本發(fā)明涉及固廢處理領(lǐng)域,具體涉及用于氣化爐的濃度控制裝置、方法、存儲(chǔ)介質(zhì)及設(shè)備。
背景技術(shù):
1、破碎后的固體廢棄物進(jìn)入氣化爐燃燒氣化,氣化過(guò)程中多頭風(fēng)嘴通過(guò)不斷吹出熱風(fēng)形成具有一定高度的流化床,是進(jìn)入氣化爐的固廢顆粒懸浮并不斷翻滾實(shí)現(xiàn)氣化,氣化過(guò)程中一部分固廢顆粒形成煙氣從上部的合成氣出口排出至固氣分離器,固氣分離器將固廢顆粒與煙氣分離,煙氣進(jìn)入熔融爐,較小的固廢顆粒返回至氣化爐,較大的固廢顆粒直接排出;一部分固廢顆粒形成灰渣隨機(jī)掉落至排渣口并排出氣化爐。
2、由于現(xiàn)有氣化爐中灰渣隨機(jī)掉落排渣的效率過(guò)低,容易導(dǎo)致氣化爐內(nèi)的灰渣濃度越來(lái)越高,使得固廢分離器的負(fù)荷過(guò)重,分離效率降低;并且氣化爐內(nèi)的灰渣濃度過(guò)高容易導(dǎo)致多頭風(fēng)帽和排渣口堵塞。多頭風(fēng)帽以及排渣口均設(shè)置在氣化爐內(nèi),若發(fā)生堵塞需要進(jìn)行疏通,但是結(jié)合氣化爐的爐內(nèi)溫度過(guò)高,疏通的操作難度較大。
3、針對(duì)以上問(wèn)題,目前若采取氣化爐停機(jī)疏通的方式,容易造成氣化效率降低,能源浪費(fèi)的問(wèn)題;若將排渣口設(shè)置過(guò)大,則會(huì)影響多頭風(fēng)帽的分布,導(dǎo)致中間區(qū)域無(wú)法吹風(fēng),未處理的固廢顆粒直接從排渣口泄露。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、基于此,本發(fā)明提供一種用于氣化爐的濃度控制裝置、方法、存儲(chǔ)介質(zhì)及設(shè)備,通過(guò)對(duì)氣化爐的排渣管結(jié)構(gòu)改進(jìn),擴(kuò)大灰渣掉落的接收面積,并且進(jìn)一步通過(guò)多頭風(fēng)帽位置的調(diào)整改變流化床的狀態(tài),使更多小顆?;以軌虻袈渲僚旁?,提高排渣效率并且降低氣化爐內(nèi)灰渣濃度,提高氣化爐的氣化效率。
2、第一方面,一種用于氣化爐的濃度控制裝置,所述濃度控制裝置包括排渣管、風(fēng)嘴平臺(tái)和多頭風(fēng)帽,所述排渣管設(shè)置在所述風(fēng)嘴平臺(tái)中央,所述風(fēng)嘴平臺(tái)上方設(shè)置有多頭風(fēng)帽,其中:
3、所述排渣管包括排渣內(nèi)管和排渣外管,所述排渣內(nèi)管與驅(qū)動(dòng)裝置連接;
4、所述排渣內(nèi)管頂部設(shè)置至少一個(gè)葉片,所述葉片底端與排渣內(nèi)管活動(dòng)連接;
5、所述排渣外管包括固定外管和浮動(dòng)外管,所述浮動(dòng)外管上部設(shè)置有第一內(nèi)環(huán)突起和第一外環(huán)突起;
6、所述排渣內(nèi)管中部設(shè)置有第二外環(huán)突起,所述第二外環(huán)突起與浮動(dòng)外管第一內(nèi)環(huán)突起的部分橫截面重合。
7、進(jìn)一步的,所述風(fēng)嘴平臺(tái)包括固定平臺(tái)和頂升平臺(tái),所述頂升平臺(tái)的外端口與固定平臺(tái)鉸接,所述頂升平臺(tái)的內(nèi)端口與排渣管鉸接;
8、所述頂升平臺(tái)包括多片扇形浮動(dòng)葉,相鄰扇形浮動(dòng)葉之間設(shè)有第一重疊區(qū)域。
9、進(jìn)一步的,所述用于氣化爐的濃度控制裝置還包括:所述葉片上端背部設(shè)置有配重塊。
10、進(jìn)一步的,所述葉片位于初始狀態(tài)時(shí),所述排渣內(nèi)管的第二外環(huán)突起與浮動(dòng)外管的第一內(nèi)環(huán)突起之間存在相對(duì)距離,所述相對(duì)距離的長(zhǎng)度為葉片的長(zhǎng)度。
11、進(jìn)一步的,所述用于氣化爐的濃度控制裝置還包括灰渣濃度監(jiān)測(cè)器,所述灰渣濃度監(jiān)測(cè)器與驅(qū)動(dòng)裝置電連接。
12、第二方面,本發(fā)明還提供一種用于氣化爐的濃度控制方法,所述濃度控制方法應(yīng)用于第一方面所述的用于氣化爐的濃度控制裝置,所述濃度控制方法包括:
13、獲取氣化爐的實(shí)時(shí)灰渣濃度;
14、若所述實(shí)時(shí)灰渣濃度高于第一閾值,向所述驅(qū)動(dòng)裝置發(fā)送向上驅(qū)動(dòng)信號(hào)引導(dǎo)所述排渣內(nèi)管向上運(yùn)動(dòng)第一高度;
