一種用于氣化爐的導(dǎo)氣管及氣化爐的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種用于氣化爐的導(dǎo)氣管和氣化爐，其中所述氣化爐包括反應(yīng)室、激冷室以及導(dǎo)氣管，所述導(dǎo)氣管包括上開口、下開口以及側(cè)壁；所述側(cè)壁包括翅片和螺旋狀的盤管，所述翅片設(shè)置在所述盤管的螺旋間隙處并且與所述螺旋間隙兩側(cè)的盤管固定連接；所述盤管外壁靠近上開口的一端設(shè)有上入水口，在所述盤管外壁靠近下開口的一端設(shè)有下入水口；所述盤管內(nèi)壁上設(shè)有多個(gè)開孔。由于本實(shí)用新型的導(dǎo)氣管同時(shí)通過上入水口和下入水口注水，因此在所述內(nèi)腔中始終充滿流動(dòng)的水，可以有效防止所述導(dǎo)氣管燒損；另外，通過所述開孔噴出的水在導(dǎo)氣管中的物質(zhì)進(jìn)行降溫的同時(shí)還可以起到洗滌、除塵的作用，有利于后續(xù)粗煤氣的洗滌凈化。
【專利說明】一種用于氣化爐的導(dǎo)氣管及氣化爐
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及煤氣化領(lǐng)域，更涉及一種用于氣化爐的導(dǎo)氣管及氣化爐。
【背景技術(shù)】
[0002]大規(guī)模氣流床煤氣化技術(shù)成為當(dāng)今煤氣化技術(shù)的主流，其中干煤粉氣化技術(shù)由于煤種適應(yīng)性寬，有效產(chǎn)氣率高以及比氧耗低等優(yōu)點(diǎn)，獲得了越來越多的應(yīng)用，而GSP氣化爐(西門子公司)是采用干煤粉加壓氣流床技術(shù)的典型代表，具有廣泛的應(yīng)用前景。
[0003]氣化爐包括進(jìn)行反應(yīng)的反應(yīng)室和對來自反應(yīng)室的物料進(jìn)行激冷的激冷室，并且在反應(yīng)室的出口設(shè)有通入激冷室的導(dǎo)氣管。所述導(dǎo)氣管的作用一是引導(dǎo)煤氣化反應(yīng)產(chǎn)生的氣流和熔渣，更好的保護(hù)氣化爐筒體不被高溫氣體燒損；二是控制氣體流速，減少氣體帶灰，提高碳轉(zhuǎn)化率。
[0004]現(xiàn)有的導(dǎo)氣管的側(cè)壁內(nèi)設(shè)有冷卻水盤管，通過燒嘴冷卻水系統(tǒng)的循環(huán)冷卻水進(jìn)行冷卻。在燒嘴冷卻水系統(tǒng)中，循環(huán)冷卻水除了冷卻導(dǎo)氣管以外，同時(shí)還對燒嘴和燃燒室支撐進(jìn)行冷卻。
[0005]然而，在實(shí)際運(yùn)行中，氣化爐內(nèi)的導(dǎo)氣管仍然容易燒損，并且導(dǎo)氣管燒損后，很可能導(dǎo)致燒嘴冷卻水系統(tǒng)運(yùn)行不穩(wěn)定，使得燒嘴冷卻水系統(tǒng)補(bǔ)水不及時(shí)，不能對燒嘴起到很好的保護(hù)作用，導(dǎo)致氣化爐聯(lián)鎖跳車或?qū)е職饣癄t燒嘴燒損。而且在導(dǎo)氣管局部燒損后，高溫氣體通過導(dǎo)氣管孔洞對氣化爐筒體沖刷，致使氣化爐筒體變薄，嚴(yán)重時(shí)可導(dǎo)致筒體撕裂。
[0006]此外，在導(dǎo)氣管內(nèi)的冷卻水盤管中，循環(huán)冷卻水的流動(dòng)方式為低進(jìn)高出，若導(dǎo)氣管燒損使其壁內(nèi)的冷卻水出現(xiàn)漏點(diǎn)，則冷卻水不能實(shí)現(xiàn)有效循環(huán)而直接漏入氣化爐內(nèi)，使導(dǎo)氣管上段無法獲得保護(hù)，致使導(dǎo)氣管大面積燒損，同時(shí)氣化爐下渣口積渣，系統(tǒng)壓力波動(dòng)、停車。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0007]本實(shí)用新型的目的在于提供一種用于氣化爐的導(dǎo)氣管以及氣化爐，以解決氣化爐內(nèi)的導(dǎo)氣管容易燒損的問題，維持氣化爐的長周期運(yùn)行。
[0008]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:
[0009]一種用于氣化爐的導(dǎo)氣管，包括用于連接至氣化爐的反應(yīng)室出口的上開口、用于伸入氣化爐的激冷室的下開口以及側(cè)壁；其中，所述側(cè)壁包括翅片和螺旋狀的盤管，所述翅片設(shè)置在所述盤管的螺旋間隙處并且與所述螺旋間隙兩側(cè)的盤管固定連接，以使在所述側(cè)壁內(nèi)側(cè)的物料不會(huì)穿過所述側(cè)壁到達(dá)所述側(cè)壁的外側(cè)；所述盤管外壁靠近上開口的一端設(shè)有上入水口，在所述盤管外壁靠近下開口的一端設(shè)有下入水口 ；所述盤管內(nèi)壁上設(shè)有多個(gè)開孔，用于排出由上入水口和下入水口引入的水。
