專利名稱：排氣凈化系統(tǒng)和借助反應(yīng)物進(jìn)行排氣凈化的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于凈化發(fā)動(dòng)機(jī)排氣流的系統(tǒng)和方法，其中向排氣凈化元件的流出側(cè)噴射反應(yīng)物(反應(yīng)劑)。
背景技術(shù)：
對(duì)于現(xiàn)今常見的用于發(fā)動(dòng)機(jī)、特別是柴油發(fā)動(dòng)機(jī)的排氣凈化系統(tǒng)，在排氣管路中設(shè)有排氣凈化元件，這些元件在正常工作時(shí)至少需要間歇性地被供給反應(yīng)物。所述元件特別是包括SCR催化(轉(zhuǎn)化)器，為該SCR催化器輸入游離或結(jié)合形式的氨作為還原劑、例如尿素溶液，從而選擇性地還原氮氧化物。此外，這種元件還包括氧化催化式排氣凈化元件， 為該元件輸入碳?xì)浠衔?燃料)作為反應(yīng)物以加熱排氣。在顆粒過(guò)濾器的炭黑熱再生時(shí)或者為氮氧化物存儲(chǔ)催化器的硫再生而加熱排氣流。為了非常好地進(jìn)行排氣凈化，希望在排氣管路的截面中盡可能精細(xì)地霧化且盡可能均勻地分布反應(yīng)物。通過(guò)沿著與排氣流動(dòng)相反的方向添加反應(yīng)物，由于反應(yīng)物相對(duì)于排氣流的較高的相對(duì)速度實(shí)現(xiàn)反應(yīng)物更精細(xì)且更好的分布。這種效果附加地通過(guò)將反應(yīng)物沖到排氣凈化元件的流出側(cè)來(lái)支持，因?yàn)榉磻?yīng)物的沖擊液滴能另外被霧化或從該元件的表面直接氣化(蒸發(fā))到排氣流中。

發(fā)明內(nèi)容
因此本發(fā)明的目的是至少部分地解決與現(xiàn)有技術(shù)相關(guān)的所述問(wèn)題，特別是提出系統(tǒng)和方法，通過(guò)其能使反應(yīng)物在排氣流中盡可能均勻地分布，以便改善反應(yīng)物的氣化。所述目的通過(guò)具有權(quán)利要求1的特征的裝置以及根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)。本發(fā)明的其它有利的設(shè)計(jì)方案在從屬權(quán)利要求中給出。需要指出的是，從屬權(quán)利要求中單獨(dú)給出的特征可用任何技術(shù)上有意義的方式彼此組合并得出本發(fā)明的另外的實(shí)施方式。另外，在說(shuō)明書中對(duì)權(quán)利要求中給出的特征進(jìn)行了更詳細(xì)的描述和解釋，說(shuō)明書中提出了本發(fā)明的另外的優(yōu)選實(shí)施方式。在此，所述目的通過(guò)一種用于凈化發(fā)動(dòng)機(jī)的排氣流的系統(tǒng)來(lái)實(shí)現(xiàn)，所述系統(tǒng)至少具有一排氣管路，在所述排氣管路中設(shè)有一用于排氣凈化的元件，所述元件具有第一端側(cè)和第二端側(cè)，其中排氣流能從第一端側(cè)向第二端側(cè)地流過(guò)所述元件，在所述元件下游設(shè)有一用于將反應(yīng)物添加到排氣流中的添加單元，其中所述添加單元與所述元件的第二端側(cè)間隔一至多30mm的距離，使得被輸入的反應(yīng)物的至少一部分到達(dá)所述元件的第二端側(cè)。用于排氣凈化的元件特別是理解成催化劑載體，該催化劑載體包括(特別是在中間層(Washcoat)中的)催化活性覆層，該覆層用于轉(zhuǎn)化反應(yīng)物和/或排氣的至少一種組分。替代地或附加地，該元件還可以具有顆粒過(guò)濾器或顆粒捕集器的功能，以便降低排氣流中的顆粒濃度。在此不僅可以涉及具有多個(gè)交替封閉的通道的封閉式顆粒過(guò)濾器，而且可以涉及所謂的旁流式過(guò)濾器，其中借助內(nèi)部構(gòu)造將一部分排氣引入多孔介質(zhì)中。催化劑載體和顆粒過(guò)濾器特別是都能設(shè)計(jì)成蜂窩體的形式，其中陶瓷體和/或金屬體設(shè)計(jì)成具有多個(gè)能被流過(guò)的空腔。此外除至少部分具有一定結(jié)構(gòu)的金屬薄板外，金屬蜂窩體還可以具有由細(xì)絲網(wǎng)O^einstdraehten)(非織造織物)制成的層。