利用燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)廢熱的低濃度甲烷氣體氧化系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種低濃度甲烷氣體氧化系統(tǒng)，其在有效利用燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)的廢熱的同時，即使處理對象的低濃度甲烷氣體中的甲烷濃度急劇上升，也能夠避免催化劑的燒壞等，從而穩(wěn)定地運(yùn)轉(zhuǎn)。其是利用燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)的廢熱對低濃度甲烷氣體進(jìn)行氧化處理的低濃度甲烷氣體氧化系統(tǒng)（ST），其中，設(shè)置供應(yīng)源（VS）、催化劑層（15）及吸氣阻尼器（45），所述供應(yīng)源（VS）供給作為氧化處理對象的所述低濃度甲烷氣體，所述催化劑層（15）通過催化燃燒對所述低濃度甲烷氣體進(jìn)行氧化處理，所述吸氣阻尼器（45）與從所述供應(yīng)源向所述催化劑層供給所述低濃度甲烷氣體的供給路徑（SP）連接，將外部空氣導(dǎo)入該供給路徑。
【專利說明】利用燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)廢熱的低濃度甲烷氣體氧化系統(tǒng)
[0001]相關(guān)申請
[0002]本申請要求2011年10月17日申請的日本專利申請2011-228239的優(yōu)先權(quán)，將其全部內(nèi)容以參照的方式引入作為本申請的一部分。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]本發(fā)明涉及一種對在煤礦產(chǎn)生的VAM(Ventilation Air Methane ;煤礦通風(fēng)甲燒)或CMM (Coal Mine Methane ;煤礦甲燒)等低濃度甲燒氣體進(jìn)行氧化處理的系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0004]為了減少溫室效應(yīng)氣體，有必要對從煤礦排出至大氣中的VAM或CMM等低濃度甲烷氣體進(jìn)行氧化處理。作為這樣的氧化裝置，一直以來，已知將貧燃料燃?xì)廨啓C(jī)與催化燃燒組合的系統(tǒng)(例如專利文獻(xiàn)I)。在專利文獻(xiàn)I的例子中，利用燃?xì)廨啓C(jī)的廢熱，將低濃度甲烷氣體加熱至催化反應(yīng)溫度，使低濃度甲烷氣體流向催化劑層而燃燒。
[0005]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)
[0007]專利文獻(xiàn)1:日本專利第4538077號說明書
【發(fā)明內(nèi)容】

[0008](一)要解決的技術(shù)問題
[0009]但是，VAM或CMM的甲烷濃度有時發(fā)生較大變動，現(xiàn)有的氧化裝置難以追隨低濃度甲烷氣體的濃度變化，在濃度突然上升的情況下，有發(fā)生催化劑燒壞的可能性，裝置難以穩(wěn)定地運(yùn)轉(zhuǎn)。
[0010]因此，為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的目的是提供一種低濃度甲烷氣體氧化系統(tǒng)，其在有效利用燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)的廢熱的同時，即使處理對象的低濃度甲烷氣體中的甲烷濃度急劇上升，也能夠避免催化劑燒壞，從而穩(wěn)定地運(yùn)轉(zhuǎn)。
[0011](二)技術(shù)方案
[0012]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的低濃度甲烷氣體氧化系統(tǒng)利用燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)的廢熱對低濃度甲烷氣體進(jìn)行氧化處理，具備供應(yīng)源、催化劑層及吸氣阻尼器，所述供應(yīng)源供給作為氧化處理對象的所述低濃度甲烷氣體，所述催化劑層通過催化燃燒對所述低濃度甲烷氣體進(jìn)行氧化處理，所述吸氣阻尼器與從所述供應(yīng)源向所述催化劑層供給所述低濃度甲烷氣體的供給路徑連接，將外部空氣導(dǎo)入該供給路徑。
