(tǒng)的制作方法

      文檔序號(hào):10779627閱讀:362來源:國知局
      基于s7-200的混合液體控制系統(tǒng)的制作方法
      【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種基于S7?200的混合液體控制系統(tǒng),包括容器、攪拌機(jī)、電磁閥、液位傳感器、入水口、出水口、控制器、流量設(shè)定裝置I、流量設(shè)定裝置II、定時(shí)裝置以及溫控裝置;所述的電磁閥包括電磁閥Y1、電磁閥Y2、電磁閥Y3;所述的液位傳感器包括液面高傳感器L1、液面中位傳感器L2、液面低位傳感器L3;入水口設(shè)置在容器上端;出水口設(shè)置在容器下端,電磁閥Y3設(shè)置在出水口上;攪拌機(jī)設(shè)置在容器底部;液面高位傳感器L1、液面中位傳感器L2、液面低位傳感器L3設(shè)置在容器壁上;加熱器設(shè)置在容器底部,溫度測定裝置設(shè)置在容器壁上,液面低位傳感器L3的下方;流量設(shè)定裝置設(shè)置在入水口。不僅能對加溫液體實(shí)現(xiàn)攪拌,還能實(shí)現(xiàn)攪拌過程的自動(dòng)化。
      【專利說明】
      基于S7-200的混合液體控制系統(tǒng)
      技術(shù)領(lǐng)域
      [0001]本實(shí)用新型涉及一種混合液體控制系統(tǒng),尤其是一種基于S7-200的混合液體控制系統(tǒng)。
      【背景技術(shù)】
      [0002]隨著人力成本的上升,機(jī)械自動(dòng)化逐漸走進(jìn)人們的視野。自動(dòng)化不僅節(jié)約人力成本,還能達(dá)到比人力更精確,生產(chǎn)的產(chǎn)品更加穩(wěn)定的效果?,F(xiàn)有的攪拌系統(tǒng)多采用半自動(dòng)化,由人力親自操作程序,十分不便。因此設(shè)計(jì)一種自動(dòng)化混合攪拌系統(tǒng)就變得十分重要。
      【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0003]本實(shí)用新型的目的在于為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,在此提供一種基于S7-200的混合液體控制系統(tǒng),包括容器、攪拌機(jī)、電磁閥、液位傳感器、入水口、出水口、控制器、流量設(shè)定裝置1、流量設(shè)定裝置I1、定時(shí)裝置以及溫控裝置;所述的電磁閥包括電磁閥Yl、電磁閥Y2、電磁閥Y3;所述的液位傳感器包括液面高傳感器L1、液面中位傳感器L2、液面低位傳感器L3;所述的入水口包括入水口 1、入水口 II;所述的溫控裝置包括溫度測定裝置和加熱器;入水口 1、入水口 II設(shè)置在容器上端,電磁閥Yl設(shè)置在入水口 I上,電磁閥Y2設(shè)置在入水口 II上;出水口設(shè)置在容器下端,電磁閥Y3設(shè)置在出水口上;攪拌機(jī)設(shè)置在容器底部;液面高位傳感器L1、液面中位傳感器L2、液面低位傳感器L3設(shè)置在容器壁上;加熱器設(shè)置在容器底部,溫度測定裝置設(shè)置在容器壁上,液面低位傳感器L3的下方;流量設(shè)定裝置I設(shè)置在入水口 I上并與電磁閥Yl相連;流量設(shè)定裝置II設(shè)置在入水口 II上并與電磁閥Y2相連;定時(shí)裝置與控制器相連。
      [0004]作為本方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述的控制器采用PLC控制器,機(jī)型為S7-200。
      [0005]作為本方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述的電磁閥Yl與電磁閥Y2、電磁閥Y3以及攪拌機(jī)構(gòu)成輸出設(shè)備。
      [0006]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:編程方法簡單易學(xué);功能強(qiáng),性能價(jià)格比高;硬件配套齊全,用戶使用方便,適應(yīng)性強(qiáng);可靠性高,抗干擾能力強(qiáng);系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、安裝、調(diào)試工作量少,維修工作量小,體積小、能耗低。還能攪拌加工需要升溫的液體,自動(dòng)化程度高。
      【附圖說明】
      [0007]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)不意圖。