該元件具有第一端側(cè)，該第一端側(cè)在系統(tǒng)運(yùn)行時(shí)面對(duì)排氣流，從而排氣通過(guò)排氣管路經(jīng)第一端側(cè)流入元件中，通過(guò)該元件被引向元件的第二端側(cè)。在流過(guò)該元件后，尤其實(shí)現(xiàn)排氣流在排氣管路的橫截面上的均化，這種均化至少在該元件下游的短區(qū)域內(nèi)繼續(xù)，然后，此前特別是在蜂窩體中至少部分地彼此分開的各個(gè)流又在排氣管路中匯合。僅在元件流出側(cè)緊鄰元件第二端側(cè)的層流區(qū)域?qū)崿F(xiàn)了所引入反應(yīng)物的可復(fù)現(xiàn)、可調(diào)節(jié)的分布。這是由于，在該層流區(qū)域中幾乎不會(huì)出現(xiàn)排氣流的紊流，該紊流會(huì)引起所引入的反應(yīng)物的渦漩進(jìn)而出現(xiàn)排氣流相對(duì)速度的局部波動(dòng)。在層流區(qū)域外，以不均勻的、因而不能預(yù)先確定的方式影響所輸入的反應(yīng)物的流動(dòng)性能，并且由于排氣流的紊流而以不確定的方式使反應(yīng)物轉(zhuǎn)向。出于這個(gè)原因，添加單元與該元件的第二端側(cè)間隔至多30mm的距離、特別是至多 20mm的距離、優(yōu)選至多15mm的距離。在此，該距離定義為添加單元或噴嘴口沿主流動(dòng)方向與元件的第二端側(cè)的最遠(yuǎn)點(diǎn)的距離。通過(guò)添加單元的這種特定的設(shè)計(jì)方案使反應(yīng)物進(jìn)入排氣管路，該添加單元例如可具有持續(xù)打開的噴嘴或調(diào)節(jié)閥，其中能夠?qū)ｉT根據(jù)此處的應(yīng)用情況使噴嘴能匹配于盡可能恒定的流動(dòng)條件，從而在所出現(xiàn)的運(yùn)行條件下實(shí)現(xiàn)反應(yīng)物與元件的所希望的均勻接觸。特別是還能實(shí)現(xiàn)，沒有(顯著)量的所添加的反應(yīng)物被噴到第二端側(cè)外或(幾乎)全部量都到達(dá)第二端側(cè)。優(yōu)選地，在機(jī)動(dòng)車中特別是在系統(tǒng)的所有運(yùn)行條件下，到達(dá)(第二端側(cè))的反應(yīng)物份額為添加量的90%以上、甚至96%以上。根據(jù)另一有利實(shí)施方案，第二端側(cè)設(shè)計(jì)成球面，特別是設(shè)計(jì)成凹球面，從而通過(guò)與球面形第二端側(cè)對(duì)置的添加單元使反應(yīng)物能夠均勻地分布在第二端側(cè)的面上。在此，特別是該元件的第二端側(cè)的球面設(shè)計(jì)指向添加單元的布置結(jié)構(gòu)。根據(jù)另一有利實(shí)施方案，第二端側(cè)相對(duì)于排氣管路設(shè)計(jì)成傾斜的，其中該傾斜布置特別是相對(duì)于添加單元設(shè)置成，使得所輸入的反應(yīng)物能均勻地分布在第二端側(cè)的面上。 該元件的第二端側(cè)的這種傾斜布置在制造技術(shù)方面能簡(jiǎn)單實(shí)施，因此是優(yōu)選使用的。根據(jù)該系統(tǒng)的一改進(jìn)方案，添加單元設(shè)置在排氣管路直徑外，特別是設(shè)置在排氣管路的不(直接)被流過(guò)的局部區(qū)域中。該局部區(qū)域例如可以設(shè)計(jì)成錐形殼體，該殼體設(shè)置在排氣管路的周面上，其中所述錐體朝向排氣管路敞開并且添加單元設(shè)置在錐體的另一端部上。特別是，可附加地通過(guò)遮蔽板為該添加單元至少部分地遮避排氣流。通過(guò)這樣地將添加單元布置在排氣流之外一方面實(shí)現(xiàn)了，添加單元不被排氣流中所含的顆粒污染，由此至少部分不會(huì)被阻塞；另一方面，能在局部區(qū)域中均勻地形成反應(yīng)物的噴射錐體，該噴射錐體被引入排氣流的層流區(qū)域。根據(jù)一種有利的實(shí)施方案，所述添加單元布置成與排氣管路成一定角度，從而能逆排氣流引入反應(yīng)物并且使至少一部分待輸入的反應(yīng)物到達(dá)第二端側(cè)。此外有利地提出一種系統(tǒng)，其中該元件在第二端側(cè)上具有接納直徑大于200 μ m 的反應(yīng)物液滴的能力。