立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)，所述立式粉磨設(shè)備內(nèi)部包含有用于對粉末進行篩選的風(fēng)道，其設(shè)置于磨盤機構(gòu)四周；所述立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)包括有盤體，盤體的上端部設(shè)置有在水平方向延伸的襯板，襯板的邊部設(shè)置有垂直于襯板延伸的擋料圈；所述襯板的邊部設(shè)置有多個導(dǎo)通至風(fēng)道之中的導(dǎo)料孔；采用上述技術(shù)方案的立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)，其可在物料于襯板之上進行粉磨過程中，使得粉末在磨輥等粉磨部件作用下移動至襯板邊部時，粉末可通過上述導(dǎo)料孔直接導(dǎo)入至風(fēng)道內(nèi)以進行氣流篩選處理，從而有效避免了粉末在襯板之上的停留時間過久而可能導(dǎo)致的過粉磨現(xiàn)象。
【專利說明】
立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及一種機械加工設(shè)備，尤其是一種立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]立式粉磨設(shè)備廣泛應(yīng)用于水泥、電力、冶金、化工、非金屬礦等相關(guān)行業(yè)，其集破碎、干燥、粉磨、分級輸送于一體，可將塊狀、顆粒狀及粉狀原料磨成所要求的粉狀物料?，F(xiàn)有的立式粉磨設(shè)備在工作過程中，其將物料導(dǎo)通至磨盤機構(gòu)之中，通過磨輥等粉磨部件對物料進行粉磨處理;受粉磨處理而成為粉末的物料隨磨輥的進一步工作運動至磨盤機構(gòu)的邊部，當(dāng)其堆積至足夠高度時則溢出至風(fēng)道之中；風(fēng)道內(nèi)產(chǎn)生的高速氣流帶動粉末上升至出料端口，而未符合要求的粗粉則墜入至立式粉磨設(shè)備底部以進行再粉磨處理。
[0003]上述磨盤機構(gòu)在實際工作過程中，其往往需要在磨盤機構(gòu)的邊部設(shè)置格擋以確保料層的穩(wěn)定性，然而，上述格擋的設(shè)置極易導(dǎo)致粉磨在格擋處堆積過高，致使粉末在磨盤機構(gòu)之上停留時間過長，導(dǎo)致磨輥對其進行再粉磨處理。再粉磨現(xiàn)象不僅會導(dǎo)致立式粉磨設(shè)備的工作效率受到嚴重影響，同時其會使得磨輥與磨盤機構(gòu)之間的摩擦力上升，致使相關(guān)部件的損耗程度以及能耗均得以增加。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]本實用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)，其可避免經(jīng)過粉磨處理的粉末在磨盤機構(gòu)中停留時間過久，致使其出現(xiàn)過粉磨現(xiàn)象。
[0005]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型涉及一種立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)，所述立式粉磨設(shè)備內(nèi)部包含有用于對粉末進行篩選的風(fēng)道，其設(shè)置于磨盤機構(gòu)四周;所述立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)包括有盤體，盤體的上端部設(shè)置有在水平方向延伸的襯板，襯板的邊部設(shè)置有垂直于襯板延伸的擋料圈；所述襯板的邊部設(shè)置有多個導(dǎo)通至風(fēng)道之中的導(dǎo)料孔。
[0006]作為本實用新型的一種改進，所述襯板之中，每一個導(dǎo)料孔于襯板之中的端部均采用弓形結(jié)構(gòu)。采用上述技術(shù)方案，其采用弓形結(jié)構(gòu)的導(dǎo)料孔使得粉末可實時導(dǎo)入導(dǎo)料孔內(nèi)部的同時，實現(xiàn)對于粉末導(dǎo)入的效率進行控制，以避免粉末移動至襯板邊緣即經(jīng)由導(dǎo)料孔導(dǎo)出，致使料層的穩(wěn)定性受到影響。