[0013]根據(jù)該結(jié)構(gòu)，在能夠有效利用燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)的廢熱的同時，即使在低濃度甲烷氣體的濃度急劇上升的情況下，也能夠通過吸氣阻尼器導(dǎo)入空氣從而使甲烷濃度下降，因此能夠避免催化劑的燒壞等，能夠使該系統(tǒng)穩(wěn)定地運(yùn)轉(zhuǎn)。
[0014]在本發(fā)明一個實(shí)施方式中，優(yōu)選地，在所述供給路徑上連接有將該供給路徑內(nèi)的氣體釋放到外部的放氣閥。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，在通過從吸氣阻尼器導(dǎo)入空氣也不能將甲烷濃度控制在規(guī)定值內(nèi)的情況下，能夠打開放氣閥將低濃度氣體釋放到外部，因此，能夠更加切實(shí)地避免催化劑的燒壞等。
[0015]在本發(fā)明一個實(shí)施方式中，優(yōu)選地，所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)是將從所述供應(yīng)源供給的低濃度甲烷氣體作為工作氣體利用的貧燃料吸入燃?xì)廨啓C(jī)，在從所述供給路徑向所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)供給低濃度氣體的分支供給路徑的分支點(diǎn)的下游側(cè)連接有所述吸氣阻尼器。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，即使將空氣導(dǎo)入供給路徑內(nèi)，也能夠避免供給作為利用于氧化處理的熱供應(yīng)源的燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)的工作氣體Gl的濃度下降，從而避免燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)的輸出下降。
[0016]此外，本發(fā)明的低濃度甲烷氣體氧化方法，是利用燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)的廢熱對低濃度甲烷氣體進(jìn)行氧化處理的低濃度甲烷氣體氧化方法，包括氧化工序和外氣導(dǎo)入工序，所述氧化工序通過催化燃燒對從供應(yīng)源供給的所述低濃度甲烷氣體進(jìn)行氧化處理；所述外氣導(dǎo)入工序，在從所述供應(yīng)源供給所述低濃度甲烷氣體的供給路徑內(nèi)的甲烷濃度超過規(guī)定值時，將外部空氣導(dǎo)入所述供給路徑。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，在能夠有效利用燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)的廢熱的同時，即使在低濃度甲烷氣體的濃度急劇上升的情況下，也能夠通過將空氣導(dǎo)入供給路徑使甲烷濃度下降，因此能夠避免催化劑的燒壞等，使該系統(tǒng)穩(wěn)定地運(yùn)轉(zhuǎn)。
[0017]權(quán)利要求書和/或說明書和/或說明書附圖所公開的至少兩種結(jié)構(gòu)的任意組合，也包含在本發(fā)明中。特別是權(quán)利要求書的各權(quán)利要求的兩項(xiàng)以上的任意組合，也包含在本發(fā)明中。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]通過參照附圖對以下最佳實(shí)施方式進(jìn)行說明，可更加清楚地理解本發(fā)明。但是，實(shí)施方式及附圖僅用于圖示及說明，不應(yīng)用于確定本發(fā)明的范圍。本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求書確定。在附圖中，多個附圖上的相同附圖標(biāo)記表示相同或與其相當(dāng)?shù)牟糠帧?br> [0019]圖1是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的低濃度甲烷氣體氧化系統(tǒng)的簡要結(jié)構(gòu)的方框圖。