特別是在添加具有大于200 μ m(微米)的液滴直徑的反應(yīng)物時(shí)，用于排氣凈化的元件在第二端側(cè)附近應(yīng)局部地具有相應(yīng)的接納能力和/或存儲(chǔ)能力、例如匹配的多孔性。因此，特別是考慮陶瓷載體、相應(yīng)的多孔覆層(中間層)和/或具有多孔的金屬非織造織物的部段。優(yōu)選地，面的接納能力和/或存儲(chǔ)能力在于，其尺寸相當(dāng)于在液滴體積加倍時(shí)的液滴直徑。該理論也可以有利地獨(dú)立于在此描述的系統(tǒng)/方法。本發(fā)明另外涉及的、根據(jù)本發(fā)明的方法用于在發(fā)動(dòng)機(jī)運(yùn)行期間將反應(yīng)物添加到排氣管路中，其中添加單元設(shè)置在用于排氣凈化的元件下游并且在該元件的層流區(qū)域中，將預(yù)定量的反應(yīng)物施加到該元件的第二端側(cè)上。在此，該添加單元不必設(shè)置在該元件的層流區(qū)域內(nèi)，該層流區(qū)域布置成僅存在于排氣管路直徑的范圍內(nèi)且與元件的第二端側(cè)齊平。而該添加單元還可以定位成側(cè)向地與該層流區(qū)域錯(cuò)開，使得添加單元的噴射錐體特別是形成在不(直接)被流過(guò)的局部區(qū)域中并且優(yōu)選僅在該元件的層流區(qū)域中延伸。根據(jù)該方法的一種改進(jìn)方案，利用添加單元的非對(duì)稱設(shè)計(jì)的噴嘴將反應(yīng)物噴到該元件的第二端側(cè)上。非對(duì)稱設(shè)計(jì)的噴嘴產(chǎn)生相應(yīng)的非對(duì)稱的噴射錐體，其中在一垂直于噴射方向的面中存在反應(yīng)物量不同的區(qū)域。由此實(shí)現(xiàn)了，特別是在將添加單元布置在排氣管路直徑外時(shí)，可以將單獨(dú)確定的量的反應(yīng)物提供給第二端側(cè)的不同局部區(qū)域。根據(jù)該方法的另一種有利的改進(jìn)方案，添加單元設(shè)置在排氣管路直徑外，為該第二端側(cè)的至少90%的面施加(反應(yīng)物)。添加單元以下述方式相對(duì)第二端側(cè)設(shè)置，即優(yōu)選第二端側(cè)的整個(gè)面被施加反應(yīng)物。在此，第二端側(cè)的面被定義為通過(guò)元件結(jié)構(gòu)的端點(diǎn)張成的(可能是彎曲的面)。根據(jù)該方法的一種特別有利的改進(jìn)方案，以均勻的面加載為所述元件的第二端側(cè)施加反應(yīng)物。因此尤其是指，該元件的第二端側(cè)的每個(gè)設(shè)置在添加單元的噴射錐體內(nèi)的局部區(qū)域都被施加相同量的反應(yīng)物。反應(yīng)物的這種有利的分布使得反應(yīng)物在排氣流中均勻地轉(zhuǎn)化，從而能最優(yōu)地凈化排氣流。根據(jù)該方法的另一種實(shí)施方式，被添加的反應(yīng)物的至少90%與所述元件的第二端側(cè)的表面接觸。元件的第二端側(cè)的面和元件本身內(nèi)部的表面都定義為元件的表面。通過(guò)使被添加的反應(yīng)物的至少90%與所述元件的第二端側(cè)的表面接觸，實(shí)現(xiàn)了反應(yīng)物在排氣流中盡可能精細(xì)的分布，由此改善了反應(yīng)物的氣化。根據(jù)該方法的一種改進(jìn)方案，被添加到排氣管路中的反應(yīng)物的液滴的尺寸不同。 這例如表明，添加單元的噴嘴特別是能根據(jù)排氣速度和反應(yīng)物輸入速度來(lái)產(chǎn)生不同尺寸的液滴。此外，通過(guò)添加單元的非對(duì)稱設(shè)計(jì)的噴嘴，可在噴射錐體內(nèi)形成尺寸不同的液滴，從而能根據(jù)排氣流流過(guò)元件的流動(dòng)條件、以盡可能相同的面施加將反應(yīng)物引到元件的第二端側(cè)上。從而特別是在添加單元的噴射錐體的區(qū)域中，指向元件的第二端側(cè)的遠(yuǎn)端區(qū)域的液滴大于從添加單元至第二端側(cè)僅需經(jīng)過(guò)較短行程的液滴。特別是應(yīng)當(dāng)根據(jù)排氣速度、添加單元的角度和被輸入的反應(yīng)物的速度來(lái)選擇液滴尺寸。