圖案形成方法、光刻裝置、光刻系統(tǒng)及物品制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種圖案形成方法、光刻裝置、光刻系統(tǒng)及物品制造方法。該圖案形成方法包括：第一步驟，形成第一圖案以限定第一拍攝布置；以及第二步驟，進(jìn)行壓印處理，從而在所述第一圖案上的壓印材料上形成第二圖案，并且限定第二拍攝布置。在所述第二步驟中，修正所述第二拍攝布置，以通過(guò)使所述模具變形來(lái)減小所述第一拍攝布置和所述第二拍攝布置的重疊誤差。在所述第一步驟中，基于在通過(guò)使所述模具變形對(duì)所述模具上形成的所述第二圖案進(jìn)行修正之后進(jìn)行所述第二步驟的情況下、所述基板上可限定的估計(jì)的所述第二拍攝布置的信息，形成所述第一圖案，以使所述第一拍攝布置和所述第二拍攝布置的重疊誤差在容許范圍內(nèi)。
【專利說(shuō)明】圖案形成方法、光刻裝置、光刻系統(tǒng)及物品制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種圖案形成方法、光刻裝置、光刻系統(tǒng)及物品制造方法。

【背景技術(shù)】
[0002]壓印技術(shù)是能夠轉(zhuǎn)印納米級(jí)微圖案的技術(shù)，并作為一種用于磁存儲(chǔ)介質(zhì)和半導(dǎo)體設(shè)備的批量生產(chǎn)的光刻技術(shù)而投入實(shí)際使用。在壓印技術(shù)中，使用利用電子束描繪裝置等形成的具有微圖案的模具作為原版(original)，在諸如硅基板或者玻璃板的基板上形成微圖案。如下形成這種微圖案。將樹(shù)脂涂布到基板上。在經(jīng)由樹(shù)脂將模具圖案按壓到基板上的同時(shí)，用紫外線照射基板，從而使樹(shù)脂固化。然后，將模具從固化的樹(shù)脂移除。例如，在日本特開(kāi)第2010-098310號(hào)公報(bào)中公開(kāi)了這種壓印技術(shù)。
[0003]為了實(shí)現(xiàn)完整的設(shè)備的性能，需要以高精度將模具圖案轉(zhuǎn)印到基板上的圖案的預(yù)定位置。這時(shí)，通常將模具上形成的圖案形狀調(diào)整為基板上的圖案形狀。例如，日本特開(kāi)第2008-504141號(hào)公報(bào)提出了包括通過(guò)從周邊按下或者拉出模具來(lái)對(duì)模具的圖案形狀進(jìn)行校正的校正機(jī)構(gòu)的壓印裝置。
[0004]國(guó)際公開(kāi)第99/36949號(hào)公報(bào)提出了一種對(duì)在不同轉(zhuǎn)印方法的曝光裝置之間的各投影光學(xué)系統(tǒng)中產(chǎn)生的像差進(jìn)行校正的方法。在國(guó)際公開(kāi)第99/36949號(hào)公報(bào)中公開(kāi)的這種方法將投影光學(xué)系統(tǒng)調(diào)整為各曝光裝置的投影光學(xué)系統(tǒng)可容易地校正的形狀，并且對(duì)該形狀進(jìn)行調(diào)整和校正。
[0005]然而，壓印裝置難以通過(guò)模具校正機(jī)構(gòu)對(duì)模具的圖案形狀進(jìn)行大的校正。壓印裝置可執(zhí)行的校正方法是有限的。另外，模具可能在諸如接觸樹(shù)脂和模具、填充樹(shù)脂、光照射、使樹(shù)脂固化以及移除的一系列壓印步驟中變形。特別地，當(dāng)一次在多個(gè)拍攝區(qū)域或者基板的整個(gè)表面的拍攝區(qū)域中進(jìn)行壓印處理時(shí)，由于在各個(gè)拍攝區(qū)域中形成的圖案的形狀不同，因此在日本特開(kāi)第2008-504141號(hào)公報(bào)和國(guó)際公開(kāi)第99/36949號(hào)公報(bào)中公開(kāi)的方法中難以進(jìn)行校正。其結(jié)果是，重疊精度可能降低。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明提供了一種包括用于改善與下層的重疊精度的壓印處理的圖案形成方法。