[0007]作為本實用新型的一種改進，每一個導(dǎo)料孔均包括有第一孔段與第二孔段，其中，第一孔段連接至襯板的端面之上，第二孔段連接至盤體的端面之上;所述第二孔段的直徑在其與第一孔段的連接端向盤體的端面的延伸方向上逐漸增加。采用上述技術(shù)方案，其可通過第二孔段的漸開設(shè)置，以避免粉末進入導(dǎo)料孔內(nèi)部發(fā)生堵塞，進而影響相關(guān)部件的正常運作。
[0008]作為本實用新型的一種改進，所述襯板的邊部設(shè)置有在襯板的軸心向其邊部延伸方向上高度逐漸降低的第一導(dǎo)向面，以及在襯板的軸心向其邊部延伸方向上高度逐漸升高的第二導(dǎo)向面，第二導(dǎo)向面設(shè)置于第一導(dǎo)向面與擋料板之間。采用上述技術(shù)方案，其可使得粉末在立式粉磨設(shè)備中磨輥機構(gòu)的作用下逐漸朝向襯板邊部運動時，其可通過第一導(dǎo)向面的設(shè)置而使得粉末自然下滑，致使粉末在擋料板對應(yīng)位置的聚集效率得以改善，以避免粉末出現(xiàn)過粉磨現(xiàn)象;與此同時，粉末在聚集時可沿第二導(dǎo)向面迅速堆積至擋料板的邊部以實現(xiàn)溢出，致使粉末在襯板之上的停留時間得以進一步的控制。
[0009]采用上述技術(shù)方案的立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)，其可在物料于襯板之上進行粉磨過程中，使得粉末在磨輥等粉磨部件作用下移動至襯板邊部時，粉末可通過上述導(dǎo)料孔直接導(dǎo)入至風(fēng)道內(nèi)以進行氣流篩選處理，從而有效避免了粉末在襯板之上的停留時間過久而可能導(dǎo)致的過粉磨現(xiàn)象，進而使得立式粉磨設(shè)備的生產(chǎn)效率，以及相關(guān)部件的能耗及使用壽命均得以改善。
【附圖說明】
[00?0]圖1為本實用新型不意圖；
[0011]附圖標記列表:
[0012]I一風(fēng)道、2—盤體、3—襯板、4一擋料圈、5—導(dǎo)料孔、51 —第一孔段、52—第二孔段、6—第一導(dǎo)向面、7—第二導(dǎo)向面。
【具體實施方式】
[0013]下面結(jié)合【具體實施方式】，進一步闡明本實用新型，應(yīng)理解下述【具體實施方式】僅用于說明本實用新型而不用于限制本實用新型的范圍。需要說明的是，下面描述中使用的詞語“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附圖中的方向，詞語“內(nèi)”和“外”分別指的是朝向或遠離特定部件幾何中心的方向。
[0014]實施例1
[0015]如圖1所示的一種立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)，所述立式粉磨設(shè)備內(nèi)部包含有用于對粉末進行篩選的風(fēng)道I，其設(shè)置于磨盤機構(gòu)四周;所述立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)包括盤體2，盤體2的上端部設(shè)置有在水平方向延伸的襯板3，襯板3的邊部設(shè)置有垂直于襯板3延伸的擋料圈4;所述襯板3的邊部設(shè)置有多個導(dǎo)通至風(fēng)道I之中的導(dǎo)料孔5。
[0016]采用上述技術(shù)方案的立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)，其可在物料于襯板之上進行粉磨過程中，使得粉末在磨輥等粉磨部件作用下移動至襯板邊部時，粉末可通過上述導(dǎo)料孔直接導(dǎo)入至風(fēng)道內(nèi)以進行氣流篩選處理，從而有效避免了粉末在襯板之上的停留時間過久而可能導(dǎo)致的過粉磨現(xiàn)象，進而使得立式粉磨設(shè)備的生產(chǎn)效率，以及相關(guān)部件的能耗及使用壽命均得以改善。
[0017]實施例2