[0010]根據(jù)本實(shí)用新型的導(dǎo)氣管，優(yōu)選地，所述開孔設(shè)置在所述盤管內(nèi)壁的下部。進(jìn)一步優(yōu)選地，所述開孔設(shè)置在所述側(cè)壁的下部。
[0011 ] 根據(jù)本實(shí)用新型的導(dǎo)氣管，優(yōu)選地，所述開孔的孔徑為4-12mm，所述開孔的數(shù)目為8-20個(gè)，繞所述側(cè)壁的周向均勻分布；進(jìn)一步優(yōu)選地，所述開孔的孔徑為5-10mm，所述開孔的數(shù)目為10-15個(gè)。
[0012]本實(shí)用新型提供的氣化爐包括進(jìn)行反應(yīng)的反應(yīng)室、對來自反應(yīng)室的物料進(jìn)行激冷的激冷室以及如上所述的導(dǎo)氣管，所述導(dǎo)氣管設(shè)置于所述反應(yīng)室與所述激冷室之間，用于將來自所述反應(yīng)室的物料導(dǎo)入所述激冷室。
[0013]與現(xiàn)有技術(shù)相比，采用本實(shí)用新型的導(dǎo)氣管，由于同時(shí)通過上入水口和下入水口注水，因此在所述內(nèi)腔中始終充滿流動(dòng)的水，可以有效防止所述導(dǎo)氣管燒損，保證氣化爐的安全、穩(wěn)定運(yùn)行；另外，通過所述開孔噴出的水在導(dǎo)氣管中的物質(zhì)進(jìn)行降溫的同時(shí)還可以起到洗滌、除塵的作用，有利于后續(xù)粗煤氣的洗滌凈化。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0014]圖1為本實(shí)用新型提供的用于氣化爐的導(dǎo)氣管的示意圖；
[0015]圖2為圖1的導(dǎo)氣管的剖面示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖進(jìn)一步詳細(xì)說明本實(shí)用新型所提供，但本實(shí)用新型并不因此而受到任何限制。
[0017]氣化爐包括進(jìn)行反應(yīng)的反應(yīng)室和對來自反應(yīng)室的物料進(jìn)行激冷的激冷室，并且在反應(yīng)室的出口設(shè)有通入激冷室的導(dǎo)氣管。
[0018]參見圖1和圖2，所述導(dǎo)氣管包括用于連接至氣化爐的反應(yīng)室出口的上開口 1、用于伸入氣化爐的激冷室的下開口 2以及側(cè)壁3。其中，所述側(cè)壁3進(jìn)一步包括螺旋狀盤管4和翅片5，所述翅片5設(shè)置在所述盤管4的螺旋間隙處并且與所述螺旋間隙兩側(cè)的盤管4固定連接，以便在所述側(cè)壁3內(nèi)側(cè)的物料不會(huì)穿過所述側(cè)壁3到達(dá)所述側(cè)壁3的外側(cè)。這樣，所述側(cè)壁3在所述上開口 I和下開口 2之間從上至下交替地出現(xiàn)固定連接的盤管4和翅片5。
[0019]所述盤管外壁41是指所述側(cè)壁3外側(cè)的盤管壁，所述盤管內(nèi)壁42是指所述側(cè)壁3內(nèi)側(cè)的盤管壁。
[0020]所述盤管外壁41靠近上開口 I的一端設(shè)有上入水口 43，所述上入水口 43與所述盤管4的管腔45連通，以便將水注入所述盤管4內(nèi)；在所述盤管外壁41靠近下開口 2的一端設(shè)有下入水口 44，所述下入水口 44與所述盤管4的管腔45連通，以便將水注入所述盤管4內(nèi)。
[0021]在所述盤管內(nèi)壁42上設(shè)有多個(gè)均勻分布的開孔46，以便在氣化爐運(yùn)行時(shí)，排出由上入水口 43和下入水口 44引入的水，并且將所述盤管4內(nèi)的水噴入導(dǎo)氣管內(nèi)，對導(dǎo)氣管內(nèi)的物質(zhì)噴淋降溫。
[0022]當(dāng)通過上入水口 43和下入水口 44注入的水量一定時(shí)，開孔46的大小、數(shù)量和位置均會(huì)對導(dǎo)氣管內(nèi)物質(zhì)的噴淋降溫產(chǎn)生影響。優(yōu)選地，所述開孔46設(shè)置在所述盤管內(nèi)壁42的下部，以便從所述盤管4中噴出的水的方向是傾斜向下的，在洗滌冷卻導(dǎo)氣管內(nèi)下行的物質(zhì)的同時(shí)，減少對下行物質(zhì)的阻力。在氣化爐的實(shí)際運(yùn)行中，由于激冷室中設(shè)置的激冷水會(huì)噴淋到所述側(cè)壁3的上部，為所述側(cè)壁3的上部提供一定的保護(hù)，因此，進(jìn)一步優(yōu)選地，所述開孔46設(shè)置在所述側(cè)壁3的下部，以更好地對所述側(cè)壁3的下部進(jìn)行保護(hù)。
