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      調(diào)整氣缸蓋平衡的復合型氣缸蓋墊片的制作方法

      文檔序號:8749229閱讀:265來源:國知局
      調(diào)整氣缸蓋平衡的復合型氣缸蓋墊片的制作方法
      【技術領域】
      [0001]本實用新型涉及發(fā)動機氣缸蓋墊片技術領域,特別是一種調(diào)整氣缸蓋平衡的復合型氣缸蓋墊片。
      【背景技術】
      [0002]氣缸蓋墊片是發(fā)動機的重要零部件,其作用是連接氣缸蓋和氣缸體,調(diào)整壓縮余隙,密封爆發(fā)燃氣、冷卻液和潤滑油。它的質(zhì)量直接影響到發(fā)動機的壽命。當發(fā)動機缸孔中心與機體中心偏斜較多的時候,由于氣缸蓋墊片承受壓力的中心與氣缸體的中心不在一直線上,承壓面積較大的部分,其平均面壓較低,承壓面積較小的部分其所受平均面壓較高,兩個部位造成了壓縮厚度的不一致,氣缸蓋產(chǎn)生較大的偏斜,常常會在面壓低的一側(cè)引起竄氣沖缸現(xiàn)象。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]本實用新型的目的是提供一種調(diào)整氣缸蓋平衡的復合型氣缸蓋墊片,解決發(fā)動機缸孔中心與機體中心偏斜時氣缸蓋密封面密封不嚴的技術問題。
      [0004]本實用新型的目的是以如下方式實現(xiàn)的:有一個由無石棉復合材料制成的墊體,墊體上設有燃燒室孔、冷卻液孔、潤滑油孔、螺栓孔、挺柱孔和定位孔,燃燒室孔沿墊體寬度方向偏離中心靠近一側(cè)邊,在燃燒室孔邊緣包有缸口護圈,該缸口護圈的底邊向靠近側(cè)邊的方向延伸并包覆在墊體該側(cè)的邊緣上,缸口護圈的延伸部分中間部位鏤空,以其鏤空的面積來調(diào)整氣缸蓋的平衡狀態(tài)達到理想的狀態(tài)。
      [0005]墊體表面涂覆有微密封涂料,以微觀密封金屬表面的微觀不平度。
      [0006]本實用新型適用于缸孔中心與機體中心偏斜的發(fā)動機,提高了缸體與氣缸蓋之間對應燃燒室部位的密封性能,設計合理,性能優(yōu)越,提高了發(fā)動機的可靠性和耐久性。
      【附圖說明】
      [0007]圖1是本實用新型的結(jié)構示意圖。
      [0008]圖2是圖1中A-A剖面圖。
      【具體實施方式】
      [0009]參照圖1、圖2,有一個墊體1,墊體I是由無石棉纖維與由自動機自動沖刺的帶有梅花瓣形齒孔的薄鋼帶粘接壓合而成,墊體I表面涂覆有微密封涂料,墊體I上設有燃燒室孔2、冷卻液孔3、潤滑油孔4、螺栓孔5、挺柱孔6和定位孔7,燃燒室孔2沿墊體I寬度方向偏離中心靠近一側(cè)邊,在燃燒室孔2邊緣包有缸口護圈8,該缸口護圈的底邊9向靠近側(cè)邊的方向延伸并包覆在墊體I該側(cè)的邊緣上,以加強此側(cè)的面壓,使氣缸蓋處于平衡狀態(tài),缸口護圈8的延伸部分中間部位鏤空,以其鏤空的面積來調(diào)整氣缸蓋的平衡狀態(tài)達到理想的狀態(tài),另外在潤滑油孔4上裝有油孔護圈10,以提高潤滑油的密封力。
      【主權項】
      1.一種調(diào)整氣缸蓋平衡的復合型氣缸蓋墊片,有一個由無石棉復合材料制成的墊體,墊體上設有燃燒室孔、冷卻液孔、潤滑油孔、螺栓孔、挺柱孔和定位孔,燃燒室孔沿墊體寬度方向偏離中心靠近一側(cè)邊,其特征在于:在燃燒室孔(2)邊緣包有缸口護圈(8),該缸口護圈(8 )的底邊(9 )向靠近側(cè)邊的方向延伸并包覆在墊體(I)該側(cè)的邊緣上,缸口護圈(8 )的延伸部分中間部位鏤空。
      2.根據(jù)權利要求1所述的調(diào)整氣缸蓋平衡的復合型氣缸蓋墊片,其特征在于:墊體(I)表面涂覆有微密封涂料。
      【專利摘要】一種調(diào)整氣缸蓋平衡的復合型氣缸蓋墊片,有一個由無石棉復合材料制成的墊體,墊體上設有燃燒室孔、冷卻液孔、潤滑油孔、螺栓孔、挺柱孔和定位孔,燃燒室孔沿墊體寬度方向偏離中心靠近一側(cè)邊,在燃燒室孔邊緣包有缸口護圈,該缸口護圈底邊向靠近側(cè)邊的方向延伸并包覆在墊體該側(cè)的邊緣上,缸口護圈的延伸部分中間部位鏤空,墊體表面涂覆有微密封涂料。本實用新型適用于缸孔中心與機體中心偏斜的發(fā)動機,提高了缸體與氣缸蓋之間對應燃燒室部位的密封性能,設計合理,性能優(yōu)越,提高了發(fā)動機的可靠性和耐久性。
      【IPC分類】F02F11-00
      【公開號】CN204458093
      【申請?zhí)枴緾N201520109786
      【發(fā)明人】張忠東, 馮忠全, 段華東
      【申請人】梁山縣車友汽車配件制造有限公司
      【公開日】2015年7月8日
      【申請日】2015年2月15日
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