[0020]圖2是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的低濃度甲烷氣體氧化系統(tǒng)的簡要結(jié)構(gòu)的方框圖。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下面參照【專利附圖】

【附圖說明】本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式。圖1是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的低濃度甲烷氣體氧化系統(tǒng)(以下僅稱為“氧化系統(tǒng)”。)ST的簡要結(jié)構(gòu)圖。該氧化系統(tǒng)ST利用燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)GT的廢熱，在低濃度甲烷氣體氧化裝置OD中對例如從煤礦排出的VAM這樣的低濃度甲烷氣體進(jìn)行氧化處理。
[0022]在本實(shí)施方式中，作為燃?xì)廨啓C(jī)GT，利用將低濃度甲烷氣體所含有的可燃成分作為燃料利用的貧燃料吸入燃?xì)廨啓C(jī)，如后面所述，從共通的VAM供應(yīng)源VS向低濃度甲烷氣體氧化裝置OD及燃?xì)廨啓C(jī)GT供給作為低濃度甲烷氣體的VAM。燃?xì)廨啓C(jī)GT具有壓縮機(jī)
1、燃燒器2及渦輪3，所述燃燒器2是含有鉬或鈀等催化劑的催化燃燒器。通過該燃?xì)廨啓C(jī)GT的輸出來驅(qū)動如發(fā)電機(jī)4這樣的負(fù)載。
[0023]作為燃?xì)廨啓C(jī)GT所使用的低熱量氣體，例如為在煤礦產(chǎn)生的VAM或CMM這種低濃度甲烷氣體的工作氣體Gl，通過壓縮機(jī)I的吸氣入口導(dǎo)入燃?xì)廨啓C(jī)GT內(nèi)。工作氣體Gl用壓縮機(jī)I壓縮，其高壓的壓縮氣體G2輸送至催化燃燒器2。該壓縮氣體G2通過催化燃燒器2的由鉬或鈀等催化劑進(jìn)行的催化反應(yīng)而燃燒，將由此生成的高溫/高壓的燃燒氣體G3供給渦輪3，從而驅(qū)動渦輪3。渦輪3通過旋轉(zhuǎn)軸5與壓縮機(jī)I連接，通過該渦輪3來驅(qū)動壓縮機(jī)I及發(fā)電機(jī)4。
[0024]燃?xì)廨啓C(jī)GT還具備第一熱交換器6,其利用來自潤輪3的廢氣G4對從壓縮機(jī)I導(dǎo)入催化燃燒器2的壓縮氣體G2加熱。將作為加熱介質(zhì)通過第一熱交換器6的廢氣G4輸送至低濃度甲烷氣體氧化裝置0D。來自該第一熱交換器6的廢氣G4除了包含來自催化燃燒器2并通過渦輪3內(nèi)部的未燃燒的甲烷氣體以外，還包含用于渦輪3的軸部冷卻的低濃度甲烷氣體或從構(gòu)成燃?xì)廨啓C(jī)GT的部件間微小的間隙泄漏的低濃度氣體。
[0025]低濃度甲烷氣體氧化裝置OD具備鼓風(fēng)機(jī)11、第二熱交換器13、催化劑層15及混合器17，在低濃度氣體流動路徑22上設(shè)置有鼓風(fēng)機(jī)11、第二熱交換器13、混合器17，所述低濃度氣體流動路徑22形成將作為氧化處理對象的低濃度氣體G7供給催化劑層15的供給路徑SP。從VAM供應(yīng)源VS供給的低濃度氣體G7經(jīng)低濃度氣體流動路徑22，通過氧化裝置側(cè)過濾器23后，由鼓風(fēng)機(jī)11輸送至第二熱交換器13。在第二熱交換器13加熱的低濃度氣體G7在混合器17內(nèi)與來自燃?xì)廨啓C(jī)GT的高溫廢氣G5混合。用混合器17混合的混合氣體G9經(jīng)形成供給路徑SP的混合氣體排出路24，進(jìn)入通過催化燃燒進(jìn)行氧化處理的催化劑層15內(nèi)，在催化劑層15進(jìn)行氧化處理后，在第二熱交換器13加熱低濃度氣體G7，而后排出至系統(tǒng)外部。