優(yōu)選地，(還/僅)產(chǎn)生具有大于200 μπι(微米)的直徑的液滴，該液滴在排氣速度約為20m/s至25m/s時(shí)還能到達(dá)元件的第二端側(cè)的遠(yuǎn)端區(qū)域。這種方法還可以獨(dú)立于系統(tǒng)和/或方法的前述設(shè)計(jì)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)。在其它情況下也可以使用較小的液滴。根據(jù)另一種實(shí)施方式，最大液滴與最小液滴之比至少為3比1。所產(chǎn)生的最小液滴優(yōu)選被提供給第二端側(cè)的如下的區(qū)域，所述區(qū)域僅與添加單元相距較小距離，而特別是具有至少200 μ m(微米)液滴直徑的最大液滴被提供給第二端側(cè)的遠(yuǎn)端區(qū)域。根據(jù)另一種有利的實(shí)施方式，被添加到排氣管路中的反應(yīng)物的液滴速度不同。在此，到達(dá)該元件的第二端側(cè)的遠(yuǎn)離添加單元的區(qū)域上的液滴應(yīng)具有較高的液滴速度。特別是，各參數(shù)、即液滴尺寸和液滴速度應(yīng)彼此協(xié)調(diào)并且必要時(shí)可以組合。根據(jù)另一種有利的實(shí)施方式，液滴的最高速度與最低速度間的比例至少為3比1。此外有利地可提出，能借助添加單元的添加壓力來(lái)調(diào)節(jié)所述反應(yīng)物的添加。因此， 還可以匹配在反應(yīng)物的輸入管路中的壓力(而不必改變用于噴嘴的(不同的)調(diào)節(jié))。對(duì)此，例如可以由一泵調(diào)節(jié)出輸送壓力，由一壓力調(diào)節(jié)閥在輸入管路中調(diào)節(jié)出適合的、希望的添加壓力，而由一閥將希望量的(液滴、速度)提供給排氣管路。這種方法還可以獨(dú)立于所述系統(tǒng)和/或方法的前述設(shè)計(jì)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)和/或根據(jù)本發(fā)明的方法特別是用在機(jī)動(dòng)車中并且必要時(shí)能彼此組合。優(yōu)選地，該系統(tǒng)或方法涉及液態(tài)尿素水溶液的添加，其中該元件至少在第二端側(cè)的一個(gè)部段上具有水解覆層。


下文將參照附圖更詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明及技術(shù)領(lǐng)域。需要指出的是，附圖詳細(xì)地示出本發(fā)明的特別優(yōu)選的實(shí)施例變型，但是本發(fā)明并不局限于此。在附圖中相同的附圖標(biāo)記用于相同的對(duì)象。其中示意性示出圖1示出在機(jī)動(dòng)車中的系統(tǒng)；圖2示出該系統(tǒng)的第一實(shí)施例；圖3示出在引入反應(yīng)物的時(shí)刻該系統(tǒng)的第一設(shè)計(jì)方案；圖4示出具有球面形的第二端側(cè)的系統(tǒng)的第二設(shè)計(jì)方案；和圖5示出具有傾斜的第二端側(cè)的系統(tǒng)的第三設(shè)計(jì)方案。
具體實(shí)施例方式圖1示出在機(jī)動(dòng)車18中的系統(tǒng)1，其具有發(fā)動(dòng)機(jī)3和被排氣流2流過(guò)的排氣管路 4。在此，在排氣管路4中設(shè)置一元件5，該元件具有設(shè)置在上游的第一端側(cè)6和設(shè)置在下游的第二端側(cè)7，以及設(shè)置在元件5下游的添加單元8。添加單元8通過(guò)輸入管路25與泵23 和儲(chǔ)箱M連接。附加地輸入管路25可以連接一壓力調(diào)節(jié)閥22，從而必要時(shí)可以通過(guò)壓力調(diào)節(jié)閥22而使得通過(guò)在輸入管路25中的泵23提供的輸送壓力降低至一添加壓力。然后在該添加壓力下使反應(yīng)物從輸入管路25進(jìn)入排氣管路4。為此添加單元8設(shè)置有一可調(diào)節(jié)的閥，通過(guò)該閥在希望的時(shí)刻將希望劑量的還原劑輸送到排氣管路4中。圖2示出系統(tǒng)1，該系統(tǒng)具有設(shè)置在排氣管路4中的元件5，其中排氣流2流過(guò)具有第一端側(cè)6的元件5，其中排氣經(jīng)過(guò)第一端側(cè)6朝向第二端側(cè)7流動(dòng)。