[0023]在本實(shí)用新型中所述開孔46的孔徑優(yōu)選為4_12mm，數(shù)目為8_20個(gè)，繞所述側(cè)壁的周向分布；進(jìn)一步優(yōu)選為5-10_，數(shù)目為10-15個(gè)；所述開孔的，以提供更優(yōu)的噴淋效果。
[0024]采用本實(shí)用新型的導(dǎo)氣管，在氣化爐運(yùn)行時(shí)，來自反應(yīng)室的物料穿過導(dǎo)氣管的上開口 I和下開口 2進(jìn)入到激冷室中。冷卻水通過上入水口 43和下入水口 44同時(shí)通入所述導(dǎo)氣管的盤管4中，并且通過所述盤管內(nèi)壁42上的開孔46噴入導(dǎo)氣管內(nèi)。由于同時(shí)通過上入水口 43和下入水口 44注水，因此在所述盤管4中始終充滿流動(dòng)的水，可以有效防止所述導(dǎo)氣管燒損。另外，通過所述開孔46噴出的水在對導(dǎo)氣管中的物質(zhì)進(jìn)行降溫的同時(shí)還可以起到洗滌、除塵的作用，有利于后續(xù)粗煤氣的洗滌凈化。
[0025]上述實(shí)施例僅供說明本實(shí)用新型之用，而不是對本實(shí)用新型的限制。應(yīng)當(dāng)注意的是，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍的前提下，還可以做出各種變化和變形，因此所用等同的技術(shù)方案也應(yīng)屬于本實(shí)用新型的范疇，本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍應(yīng)該由各權(quán)利要求限定。
【權(quán)利要求】
1.一種用于氣化爐的導(dǎo)氣管，包括用于連接至氣化爐的反應(yīng)室出口的上開口、用于伸入氣化爐的激冷室的下開口以及側(cè)壁；其特征在于，所述側(cè)壁包括翅片和螺旋狀的盤管，所述翅片設(shè)置在所述盤管的螺旋間隙處并且與所述螺旋間隙兩側(cè)的盤管固定連接，以使在所述側(cè)壁內(nèi)側(cè)的物料不會(huì)穿過所述側(cè)壁到達(dá)所述側(cè)壁的外側(cè)；所述盤管外壁靠近上開口的一端設(shè)有上入水口，在所述盤管外壁靠近下開口的一端設(shè)有下入水口 ；所述盤管內(nèi)壁上設(shè)有多個(gè)開孔，用于排出由上入水口和下入水口引入的水。
2.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)氣管，其特征在于，所述開孔設(shè)置在所述盤管內(nèi)壁的下部。
3.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)氣管，其特征在于，所述開孔設(shè)置在所述側(cè)壁的下部。
4.如權(quán)利要求3所述的導(dǎo)氣管，其特征在于，所述開孔的孔徑為4-12mm，所述開孔的數(shù)目為8-20個(gè)，繞所述側(cè)壁的周向均勻分布。
5.如權(quán)利要求4所述的導(dǎo)氣管，其特征在于，所述開孔的孔徑為5-10mm，所述開孔的數(shù)目為10-15個(gè)。
6.一種氣化爐，包括進(jìn)行反應(yīng)的反應(yīng)室、對來自反應(yīng)室的物料進(jìn)行激冷的激冷室以及如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的導(dǎo)氣管，所述導(dǎo)氣管設(shè)置于所述反應(yīng)室與所述激冷室之間，用于將來自所述反應(yīng)室的物料導(dǎo)入所述激冷室。
【文檔編號(hào)】C10J3/84GK203530255SQ201320573197
【公開日】2014年4月9日 申請日期:2013年9月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月16日
【發(fā)明者】乃國星, 楊建榮, 姜永, 白海, 田彥俊, 趙凱 申請人:神華集團(tuán)有限責(zé)任公司, 神華寧夏煤業(yè)集團(tuán)有限責(zé)任公司