[0026]在VAM供應(yīng)源VS的下游側(cè)設(shè)置有第一甲烷濃度傳感器31，該第一甲烷濃度傳感器31測定從VAM供應(yīng)源VS供給的低濃度甲烷氣體G7的甲烷濃度。此外，在從燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)GT向混合器17的廢氣輸送路徑32上的混合器17的上游側(cè)、低濃度氣體流動路徑22上的混合器17的上游側(cè)以及在混合氣體排出路24上的混合器17與催化劑層15之間，分別設(shè)置有測量氣體溫度的第一至第三溫度傳感器35、37、39。進(jìn)而，在低濃度氣體流動路徑22上的鼓風(fēng)機(jī)11與第二熱交換器13之間，設(shè)置有流量控制閥41及流量計(jì)43。表示第一甲烷濃度傳感器31、溫度傳感器35、37、39、流量計(jì)43的測定值的信號輸入至控制器44，根據(jù)基于這些測定值從控制器44輸出的流量控制信號，來控制流量控制閥41的開度，由此控制在低濃度氣體流動路徑22流動的低濃度氣體G7的流量。
[0027]在低濃度氣體流動路徑22上，連接有將外部空氣A導(dǎo)入低濃度氣體流動路徑22的吸氣阻尼器45。在由第一甲烷濃度傳感器31測定的從VAM供應(yīng)源VS供給的低濃度氣體G7的甲烷濃度超過規(guī)定值的情況下，打開連接在鼓風(fēng)機(jī)11上游側(cè)的吸氣阻尼器45導(dǎo)入空氣A，使甲烷濃度下降。從吸氣阻尼器45導(dǎo)入空氣A后的甲烷濃度通過連接在鼓風(fēng)機(jī)11上游側(cè)(氧化裝置側(cè)過濾器23與鼓風(fēng)機(jī)11之間)的第二甲烷濃度傳感器46測定。此外，在鼓風(fēng)機(jī)11與流量控制閥41之間連接有放氣閥47，在通過從吸氣阻尼器45導(dǎo)入空氣A也不能將甲烷濃度控制在規(guī)定值內(nèi)的情況下，通過來自控制器44的放氣指令信號打開放氣閥47，將低濃度氣體G7釋放(放氣)到外部。
[0028]如上所述，來自VAM供應(yīng)源VS的低濃度氣體G7作為燃料也供給燃?xì)廨啓C(jī)GT。具體地，從低濃度氣體流動路徑22上的吸氣阻尼器45的上游側(cè)分支設(shè)置有用于將低濃度氣體G7供給燃?xì)廨啓C(jī)GT的壓縮機(jī)I的分支供給路徑51，通過該分支供給路徑51向燃?xì)廨啓C(jī)GT供給低濃度氣體。在分支供給路徑51的中途，設(shè)置有用于除去低濃度氣體G7中含有的灰塵的分支路側(cè)過濾器52。
[0029]換句話說，吸氣阻尼器45連接在分支供給路徑51從低濃度氣體流動路徑22分支的分支點(diǎn)P的下游側(cè)。為了利用從吸氣阻尼器45導(dǎo)入的空氣A使作為氧化處理對象的低濃度氣體G7的甲烷濃度下降，吸氣阻尼器45的連接位置只要在從VAM供應(yīng)源VS至混合器17之間，則無特別限定。但是，如本實(shí)施方式，通過在分支供給路徑51從低濃度氣體流動路徑22分支的分支點(diǎn)P的下游側(cè)連接吸氣阻尼器45，將外部空氣A導(dǎo)入分支點(diǎn)P的下游側(cè)，從而能夠避免供給作為利用于氧化處理的熱供應(yīng)源的燃?xì)廨啓C(jī)GT的工作氣體Gl的濃度下降，避免燃?xì)廨啓C(jī)GT的輸出下降。
[0030]此外，為了將在低濃度氣體流動路徑22流動的低濃度氣體G7釋放到外部，放氣閥47的連接位置只要在從VAM供應(yīng)源VS至混合器17之間，則無特別限定。但是，為了更加有效地進(jìn)行低濃度氣體G7的釋放，優(yōu)選地，放氣閥47連接在流量控制閥41的上游側(cè)，從流量控制閥41的上游側(cè)進(jìn)行放氣。進(jìn)而，為了避免燃?xì)廨啓C(jī)GT的輸出下降或停止，優(yōu)選地，放氣閥47連接在分支供給路徑51的分支點(diǎn)P的下游側(cè)，從分支點(diǎn)P的下游側(cè)進(jìn)行放氣。