第二端側(cè)7具有一面15，該面基本上相當(dāng)于排氣管路4的橫截面。在元件5的下游，直至與元件5的第二端側(cè)7相距一距離10處形成一層流區(qū)域12。在系統(tǒng)1工作期間總是存在的層流區(qū)域12內(nèi)， 能夠以可復(fù)現(xiàn)的方式引入反應(yīng)物，從而可實(shí)現(xiàn)反應(yīng)物對(duì)面15的均勻的面加載。用于反應(yīng)物的添加單元8與第二端側(cè)7僅相距一較小的距離10，從而特別是使完全劑量的反應(yīng)物穿過(guò)層流區(qū)域12到達(dá)元件5的第二端側(cè)7。在此，具有噴嘴20的添加單元8設(shè)置在排氣管路4 的局部區(qū)域11內(nèi)，該局部區(qū)域11定位在排氣管路直徑14外，特別是排氣流2不流過(guò)該局部區(qū)域，因此，添加單元8 —方面不被包含于排氣流2中的顆粒污染或損壞，另一方面能實(shí)現(xiàn)可復(fù)現(xiàn)地、可確定地形成噴射錐體。圖3示出在排氣管路4中的元件5，其中排氣流2流過(guò)系統(tǒng)1的元件5，其中排氣流經(jīng)過(guò)第一端側(cè)6流向第二端側(cè)7。設(shè)置在元件5下游的、用于反應(yīng)物9的添加單元8將噴射錐體13噴入排氣管路4中，該噴射錐體13盡可能完全地覆蓋元件5的面15。在此，在噴射錐體13內(nèi)形成液滴17，至少與排氣速度、第二端側(cè)7的壁區(qū)域與添加單元8的距離以及添加單元8的角度19相關(guān)地對(duì)液滴17的尺寸和速度進(jìn)行調(diào)節(jié)。圖4示出系統(tǒng)1連同元件5和第一端側(cè)6，其中設(shè)置有相對(duì)于添加單元8構(gòu)造成球面的第二端側(cè)7，從而使反應(yīng)物9能對(duì)第二端側(cè)7盡可能恒定地面加載。添加單元8的噴射錐體13僅需以較小的程度非對(duì)稱地匹配，以便對(duì)元件5的第二端側(cè)7盡可能均勻地面加載。在此，反應(yīng)物9不僅能到達(dá)第二端側(cè)7的最外邊界，而且還能至少部分地與元件5的表面16接觸，使得利用反應(yīng)物9潤(rùn)濕的表面16大于第二端側(cè)7的端側(cè)面15。距離10被定義為在添加單元8和第二端側(cè)7之間的距離，其中距離10在層流區(qū)域12中沿排氣流2的主流動(dòng)方向測(cè)度。圖5示出系統(tǒng)1的另一特別有利的設(shè)計(jì)方案，其中元件5具有傾斜一傾斜角21的第二端側(cè)7，由此添加單元8的噴射錐體13能對(duì)元件5的面15盡可能恒定地面加載。附圖標(biāo)記列表1系統(tǒng)
2排氣流
3發(fā)動(dòng)機(jī)
4排氣管路
5元件
6第一端側(cè)
7第二端側(cè)
8添加單元
9反應(yīng)物
10距離
11局部區(qū)域
12層流區(qū)域
13噴射錐體
14排氣管路直徑
15面
16表面
17液滴
18機(jī)動(dòng)車
19角度
20噴嘴
21傾斜角
22壓力調(diào)節(jié)閥
23
24
2權(quán)利要求
1.一種用于凈化發(fā)動(dòng)機(jī)(3)排氣流O)的系統(tǒng)(1)，所述系統(tǒng)至少具有一排氣管路 G)，在所述排氣管路中設(shè)有一用于排氣凈化的元件(5)，所述元件具有第一端側(cè)(6)和第二端側(cè)(7)，其中所述排氣流( 能從所述第一端側(cè)(6)向第二端側(cè)(7)地流過(guò)所述元件 (5)，在所述元件(5)下游設(shè)有一用于將反應(yīng)物(9)添加到排氣流(2)中的添加單元(8)，其中所述添加單元(8)與所述元件( 的第二端側(cè)(7)間隔一至多30mm的距離(10)，使得被輸入的反應(yīng)物(9)的至少一部分到達(dá)所述元件(5)的第二端側(cè)(7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)(1)，其特征在于，所述第二端側(cè)(7)設(shè)計(jì)成球面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的系統(tǒng)(1)，其特征在于，所述添加單元(8)設(shè)置在排氣管路直徑(14)夕卜。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)(1)，其特征在于，所述元件( 在第二端側(cè)(7)上具有接納所述反應(yīng)物(9)的直徑大于200μ m的液滴(17)的能力。
