納米噴霧發(fā)生器的制造方法
【專利摘要】一種納米噴霧發(fā)生器，包括一發(fā)生器本體，一芯腔設置在發(fā)生器本體中，發(fā)生器本體上的進液路徑和噴霧路徑分別與芯腔相通，一旋芯配置在芯腔中液體的流動方向上，旋芯包括第一受力面和與第一受力面錯位設置的第二受力面，第一受力面所在的平面和第二受力面所在的平面成預設角度，液體作用在第一受力面或者第二受力面上使旋芯旋轉。本實用新型中的旋芯包括第一受力面和第二受力面，第一受力面和第二受力面錯位設置，當液體作用在其中一個受力面上時，就會產(chǎn)生一個力使旋芯轉動，同時旋芯就會對液體進行循環(huán)切割，并將液體切割成納米級霧滴，具有霧滴體積小、噴霧濃密、流量大、噴霧空間分布的指向性好、空間分布廣彌散性好和空氣凈化效率高等優(yōu)點。
【專利說明】
納米噴霧發(fā)生器
技術領域
[0001]本實用新型涉及一種噴霧裝置，尤其是涉及一種納米噴霧發(fā)生器。
【背景技術】
[0002]噴霧裝置指的是能夠排出液體的精細霧氣的裝置，這種裝置在本領域中通常還被稱為潤濕器、噴灑器、霧氣裝置、加濕器等等。噴霧裝置可以被用在農(nóng)業(yè)、工業(yè)和家庭生活中，在農(nóng)業(yè)中噴霧裝置主要被用于噴灑農(nóng)藥，在家庭生活中噴霧裝置主要用于空氣加濕，在工業(yè)中噴霧裝置主要被用于除去工業(yè)廢氣中的有害氣體和固體顆粒。由于許多噴霧場合，特別是在排放工業(yè)廢氣的場所，對噴霧要求很高，既要求噴霧裝置噴出霧滴要達到細霧化，又要求噴霧濃密、流量大、且要求噴霧空間分布的指向性好或空間分布廣彌散性好。但是現(xiàn)有的噴霧裝置不能滿足上述噴霧要求，不僅存在噴出的霧滴的顆粒體積大，而且還存在濃度稀、流量小和空間分布廣彌散性差，不能有效地除去工業(yè)廢氣中的有害氣體和固體顆粒，空氣凈化效率低。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]為了克服上述問題，本實用新型向社會提供一種霧滴體積小、噴霧濃密、流量大、噴霧空間分布的指向性好、空間分布廣彌散性好和空氣凈化效率高的納米噴霧發(fā)生器。
[0004]本實用新型的技術方案是:提供一種納米噴霧發(fā)生器，包括一發(fā)生器本體，一芯腔設置在所述發(fā)生器本體中，所述發(fā)生器本體上的進液路徑和噴霧路徑分別與所述芯腔相通，一旋芯配置在所述芯腔中液體的流動方向上，所述旋芯包括第一受力面和與所述第一受力面錯位設置的第二受力面，所述第一受力面所在的平面和所述第二受力面所在的平面成預設角度，液體作用在所述第一受力面或者所述第二受力面上使所述旋芯旋轉。
[0005]作為對本實用新型的改進，所述第一受力面設置在第一旋轉切割結構上，所述第二受力面設置在第二旋轉切割結構上，所述第一旋轉切割結構和所述第二旋轉切割結構連接，所述旋芯旋轉時，所述第一旋轉切割結構和所述第二旋轉切割結構對液體進行交替切割。
[0006]作為對本實用新型的改進，所述第一旋轉切割結構與所述第二旋轉切割結構交叉錯位設置。
[0007]作為對本實用新型的改進，所述第一旋轉切割結構與所述第二旋轉切割結構在交叉位置上連接。
[0008]作為對本實用新型的改進，還包括加強筋，在所述旋芯靠近所述噴霧路徑的位置上，所述加強筋分別與所述第一旋轉切割結構和所述第二旋轉切割結構連接。
[0009]作為對本實用新型的改進，在所述第一旋轉切割結構或/和所述第二旋轉切割結構上設置有第一霧化缺口。
[0010]作為對本實用新型的改進，所述芯腔的內(nèi)側壁成圓柱狀，所述第一旋轉切割結構和所述第二旋轉切割結構靠近所述內(nèi)側壁的面為圓弧面，所述旋芯旋轉時的橫截面的直徑等于小于所述芯腔的內(nèi)側壁的直徑。
[0011]作為對本實用新型的改進，所述預設角度的范圍在大于O度小于180度之間。
[0012]作為對本實用新型的改進，所述發(fā)生器本體包括噴霧座和與所述噴霧座連接的噴霧蓋，所述進液路徑設置在所述噴霧座上，所述噴霧路徑設置在所述噴霧蓋上。
[0013]作為對本實用新型的改進，所述芯腔設置在所述噴霧座或/和所述噴霧蓋中。