[0018]作為本實用新型的一種改進，所述襯板3之中，每一個導(dǎo)料孔5于襯板3之中的端部均采用弓形結(jié)構(gòu)。采用上述技術(shù)方案，其采用弓形結(jié)構(gòu)的導(dǎo)料孔使得粉末可實時導(dǎo)入導(dǎo)料孔內(nèi)部的同時，實現(xiàn)對于粉末導(dǎo)入的效率進行控制，以避免粉末移動至襯板邊緣即經(jīng)由導(dǎo)料孔導(dǎo)出，致使料層的穩(wěn)定性受到影響。
[0019]本申請其余特征與優(yōu)點均與實施例1相同。
[0020]實施例3
[0021]作為本實用新型的一種改進，每一個導(dǎo)料孔5均包括有第一孔段51與第二孔段52，其中，第一孔段51連接至襯板3的端面之上，第二孔段52連接至盤體2的端面之上;所述第二孔段52的直徑在其與第一孔段51的連接端向盤體2的端面的延伸方向上逐漸增加。采用上述技術(shù)方案，其可通過第二孔段的漸開設(shè)置，以避免粉末進入導(dǎo)料孔內(nèi)部發(fā)生堵塞，進而影響相關(guān)部件的正常運作。
[0022]本申請其余特征與優(yōu)點均與實施例2相同。
[0023]實施例4
[0024]作為本實用新型的一種改進，所述襯板3的邊部設(shè)置有在襯板3的軸心向其邊部延伸方向上高度逐漸降低的第一導(dǎo)向面6，以及在襯板3的軸心向其邊部延伸方向上高度逐漸升高的第二導(dǎo)向面7，第二導(dǎo)向面7設(shè)置于第一導(dǎo)向面6與擋料板4之間。采用上述技術(shù)方案，其可使得粉末在立式粉磨設(shè)備中磨輥機構(gòu)的作用下逐漸朝向襯板邊部運動時，其可通過第一導(dǎo)向面的設(shè)置而使得粉末自然下滑，致使粉末在擋料板對應(yīng)位置的聚集效率得以改善，以避免粉末出現(xiàn)過粉磨現(xiàn)象;與此同時，粉末在聚集時可沿第二導(dǎo)向面迅速堆積至擋料板的邊部以實現(xiàn)溢出，致使粉末在襯板之上的停留時間得以進一步的控制。
[0025]本申請其余特征與優(yōu)點均與實施例3相同。
【主權(quán)項】
1.一種立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)，所述立式粉磨設(shè)備內(nèi)部包含有用于對粉末進行篩選的風(fēng)道，其設(shè)置于磨盤機構(gòu)四周;其特征在于，所述立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)包括有盤體，盤體的上端部設(shè)置有在水平方向延伸的襯板，襯板的邊部設(shè)置有垂直于襯板延伸的擋料圈;所述襯板的邊部設(shè)置有多個導(dǎo)通至風(fēng)道之中的導(dǎo)料孔。2.按照權(quán)利要求1所述的立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)，其特征在于，所述襯板之中，每一個導(dǎo)料孔于襯板之中的端部均采用弓形結(jié)構(gòu)。3.按照權(quán)利要求1或2所述的立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)，其特征在于，每一個導(dǎo)料孔均包括有第一孔段與第二孔段，其中，第一孔段連接至襯板的端面之上，第二孔段連接至盤體的端面之上;所述第二孔段的直徑在其與第一孔段的連接端向盤體的端面的延伸方向上逐漸增加。4.按照權(quán)利要求3所述的立式粉磨設(shè)備中的磨盤機構(gòu)，其特征在于，所述襯板的邊部設(shè)置有在襯板的軸心向其邊部延伸方向上高度逐漸降低的第一導(dǎo)向面，以及在襯板的軸心向其邊部延伸方向上高度逐漸升高的第二導(dǎo)向面，第二導(dǎo)向面設(shè)置于第一導(dǎo)向面與擋料板之間。
【文檔編號】B02C15/00GK205628154SQ201620378867
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年4月30日
【發(fā)明人】徐春亮, 袁志洲, 胡凡, 胡一凡
【申請人】南京中材水泥備件有限公司