5.一種用于在發(fā)動(dòng)機(jī)C3)運(yùn)行期間將反應(yīng)物(9)添加到排氣管路中的方法，其中在用于排氣凈化的元件(5)下游并且在所述元件(5)的層流區(qū)域(12)中設(shè)有添加單元(8)，將預(yù)定量的反應(yīng)物(9)提供給所述元件(5)的第二端側(cè)(7)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，利用所述添加單元(8)的非對(duì)稱設(shè)計(jì)的噴嘴00)將所述反應(yīng)物(9)噴射到所述元件(5)的第二端側(cè)(7)上。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的方法，其特征在于，所述添加單元(8)設(shè)置在排氣管路直徑(14)外，所述第二端側(cè)(7)的至少90%的面(15)被施加所述反應(yīng)物(9)。
8.根據(jù)權(quán)利要求5至7中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，以均勻的面加載為所述元件 (5)的第二端側(cè)(7)施加所述反應(yīng)物(9)。
9.根據(jù)權(quán)利要求5至8中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，被添加的反應(yīng)物(9)的至少 90%與所述元件(5)的第二端側(cè)(7)的表面(16)接觸。
10.根據(jù)權(quán)利要求5至9中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，被添加到排氣管路中的反應(yīng)物(9)的液滴(17)的尺寸不同。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，最大的液滴(17)與最小的液滴(17)間的比例至少為3比1。
12.根據(jù)權(quán)利要求5至11中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，被添加到排氣管路(4)中的反應(yīng)物(9)的液滴(17)的速度不同。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，最高的速度與最低的速度間的比例至少為3比1。
14.根據(jù)權(quán)利要求5至13中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，借助通向添加單元(8)的添加壓力來(lái)調(diào)節(jié)所述反應(yīng)物(9)的添加。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于凈化發(fā)動(dòng)機(jī)(3)的排氣流(2)的系統(tǒng)(1)，所述系統(tǒng)至少具有排氣管路(4)，在所述排氣管路中設(shè)置一用于排氣凈化的元件(5)，所述元件具有第一端側(cè)(6)和第二端側(cè)(7)，其中排氣流(2)能從所述第一端側(cè)(6)向第二端側(cè)(7)地流過(guò)所述元件(5)，在所述元件(5)下游設(shè)有一用于將反應(yīng)物(9)添加到排氣流(2)中的添加單元(8)，其中所述添加單元(8)與所述元件的第二端側(cè)間隔一至多30mm的距離(10)，使得被輸入的反應(yīng)物的至少一部分到達(dá)所述元件的第二端側(cè)。
文檔編號(hào)F01N3/20GK102165153SQ200980137343
公開日2011年8月24日 申請(qǐng)日期2009年9月7日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月24日
發(fā)明者J·霍格森, O·維特-梅爾, R·布呂科 申請(qǐng)人:排放技術(shù)有限公司