[0014]本實用新型中的旋芯包括第一受力面和第二受力面，第一受力面和第二受力面錯位設置，并且它們所在的平面成預設角度，這樣設計的好處是，當液體作用在其中一個受力面上時，就會產(chǎn)生一個力使旋芯轉動，從而使液體在作用在另一個受力面上，旋芯就會持續(xù)旋轉，同時旋芯就會對液體進行循環(huán)切割，并將液體切割成納米級霧滴，具有霧滴體積小、噴霧濃密、流量大、噴霧空間分布的指向性好、空間分布廣彌散性好和空氣凈化效率高等優(yōu)點。
【附圖說明】
[0015]圖1是本實用新型的平面結構示意圖。
[0016]圖2是圖1中噴霧座的剖視示意圖。
[0017]圖3是圖1中噴霧蓋的剖視示意圖。
[0018]圖4是圖1中噴霧蓋的立體結構示意圖。
[0019]圖5是旋芯設置在噴霧蓋的立體結構示意圖。
[0020]圖6是圖5中旋芯的平面結構示意圖。
[0021 ]圖7是圖5中旋芯的立體結構示意圖。
[0022]其中:1.噴霧座；11.進液路徑;2.噴霧蓋;21.芯腔;22.噴霧路徑;23.凸環(huán)結構;3.旋芯；31.第一旋轉切割結構；311.第一受力面;32.第二旋轉切割結構；321.第二受力面；
33.第一霧化缺口； 34.第二霧化缺口； 35.加強筋。
【具體實施方式】
[0023]在本實用新型的描述中，需要理解的是，術語中“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本實用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本實用新型的限制。此外，術語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性。
[0024]在本實用新型的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術語“安裝”、“連接”、“相連”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是拆卸連接，或一體地連接;可以是機械連接，也可以是電連接;可以是直接相連，也可以是通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi)部的連通。對于本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本實用新型的具體含義。此外，在本實用新型的描述中，除非另有說明，“多個”、“若干”的含義是兩個或兩個以上。
[0025]請參見圖1至圖7，圖1至圖7所揭示的是一種納米噴霧發(fā)生器，包括一發(fā)生器本體，一芯腔21設置在所述發(fā)生器本體中，所述發(fā)生器本體上的進液路徑11和噴霧路徑22分別與所述芯腔21相通，一旋芯3配置在所述芯腔21中液體的流動方向上，所述旋芯3包括第一受力面311和與所述第一受力面311錯位設置的第二受力面321，所述第一受力面311所在的平面和所述第二受力面321所在的平面成預設角度，液體作用在所述第一受力面311或者所述第二受力面321上使所述旋芯3旋轉。
[0026]本實施例中，所述第一受力面311設置在第一旋轉切割結構31上，所述第二受力面321設置在第二旋轉切割結構32上，所述第一旋轉切割結構31和所述第二旋轉切割結構32連接，所述旋芯3旋轉時，所述第一旋轉切割結構31和所述第二旋轉切割結構32對液體進行交替切割。換句話說，所述旋芯3包括第一旋轉切割結構31和與所述第一旋轉切割結構31連接的第二旋轉切割結構32，所述第一受力面311設置在所述第一旋轉切割結構31上，所述第二受力面321設置在所述第二旋轉切割結構32上。
[0027]本實施例中，所述第一旋轉切割結構31和所述第二旋轉切割結構32錯位連接并成所述預設角度，這樣設計的好處是，當從所述進液路徑11流入的液體作用在所述第一受力面311或者所述第二受力面321上，由于液體具有一定的壓力，壓力就會在所述第一旋轉切割結構31或所述第二旋轉切割結構32上產(chǎn)生一個分力，產(chǎn)生的分力就會使所述第一旋轉切割結構31或所述第二旋轉切割結構32做圓周運動，由于所述第一旋轉切割結構31和所述第二旋轉切割結構32連接，這樣所述第一旋轉切割結構31和所述第二旋轉切割結構32就會一起做圓周運動，即使所述旋芯3旋轉，圓周運動的中軸就是所述旋芯3的旋轉中軸。