15、當(dāng)所述排渣內(nèi)管的第二外環(huán)突起與浮動(dòng)外管的第一內(nèi)環(huán)突起接觸時(shí),所述葉片向外展開(kāi)。
16、進(jìn)一步的,所述濃度控制方法還包括:
17、當(dāng)所述排渣內(nèi)管的第二外環(huán)突起與浮動(dòng)外管的第一內(nèi)環(huán)突起接觸后,所述排渣內(nèi)管與浮動(dòng)外管同步向上運(yùn)動(dòng)第二高度,同時(shí)頂升平臺(tái)的內(nèi)端隨著浮動(dòng)外管同步向上運(yùn)動(dòng)第二高度,頂升平臺(tái)的內(nèi)端高度大于頂升平臺(tái)的外端高度。
18、進(jìn)一步的,所述濃度控制方法還包括:
19、當(dāng)所述氣化爐的實(shí)時(shí)灰渣濃度低于第一閾值,向所述驅(qū)動(dòng)裝置發(fā)送向下驅(qū)動(dòng)信號(hào)引導(dǎo)所述排渣內(nèi)管向下運(yùn)動(dòng)。
20、第三方面,本申請(qǐng)還提供一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,其特征在于,所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)第二方面中任一項(xiàng)用于氣化爐的濃度控制方法的步驟。
21、第四方面,本發(fā)明還提供一種計(jì)算機(jī)設(shè)備,包括存儲(chǔ)器和處理器,所述存儲(chǔ)器存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,其特征在于,所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí),執(zhí)行第二方面中任一項(xiàng)用于氣化爐的濃度控制方法。
22、采用上述技術(shù)方案的有益效果為:本發(fā)明通過(guò)排渣管內(nèi)管、外管以及葉片的設(shè)置擴(kuò)大排渣管接收灰渣的面積,提高灰渣掉落的效率。進(jìn)一步的,通過(guò)排渣管的上升帶動(dòng)頂升平臺(tái)形成錐斗結(jié)構(gòu),使頂升平臺(tái)的多頭風(fēng)帽形成的流化床的氣流方向發(fā)生改變,從而更多灰渣能夠掉落至排渣管的接收面積,進(jìn)一步提高灰渣掉落的效率,從而降低氣化爐內(nèi)灰渣濃度,提高氣化爐對(duì)固廢顆粒的氣化效率。
1.一種用于氣化爐的濃度控制裝置,所述濃度控制裝置包括排渣管、風(fēng)嘴平臺(tái)和多頭風(fēng)帽,所述排渣管設(shè)置在所述風(fēng)嘴平臺(tái)中央,所述風(fēng)嘴平臺(tái)上方設(shè)置有多頭風(fēng)帽,其特征在于,包括:
2.如權(quán)利要求1所述的用于氣化爐的濃度控制裝置,其特征在于,還包括:
3.如權(quán)利要求1所述的用于氣化爐的濃度控制裝置,其特征在于,還包括:
4.如權(quán)利要求2所述的用于氣化爐的濃度控制裝置,其特征在于,所述葉片位于初始狀態(tài)時(shí),所述排渣內(nèi)管的第二外環(huán)突起與浮動(dòng)外管的第一內(nèi)環(huán)突起之間存在相對(duì)距離,所述相對(duì)距離的長(zhǎng)度為葉片的長(zhǎng)度。
5.如權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的用于氣化爐的濃度控制裝置,其特征在于,還包括灰渣濃度監(jiān)測(cè)器,所述灰渣濃度監(jiān)測(cè)器與驅(qū)動(dòng)裝置電連接。
6.一種用于氣化爐的濃度控制方法,所述濃度控制方法應(yīng)用于如權(quán)利要求5所述的用于氣化爐的濃度控制裝置,其特征在于,所述濃度控制方法包括:
7.如權(quán)利要求6所述的用于氣化爐的濃度控制方法,其特征在于,還包括:
8.如權(quán)利要求6或7所述的用于氣化爐的濃度控制方法,其特征在于,還包括:
9.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,其特征在于,所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求6-8中任一項(xiàng)用于氣化爐的濃度控制方法的步驟。
10.一種計(jì)算機(jī)設(shè)備,包括存儲(chǔ)器和處理器,所述存儲(chǔ)器存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,其特征在于,所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí),執(zhí)行權(quán)利要求6-8中任一項(xiàng)用于氣化爐的濃度控制方法。