一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明屬于集液腔領(lǐng)域，具體涉及一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]液體火箭發(fā)動(dòng)機(jī)中廣泛采用單進(jìn)口環(huán)形集液腔結(jié)構(gòu)，集液腔內(nèi)部的不均勻流動(dòng)將導(dǎo)致其出口壓力畸變，使下游各個(gè)流路流量分配不均，最終會(huì)影響總體性能，因此合理設(shè)計(jì)環(huán)形集液腔的均流結(jié)構(gòu)非常重要。
[0003]目前環(huán)形集液腔采用的均流裝置大多是在流路進(jìn)口設(shè)置均流板，消除局部流場(chǎng)畸變。這樣的均流裝置由于入口流通面積較小，受流阻限制，均流板通流孔不可能設(shè)計(jì)的較小，使得均流效果有限。
[0004]由于火箭發(fā)動(dòng)機(jī)用環(huán)形集液腔高速大流量使用環(huán)境的嚴(yán)酷性，以及下游流量分配高均勻性低流阻的要求，現(xiàn)有的均流裝置無(wú)法滿足使用要求，所以克服以上不足是設(shè)計(jì)新型均流裝置的關(guān)鍵。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于:提供一種適用于高速大流量環(huán)形集液腔的高均勻性低流阻的均流裝置，以適應(yīng)更大流量更高流速的使用環(huán)境，顯著提高下游流量分配的均勻性。
[0006]本發(fā)明的技術(shù)方案如下:一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置，包括流路進(jìn)口、一次大均流腔、徑向均流孔、二次小均流腔、流路出口，所述一次大均流腔為球型空腔結(jié)構(gòu)，其上方為流路進(jìn)口，一次大均流腔通過徑向均流孔與二次小均流腔連接，所述流路出口位于二次小均流腔的下方。
[0007]所述徑向均流孔共有若干個(gè)，在大均流腔的底部沿周向排列，并與二次小均流腔連接。
[0008]所述一次大均流腔內(nèi)水平放置進(jìn)口均流板，在進(jìn)口均流板上開有通孔，起到局部整流作用，使得沿環(huán)形集液腔周向的壓力分布基本趨于均勻。
[0009]所述通孔有若干個(gè)。
[0010]本發(fā)明的顯著效果在于:本發(fā)明設(shè)計(jì)了一種適用于高速大流量環(huán)形集液腔的高均勻性低流阻的均流裝置，采用進(jìn)口均流板+ —次大均流腔+徑向均流孔+ 二次小均流腔的組合結(jié)構(gòu)。通過在流路進(jìn)口設(shè)置均流板，可以起到消除入口流動(dòng)畸變的作用。通過一次大均流腔可以起到初次均壓作用，使得沿環(huán)形集液腔周向的壓力分布基本趨于均勻。通過徑向均流孔和下游的二次小均流腔可以起到進(jìn)一步均流的作用。該均流裝置大大改善了環(huán)形集液腔的工作環(huán)境，可以適應(yīng)更大流量更高流速的使用環(huán)境，顯著提高下游流量分配的均勻性。
【附圖說明】
[0011]圖1為本發(fā)明所述的一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置平面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖2為圖1的A-A剖視圖；
[0013]圖中:1流路進(jìn)口、2 —次大均流腔、3進(jìn)口均流板、4均流板通孔、5徑向均流孔、6二次小均流腔、7流路出口 ；
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0015]如圖1圖2所示，用于高速大流量環(huán)形集液腔的高均勻性低流阻的均流裝置包括流路進(jìn)口 1、一次大均流腔2、徑向均流孔5、二次小均流腔6、流路出口 7。
[0016]一次大均流腔2為球型空腔結(jié)構(gòu)，在其內(nèi)水平放置進(jìn)口均流板3，在進(jìn)口均流板3上開有若干個(gè)通孔4，可以起到局部整流作用，使得沿環(huán)形集液腔周向的壓力分布基本趨于均勻，同時(shí)可以將局部流阻控制在較低水平。一次大均流腔2的上方為流路進(jìn)口 1。
[0017]徑向均流孔5位于一次大均流腔2下游，共有多個(gè)徑向均流孔5在大均流腔2的底部沿周向排列，一次大均流腔2通過徑向均流孔5與二次小均流腔6連接，起到進(jìn)一步均流作用的同時(shí)將局部流阻控制在較低水平。二次小均流腔6的下方為流路出口 7。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置，其特征在于:包括流路進(jìn)口(1)、一次大均流腔(2)、徑向均流孔(5)、二次小均流腔(6)、流路出口(7)，所述一次大均流腔(2)為球型空腔結(jié)構(gòu)，其上方為流路進(jìn)口(1)，一次大均流腔(2)通過徑向均流孔(5)與二次小均流腔(6)連接，所述流路出口(7)位于二次小均流腔￠)的下方。2.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置，其特征在于:所述徑向均流孔(5)共有若干個(gè)，在大均流腔(2)的底部沿周向排列，并與二次小均流腔(6)連接。3.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置，其特征在于:所述一次大均流腔(2)內(nèi)水平放置進(jìn)口均流板(3)，在進(jìn)口均流板(3)上開有通孔(4)，起到局部整流作用，使得沿環(huán)形集液腔周向的壓力分布基本趨于均勻。4.據(jù)權(quán)利要求3所述的一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置，其特征在于:所述通孔⑷有若干個(gè)。
【專利摘要】該技術(shù)屬于集液腔均流裝置技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種大流量單進(jìn)口環(huán)形集液腔均流裝置。其包括流路進(jìn)口、一次大均流腔、徑向均流孔、二次小均流腔、流路出口、集液腔基體。流路進(jìn)口位于集液腔基體正上方，其下方為一次大均流腔，在一次大均流腔中，并與流路進(jìn)口相對(duì)的正下方為進(jìn)口均流板，進(jìn)口均流板上開有數(shù)個(gè)通孔，可以起到局部整流作用，使得沿環(huán)形集液腔周向的壓力分布基本趨于均勻，同時(shí)可以將局部流阻控制在較低水平。徑向均流孔位于一次大均流腔下游，共有多個(gè)徑向均流孔在大均流腔的底部沿周向排列，并與二次小均流腔連接，起到進(jìn)一步均流作用的同時(shí)將局部流阻控制在較低水平。
【IPC分類】F02K9/60
【公開號(hào)】CN105317586
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410347815
【發(fā)明人】丁兆波, 許曉勇, 孫紀(jì)國(guó), 王維彬, 喬桂玉, 田原, 趙世紅, 高翔宇, 李丹琳, 劉紅珍, 王召, 程鵬, 王仙
【申請(qǐng)人】北京航天動(dòng)力研究所
【公開日】2016年2月10日
【申請(qǐng)日】2014年7月21日