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      一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置制造方法

      文檔序號:5163878閱讀:302來源:國知局
      一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置制造方法
      【專利摘要】該技術(shù)屬于集液腔均流裝置【技術(shù)領(lǐng)域】,具體涉及一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置。其包括流路進(jìn)口、一次大均流腔、徑向均流孔、二次小均流腔、流路出口、集液腔基體。流路進(jìn)口位于集液腔基體正上方,其下方為一次大均流腔,在一次大均流腔中,并與流路進(jìn)口相對的正下方為進(jìn)口均流板,進(jìn)口均流板上開有數(shù)個(gè)通孔,可以起到局部整流作用,使得沿環(huán)形集液腔周向的壓力分布基本趨于均勻,同時(shí)可以將局部流阻控制在較低水平。徑向均流孔位于一次大均流腔下游,共有多個(gè)徑向均流孔在大均流腔的底部沿周向排列,并與二次小均流腔連接,起到進(jìn)一步均流作用的同時(shí)將局部流阻控制在較低水平。
      【專利說明】一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置

      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型屬于集液腔領(lǐng)域,具體涉及一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置。

      【背景技術(shù)】
      [0002]液體火箭發(fā)動(dòng)機(jī)中廣泛采用單進(jìn)口環(huán)形集液腔結(jié)構(gòu),集液腔內(nèi)部的不均勻流動(dòng)將導(dǎo)致其出口壓力畸變,使下游各個(gè)流路流量分配不均,最終會(huì)影響總體性能,因此合理設(shè)計(jì)環(huán)形集液腔的均流結(jié)構(gòu)非常重要。
      [0003]目前環(huán)形集液腔采用的均流裝置大多是在流路進(jìn)口設(shè)置均流板,消除局部流場畸變。這樣的均流裝置由于入口流通面積較小,受流阻限制,均流板通流孔不可能設(shè)計(jì)的較小,使得均流效果有限。
      [0004]由于火箭發(fā)動(dòng)機(jī)用環(huán)形集液腔高速大流量使用環(huán)境的嚴(yán)酷性,以及下游流量分配高均勻性低流阻的要求,現(xiàn)有的均流裝置無法滿足使用要求,所以克服以上不足是設(shè)計(jì)新型均流裝置的關(guān)鍵。


      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0005]本實(shí)用新型的目的在于:提供一種適用于高速大流量環(huán)形集液腔的高均勻性低流阻的均流裝置,以適應(yīng)更大流量更高流速的使用環(huán)境,顯著提高下游流量分配的均勻性。
      [0006]本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置,包括流路進(jìn)口、一次大均流腔、徑向均流孔、二次小均流腔、流路出口,所述一次大均流腔為球型空腔結(jié)構(gòu),其上方為流路進(jìn)口,一次大均流腔通過徑向均流孔與二次小均流腔連接,所述流路出口位于二次小均流腔的下方。
      [0007]所述徑向均流孔共有若干個(gè),在大均流腔的底部沿周向排列,并與二次小均流腔連接。
      [0008]所述一次大均流腔內(nèi)水平放置進(jìn)口均流板,在進(jìn)口均流板上開有通孔,起到局部整流作用,使得沿環(huán)形集液腔周向的壓力分布基本趨于均勻。
      [0009]所述通孔有若干個(gè)。
      [0010]本實(shí)用新型的顯著效果在于:設(shè)計(jì)了一種適用于高速大流量環(huán)形集液腔的高均勻性低流阻的均流裝置,采用進(jìn)口均流板+ —次大均流腔+徑向均流孔+ 二次小均流腔的組合結(jié)構(gòu)。通過在流路進(jìn)口設(shè)置均流板,可以起到消除入口流動(dòng)畸變的作用。通過一次大均流腔可以起到初次均壓作用,使得沿環(huán)形集液腔周向的壓力分布基本趨于均勻。通過徑向均流孔和下游的二次小均流腔可以起到進(jìn)一步均流的作用。該均流裝置大大改善了環(huán)形集液腔的工作環(huán)境,可以適應(yīng)更大流量更高流速的使用環(huán)境,顯著提高下游流量分配的均勻性。

      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0011]圖1為本實(shí)用新型所述的一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置平面結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0012]圖2為圖1的A-A剖視圖;
      [0013]圖中:1流路進(jìn)口、2 —次大均流腔、3進(jìn)口均流板、4均流板通孔、5徑向均流孔、6二次小均流腔、7流路出口 ;

      【具體實(shí)施方式】
      [0014]下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
      [0015]如圖1圖2所示,用于高速大流量環(huán)形集液腔的高均勻性低流阻的均流裝置包括流路進(jìn)口 1、一次大均流腔2、徑向均流孔5、二次小均流腔6、流路出口 7。
      [0016]一次大均流腔2為球型空腔結(jié)構(gòu),在其內(nèi)水平放置進(jìn)口均流板3,在進(jìn)口均流板3上開有若干個(gè)通孔4,可以起到局部整流作用,使得沿環(huán)形集液腔周向的壓力分布基本趨于均勻,同時(shí)可以將局部流阻控制在較低水平。一次大均流腔2的上方為流路進(jìn)口 I。
      [0017]徑向均流孔5位于一次大均流腔2下游,共有多個(gè)徑向均流孔5在大均流腔2的底部沿周向排列,一次大均流腔2通過徑向均流孔5與二次小均流腔6連接,起到進(jìn)一步均流作用的同時(shí)將局部流阻控制在較低水平。二次小均流腔6的下方為流路出口 7。
      【權(quán)利要求】
      1.一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置,其特征在于:包括流路進(jìn)口(I)、一次大均流腔(2)、徑向均流孔(5)、二次小均流腔(6)、流路出口(7),所述一次大均流腔(2)為球型空腔結(jié)構(gòu),其上方為流路進(jìn)口(I),一次大均流腔(2)通過徑向均流孔(5)與二次小均流腔(6)連接,所述流路出口(7)位于二次小均流腔(6)的下方。
      2.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置,其特征在于:所述徑向均流孔(5)共有若干個(gè),在大均流腔(2)的底部沿周向排列,并與二次小均流腔(6)連接。
      3.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置,其特征在于:所述一次大均流腔⑵內(nèi)水平放置進(jìn)口均流板(3),在進(jìn)口均流板(3)上開有通孔(4),起到局部整流作用,使得沿環(huán)形集液腔周向的壓力分布基本趨于均勻。
      4.據(jù)權(quán)利要求3所述的一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置,其特征在于:所述通孔⑷有若干個(gè)。
      【文檔編號】F02K9/60GK204226049SQ201420403440
      【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年7月21日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月21日
      【發(fā)明者】丁兆波, 許曉勇, 孫紀(jì)國, 王維彬, 喬桂玉, 田原, 趙世紅, 高翔宇, 李丹琳, 劉紅珍, 王召, 程鵬, 王仙 申請人:北京航天動(dòng)力研究所
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