      [0008]圖2是本實(shí)用新型的聯(lián)系圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0009]下面將結(jié)合附圖1-2對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明,對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
      [0010]本實(shí)用新型涉及一種基于S7-200的混合液體控制系統(tǒng),可以按照圖1-2所示予以實(shí)施;包括容器1、攪拌機(jī)2、電磁閥3、液位傳感器4、入水口 5、出水口 6、控制器、流量設(shè)定裝置1、流量設(shè)定裝置I1、定時(shí)裝置以及溫控裝置;所述的電磁閥3包括電磁閥Y1、電磁閥Y2、電磁閥Y3;所述的液位傳感器4包括液面高傳感器L1、液面中位傳感器L2、液面低位傳感器L3;所述的入水口 5包括入水口 1、入水口 II;所述的溫控裝置包括溫度測定裝置和加熱器7;入水口 1、入水口 II設(shè)置在容器I上端,電磁閥Yl設(shè)置在入水口 I上,電磁閥Y2設(shè)置在入水口 II上;出水口6設(shè)置在容器I下端,電磁閥Y3設(shè)置在出水口6上;攪拌機(jī)2設(shè)置在容器I底部;液面高位傳感器L1、液面中位傳感器L2、液面低位傳感器L3設(shè)置在容器I壁上;加熱器7設(shè)置在容器底部,溫度測定裝置設(shè)置在容器I壁上,液面低位傳感器L3的下方;流量設(shè)定裝置I設(shè)置在入水口 I上并與電磁閥Yl相連;流量設(shè)定裝置II設(shè)置在入水口 II上并與電磁閥Y2相連;定時(shí)裝置與控制器相連。所述的控制器采用PLC控制器,機(jī)型為S7-200。所述的輸出設(shè)備包括電磁閥Π、電磁閥Y2、電磁閥Y3以及攪拌機(jī)2。
      [0011]對所公開的實(shí)施例的上述說明,使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本實(shí)用新型。對這些實(shí)施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的,本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實(shí)用新型的精神或范圍的情況下,在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此,本實(shí)用新型將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例,而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種基于S7-200的混合液體控制系統(tǒng),其特征在于:包括容器(I)、攪拌機(jī)(2)、電磁閥(3 )、液位傳感器(4)、入水口( 5 )、出水口( 6 )、控制器、流量設(shè)定裝置1、流量設(shè)定裝置11、定時(shí)裝置以及溫控裝置;所述的電磁閥(3)包括電磁閥Y1、電磁閥Y2、電磁閥Y3;所述的液位傳感器(4)包括液面高傳感器L1、液面中位傳感器L2、液面低位傳感器L3;所述的入水口( 5 )包括入水口 1、入水口 II;所述的溫控裝置包括溫度測定裝置和加熱器(7);入水口 1、入水口11設(shè)置在容器(I)上端,電磁閥Yl設(shè)置在入水口 I上,電磁閥Y2設(shè)置在入水口 II上;出水口(6)設(shè)置在容器(I)下端,電磁閥Y3設(shè)置在出水口(6)上;攪拌機(jī)(2)設(shè)置在容器(I)底部;液面高位傳感器L1、液面中位傳感器L2、液面低位傳感器L3設(shè)置在容器(I)壁上;加熱器(7)設(shè)置在容器底部,溫度測定裝置設(shè)置在容器(I)壁上,液面低位傳感器L3的下方;流量設(shè)定裝置I設(shè)置在入水口 I上并與電磁閥YI相連;流量設(shè)定裝置II設(shè)置在入水口 II上并與電磁閥Y2相連;定時(shí)裝置與控制器相連。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于S7-200的混合液體控制系統(tǒng),其特征在于:所述的控制器采用PLC控制器,機(jī)型為S7-200。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于S7-200的混合液體控制系統(tǒng),其特征在于:所述的電磁閥Π與電磁閥Y 2、電磁閥Y 3以及攪拌機(jī)(2 )構(gòu)成輸出設(shè)備。
      【文檔編號(hào)】B01F15/00GK205461930SQ201620180804
      【公開日】2016年8月17日
      【申請日】2016年3月10日
      【發(fā)明人】李 榮
      【申請人】四川信息職業(yè)技術(shù)學(xué)院, 李 榮
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