[0031]根據(jù)本實(shí)施方式的系統(tǒng)ST，在能夠有效利用燃?xì)廨啓C(jī)GT的廢熱的同時，即使供給的低濃度甲烷氣體的濃度發(fā)生變動，通過設(shè)置吸氣阻尼器45或放氣閥47等，能夠避免催化劑層15燒壞，因此，能夠使該系統(tǒng)ST穩(wěn)定地運(yùn)轉(zhuǎn)。而且，由于作為燃?xì)廨啓C(jī)GT利用貧燃料吸入燃?xì)廨啓C(jī)，因此用于渦輪3的軸部冷卻的低濃度甲烷氣體或從構(gòu)成燃?xì)廨啓C(jī)GT的部件間微小的間隙泄漏的低濃度氣體等，還有在燃?xì)廨啓C(jī)GT未燃燒的低濃度氣體，能夠由低濃度甲烷氣體氧化裝置OD進(jìn)行氧化處理。
[0032]圖2是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的氧化系統(tǒng)ST的簡要結(jié)構(gòu)圖。以下，主要以與第一實(shí)施方式的不同點(diǎn)為中心對本實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。在本實(shí)施方式中，作為燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)GT，使用向燃燒器2直接噴射燃料F的類型的燃?xì)廨啓C(jī)。此外，來自渦輪3的廢氣不與在低濃度甲烷氣體氧化裝置OD進(jìn)行氧化處理的低濃度氣體直接混合，僅在兩氣體間進(jìn)行熱交換。
[0033]具體地，在將來自渦輪3的廢氣排出的廢氣輸送路徑32上設(shè)置有廢氣熱交換器53。通過第二熱交換器13后的低濃度氣體G7通過該廢氣熱交換器53，從而利用廢氣G4的熱量進(jìn)行加熱。通過廢氣熱交換器53后的低濃度氣體G7在催化劑層15進(jìn)行氧化處理后，在第二熱交換器13加熱低濃度氣體G7，而后排出至系統(tǒng)外部。
[0034]在低濃度氣體流動路徑22的連接第二熱交換器13與廢氣熱交換器53的部分的中途，配置有流動路徑轉(zhuǎn)換閥54。通過流動路徑轉(zhuǎn)換閥54的轉(zhuǎn)換，能夠?qū)⒌蜐舛葰怏w的流動路徑在從第二熱交換器13經(jīng)過廢氣熱交換器53流入催化劑層15的路徑和從第二熱交換器13不經(jīng)過廢氣熱交換器53而直接流入催化劑層15的路徑之間選擇性地轉(zhuǎn)換。低濃度氣體的流動路徑的轉(zhuǎn)換控制基于低濃度氣體流動路徑22上的設(shè)置在第二熱交換器13下游側(cè)的第4溫度傳感器61和設(shè)置在催化劑槽15上游側(cè)的第5溫度傳感器63的各溫度測定值來進(jìn)行。具體地，在低濃度甲烷氣體氧化裝置OD起動時，預(yù)先設(shè)定流動路徑轉(zhuǎn)換閥54，使低濃度氣體G7通過廢氣熱交換器53，之后，在由第4溫度傳感器61測定的低濃度氣體溫度變得高于由第5溫度傳感器63測定的氣體溫度的情況下，轉(zhuǎn)換流動路徑，使低濃度氣體G7不通過廢氣熱交換器53而直接流入催化劑層15。
[0035]另外，作為本實(shí)施方式的變形例，如圖2中以單點(diǎn)劃線所示，也可以在廢氣輸送路徑32的中途設(shè)置追加的催化劑層65，增加在燃?xì)廨啓C(jī)GT側(cè)的低濃度甲烷氣體處理量。或者，也可以省略從低濃度氣體流動路徑22向燃?xì)廨啓C(jī)GT的分支供給路徑51，將空氣作為工作氣體吸入壓縮機(jī)I。
[0036]根據(jù)本實(shí)施方式的氧化系統(tǒng)ST及氧化方法，由于應(yīng)在催化劑層15處理的氣體量比第一實(shí)施方式少，因此，能夠減少在催化劑層15中使用的催化劑的量。
[0037]如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式的低濃度甲烷氣體氧化系統(tǒng)ST，即使在VAM或CMM燃料濃度發(fā)生急劇變動的情況下，也能夠避免催化劑層15燒壞而穩(wěn)定地運(yùn)轉(zhuǎn)。
[0038]如上，參照附圖對本發(fā)明的最佳實(shí)施方式進(jìn)行了說明，但在不脫離本發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)，能夠進(jìn)行各種追加、改變或刪除。因此，這樣的追加、改變及刪除也包含在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
