具有用于導(dǎo)出損耗熱量的設(shè)備的離子加速器裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及具有用于導(dǎo)出損耗熱量的設(shè)備的離子加速器裝置，其具有包括損耗熱源的電離室以及環(huán)繞所述電離室的磁鐵裝置，并且還具有用于導(dǎo)散產(chǎn)生于室壁的損耗熱量的導(dǎo)熱裝置，其中，所述導(dǎo)熱裝置與承載結(jié)構(gòu)導(dǎo)熱地且機械固定地連接，并且所述導(dǎo)熱裝置比所述承載結(jié)構(gòu)具有更大的導(dǎo)熱率和/或更小的比重，其特征在于，所述熱輻射反射鏡器件至少被布置在所述磁鐵裝置的面向所述室壁且與所述室壁間隔開的表面的一部分之間，所述磁鐵裝置包括環(huán)繞所述電離室的多個永磁環(huán)，所述永磁環(huán)在所述電離室的縱向方向上相互間隔開，由軟磁材料制成的極靴環(huán)被插入在縱向方向上相鄰的永磁環(huán)之間，所述熱輻射反射鏡器件在縱向區(qū)域中在所述極靴處中斷。
【專利說明】具有用于導(dǎo)出損耗熱量的設(shè)備的離子加速器裝置
[0001]本申請是申請日為2008年9月12日、國際申請?zhí)枮镻CT/EP2008/062173、國際
【發(fā)明者】漢斯-彼得·哈爾曼, 諾貝特·科赫, 馬蒂亞斯·克拉格斯 申請人:塔萊斯電子系統(tǒng)有限公司