[0028]具體地說，當所述第一旋轉切割結構31位于液體的流動方向上，液體使所述第一旋轉切割結構31旋轉，在所述第二旋轉切割結構32旋轉到位于液體的流動方向上，液體就使所述第二旋轉切割結構32旋轉，液體就會交替作用在所述第一旋轉切割結構31和所述第二旋轉切割結構32上，使所述旋芯3—直保持旋轉。所述第一旋轉切割結構31和所述第二旋轉切割結構32就會對液體進行交替切割，這樣就會將液體切割成納米級霧滴。
[0029]本實施例中，所述第一旋轉切割結構31與所述第二旋轉切割結構32交叉錯位設置，所述第一旋轉切割結構31與所述第二旋轉切割結構32在交叉位置上連接，從側面觀察時，所述第一旋轉切割結構31與所述第二旋轉切割結構32成“X”形狀。為了使所述第一旋轉切割結構31與所述第二旋轉切割結構32的連接更加穩(wěn)定，還包括加強筋35，在所述旋芯3靠近所述噴霧路徑22的位置上，所述加強筋35分別與所述第一旋轉切割結構31和所述第二旋轉切割結構32連接。
[0030]本實施例中，所述第一旋轉切割結構31與所述第二旋轉切割結構32的連接方式可以是:所述第一旋轉切割結構31的端部與所述第二旋轉切割結構32的端部錯位連接(未畫圖)，從側面觀察時，所述第一旋轉切割結構31與所述第二旋轉切割結構32成“V”形狀。所述第一旋轉切割結構31與所述第二旋轉切割結構32的連接方式還可以是:所述第一旋轉切割結構31的端部與所述第二旋轉切割結構32遠離端部的位置錯位連接(未畫圖)，或者所述第二旋轉切割結構32的端部與所述第一旋轉切割結構31遠離端部的位置錯位連接(未畫圖)，從側面觀察時，所述第一旋轉切割結構31與所述第二旋轉切割結構32成Y’形狀。
[0031]本實施例中，在所述第一旋轉切割結構31或/和所述第二旋轉切割結構32上設置有第一霧化缺口 33，所述第一霧化缺口 33設置在所述第一旋轉切割結構31和所述第二旋轉切割結構32相互靠近的位置上，即所述第一霧化缺口 33設置在靠近所述第一旋轉切割結構31和所述第二旋轉切割結構32交叉連接的位置上。所述第一霧化缺口 33的作用是，使被切割后的霧狀更快地從所述旋芯3穿過，增加了所述噴霧路徑22的噴霧效率。
[0032]本實施例中，還包括第二霧化缺口34，所述第二霧化缺口 34設置在所述第一旋轉切割結構31或/和所述第二旋轉切割結構32上，并且所述第二霧化缺口 34設置在靠近所述芯腔21的內(nèi)側壁的位置上，所述第二霧化缺口34和所述第一霧化缺口33的作用相同，都是為了增加所述噴霧路徑22的噴霧效率。
[0033]本實施例中，所述芯腔21的內(nèi)側壁成圓柱狀，所述第一旋轉切割結構31和所述第二旋轉切割結構32靠近所述內(nèi)側壁的面為圓弧面，所述旋芯3旋轉時的橫截面的直徑等于小于所述芯腔21的內(nèi)側壁的直徑，這樣就使得所述旋芯3能更加方便地在所述芯腔21中旋轉。
[0034]本實施例中，在所述第一受力面311和/或所述第二受力面321為凹凸不平的面(未畫圖)，即在所述第一受力面311和/或所述第二受力面321上設置有若干凸起。還包括液體栗，所述液體栗與所述進液路徑11連通。所述預設角度的范圍在大于O度小于180度之間，所述預設角度的值越大，需要液體的壓力也就越大。
[0035]本實施例中，所述發(fā)生器本體包括噴霧座I和與所述噴霧座I連接的噴霧蓋2，所述進液路徑11設置在所述噴霧座I上，所述噴霧路徑22設置在所述噴霧蓋2上。本實施例中，所述進液路徑11的進口尺寸大于所述進液路徑11的出口尺寸，所述進液路徑11的出口與所述芯腔21相通。所述噴霧路徑22的進口尺寸大于所述噴霧路徑22的出口尺寸，即所述噴霧路徑22成錐形，所述噴霧路徑22的進口與所述芯腔21相通，所述噴霧路徑22的出口與外界相通。所述芯腔21的尺寸大于所述進液路徑11的出口尺寸，所述芯腔21的尺寸大于所述噴霧路徑22的進口尺寸。