[0039]附圖標(biāo)記說明
[0040]I 壓縮機(jī)
[0041]2 催化燃燒器
[0042]3 渦輪
[0043]4 發(fā)電機(jī)
[0044]6 第一熱交換器
[0045]13第二熱交換器
[0046]15催化劑層
[0047]17混合器
[0048]22低濃度氣體流動路徑
[0049]45吸氣阻尼器
[0050]47放氣閥
[0051]GT燃?xì)廨啓C(jī)
[0052]SP低濃度氣體的供給路徑
[0053]ST低濃度甲烷氣體氧化系統(tǒng)
[0054]OD低濃度甲烷氣體氧化裝置
【權(quán)利要求】
1.一種低濃度甲烷氣體氧化系統(tǒng)，其利用燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)的廢熱對低濃度甲烷氣體進(jìn)行氧化處理； 具備供應(yīng)源、催化劑層及吸氣阻尼器； 所述供應(yīng)源供給作為氧化處理對象的所述低濃度甲烷氣體； 所述催化劑層通過催化燃燒對所述低濃度甲烷氣體進(jìn)行氧化處理； 所述吸氣阻尼器與從所述供應(yīng)源向所述催化劑層供給所述低濃度甲烷氣體的供給路徑連接，在該供給路徑內(nèi)的甲烷濃度超過規(guī)定值時，將外部空氣導(dǎo)入該供給路徑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低濃度甲烷氣體氧化系統(tǒng)，其特征在于，在所述供給路徑上連接有放氣閥，所述放氣閥在該供給路徑內(nèi)的甲烷濃度超過規(guī)定值時，將該供給路徑內(nèi)的氣體釋放到外部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低濃度甲烷氣體氧化系統(tǒng)，其特征在于，所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)是將從所述供應(yīng)源供給的低濃度甲烷氣體作為工作氣體利用的貧燃料吸入燃?xì)廨啓C(jī)，在從所述供給路徑向所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)供給低濃度氣體的分支供給路徑的分支點(diǎn)的下游側(cè)連接有所述吸氣阻尼器。
4.一種低濃度甲烷氣體氧化方法，其利用燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)的廢熱對低濃度甲烷氣體進(jìn)行氧化處理； 包括氧化工序和外氣導(dǎo)入工序； 所述氧化工序通過催化燃燒對從供應(yīng)源供給的所述低濃度甲烷氣體進(jìn)行氧化處理； 所述外氣導(dǎo)入工序，在從所述供應(yīng)源供給所述低濃度甲烷氣體的供給路徑內(nèi)的甲烷濃度超過規(guī)定值時，將外部空氣導(dǎo)入所述供給路徑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低濃度甲烷氣體氧化方法，其特征在于，還包括放氣工序，所述放氣工序在所述供給路徑內(nèi)的甲烷濃度超過規(guī)定值時，將該供給路徑內(nèi)的氣體釋放到外部。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低濃度甲烷氣體氧化方法，其特征在于，所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)，是將從所述供應(yīng)源供給的低濃度甲烷氣體作為工作氣體利用的貧燃料吸入燃?xì)廨啓C(jī)；所述外氣導(dǎo)入工序，在從所述供給路徑向所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動機(jī)供給低濃度氣體的分支供給路徑的分支點(diǎn)的下游側(cè)，導(dǎo)入所述外部空氣。
【文檔編號】F02C3/22GK103857890SQ201280049505
【公開日】2014年6月11日 申請日期:2012年10月15日 優(yōu)先權(quán)日:2011年10月17日
【發(fā)明者】梶田真市, 山崎義弘, 細(xì)川恭史 申請人:川崎重工業(yè)株式會社