[0036]本實施例中，所述噴霧蓋2的連接端為凸環(huán)結構23，在所述噴霧座I上設置有凹陷部，所述凸環(huán)結構23卡合在所述凹陷部中，所述芯腔21設置在所述凸環(huán)結構23的內(nèi)部，即所述芯腔21設置在所述噴霧蓋2中，所述芯腔21還可以設置在所述噴霧座I中?；蛘咚鲂厩?1還可以設置在所述噴霧座I和所述噴霧蓋2中，即所述芯腔21的一部分位于所述噴霧座I中，所述芯腔21的另一部分位于所述噴霧蓋2中。關于所述噴霧座I和所述噴霧蓋2的連接方式并不局限于本實施例中所列舉的卡合連接，所述噴霧座I和所述噴霧蓋2的連接方式還可以是螺紋連接或者其他連接方式，在這里不再一一例舉，只要能使所述噴霧座I和所述噴霧蓋2連接都屬于本實用新型保護范圍。
[0037]本實施例中，所述旋芯3和所述芯腔21的內(nèi)側壁都是采用耐磨材料制成的，即所述噴霧座I和/或所述噴霧蓋2采用耐磨材料制成，所述噴霧座I和所述噴霧蓋2密封連接。
[0038]本實用新型中的所述旋芯3包括所述第一受力面311和所述第二受力面321，所述第一受力面311和所述第二受力面321錯位設置，并且它們所在的平面成預設角度，這樣設計的好處是，當液體作用在其中一個受力面上時，就會產(chǎn)生一個力使所述旋芯3轉動，從而使液體在作用在另一個受力面上，所述旋芯3就會持續(xù)旋轉，同時所述旋芯3就會對液體進行循環(huán)切割，并將液體切割成納米級霧滴，具有霧滴體積小、噴霧濃密、流量大、噴霧空間分布的指向性好、空間分布廣彌散性好和空氣凈化效率高等優(yōu)點。
【主權項】
1.一種納米噴霧發(fā)生器，包括一發(fā)生器本體，一芯腔設置在所述發(fā)生器本體中，所述發(fā)生器本體上的進液路徑和噴霧路徑分別與所述芯腔相通，一旋芯配置在所述芯腔中液體的流動方向上，其特征在于:所述旋芯包括第一受力面和與所述第一受力面錯位設置的第二受力面，所述第一受力面所在的平面和所述第二受力面所在的平面成預設角度，液體作用在所述第一受力面或者所述第二受力面上使所述旋芯旋轉。2.根據(jù)權利要求1所述的納米噴霧發(fā)生器，其特征在于:所述第一受力面設置在第一旋轉切割結構上，所述第二受力面設置在第二旋轉切割結構上，所述第一旋轉切割結構和所述第二旋轉切割結構連接，所述旋芯旋轉時，所述第一旋轉切割結構和所述第二旋轉切割結構對液體進行交替切割。3.根據(jù)權利要求2所述的納米噴霧發(fā)生器，其特征在于:所述第一旋轉切割結構與所述第二旋轉切割結構交叉錯位設置。4.根據(jù)權利要求3所述的納米噴霧發(fā)生器，其特征在于:所述第一旋轉切割結構與所述第二旋轉切割結構在交叉位置上連接。5.根據(jù)權利要求3所述的納米噴霧發(fā)生器，其特征在于:還包括加強筋，在所述旋芯靠近所述噴霧路徑的位置上，所述加強筋分別與所述第一旋轉切割結構和所述第二旋轉切割結構連接。6.根據(jù)權利要求2所述的納米噴霧發(fā)生器，其特征在于:在所述第一旋轉切割結構或/和所述第二旋轉切割結構上設置有第一霧化缺口。7.根據(jù)權利要求2所述的納米噴霧發(fā)生器，其特征在于:所述芯腔的內(nèi)側壁成圓柱狀，所述第一旋轉切割結構和所述第二旋轉切割結構靠近所述內(nèi)側壁的面為圓弧面，所述旋芯旋轉時的橫截面的直徑等于小于所述芯腔的內(nèi)側壁的直徑。8.根據(jù)權利要求1或2所述的納米噴霧發(fā)生器，其特征在于:所述預設角度的范圍在大于O度小于180度之間。9.根據(jù)權利要求1或2所述的納米噴霧發(fā)生器，其特征在于:所述發(fā)生器本體包括噴霧座和與所述噴霧座連接的噴霧蓋，所述進液路徑設置在所述噴霧座上，所述噴霧路徑設置在所述噴霧蓋上。10.根據(jù)權利要求9所述的納米噴霧發(fā)生器，其特征在于:所述芯腔設置在所述噴霧座或/和所述噴霧蓋中。
【文檔編號】B05B1/02GK205599356SQ201620248923
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年3月29日
【發(fā)明人】陳鐵堅
【申請人】陳鐵堅