[0007]本發(fā)明在其第一方面提供了一種在基板上形成圖案的方法，所述方法包括:第一步驟，在所述基板上的各拍攝區(qū)域中形成第一圖案以限定第一拍攝布置；以及第二步驟，在所述第一步驟中限定的所述第一拍攝區(qū)域中的至少一個(gè)拍攝區(qū)域中的每個(gè)中，進(jìn)行在使所述基板上的所述壓印材料和模具彼此接觸的同時(shí)使所述壓印材料固化的壓印處理，從而在所述第一圖案上的所述壓印材料上形成第二圖案，并且限定第二拍攝布置，其中，在所述第二步驟中，修正所述第二拍攝布置，以通過(guò)使所述模具變形來(lái)減小所述第一拍攝布置和所述第二拍攝布置的重疊誤差，并且其中，在所述第一步驟中，基于在通過(guò)使所述模具變形來(lái)對(duì)所述模具上形成的所述第二圖案進(jìn)行修正之后進(jìn)行所述第二步驟的情況下、所述基板上可限定的估計(jì)的第二拍攝布置的信息，形成所述第一圖案，以使所述第一拍攝布置和所述第二拍攝布置的重疊誤差在容許范圍內(nèi)。
[0008]本發(fā)明在其第二方面提供了一種在基板上的各個(gè)拍攝區(qū)域中形成第一圖案的光刻裝置，所述光刻裝置包括:獲得單元，其被配置為在所述第一圖案上的至少一個(gè)拍攝區(qū)域中的每個(gè)中，進(jìn)行在使所述基板上的所述壓印材料和模具彼此接觸的同時(shí)使所述壓印材料固化的壓印處理，從而形成第二圖案，并且獲得通過(guò)進(jìn)行形成所述第二圖案的壓印處理能夠而可形成的估計(jì)的第二拍攝布置的信息；以及控制器，其被配置為基于由所述獲得單元獲得的所述第二拍攝布置的信息，形成所述第一圖案，限定第一拍攝布置，并且形成變?yōu)樗薅ǖ呐臄z布置的第一圖案，其中，所述第二拍攝布置的信息是通過(guò)在使所述模具變形來(lái)對(duì)所述模具上形成的第二圖案進(jìn)行修正之后進(jìn)行形成第二圖案的壓印處理、所述基板上可限定的估計(jì)的拍攝布置的信息。
[0009]本發(fā)明在其第三方面提供一種在基板上形成圖案的光刻系統(tǒng)，所述光刻系統(tǒng)包括:光刻裝置，其被配置為在所述基板上的各個(gè)拍攝區(qū)域中形成第一圖案，并且限定第一拍攝布置；以及壓印裝置，其被配置為在所限定的第一拍攝布置中的至少一個(gè)拍攝區(qū)域中的每個(gè)中，進(jìn)行在使模具與樹(shù)脂接觸的同時(shí)使所述樹(shù)脂固化的壓印處理，從而在所述第一圖案上的所述樹(shù)脂上形成第二圖案，并且限定第二拍攝布置，其中，基于在進(jìn)行所述壓印處理的情況下、所述基板上可限定的估計(jì)的所述第二拍攝布置的信息，所述光刻裝置形成所述第一圖案，以使所述第一拍攝布置和所述第二拍攝布置的重疊誤差在容許范圍內(nèi)，并且其中，所述第二拍攝布置的信息是通過(guò)在第二圖案之后進(jìn)行形成第二圖案的壓印處理、所述基板上可限定的估計(jì)的拍攝布置的信息。
[0010]本發(fā)明在其第四方面提供一種制造物品的方法，所述方法包括:使用光刻系統(tǒng)在基板上形成圖案；以及對(duì)形成了所述圖案的所述基板進(jìn)行處理以制造所述物品，所述光刻系統(tǒng)包括:光刻裝置，其被配置為在所述基板上的各個(gè)拍攝區(qū)域中形成第一圖案，并且限定第一拍攝布置；以及壓印裝置，其被配置為在所限定的第一拍攝布置中的至少一個(gè)拍攝區(qū)域中的每個(gè)中，進(jìn)行在使模具與樹(shù)脂接觸的同時(shí)使所述樹(shù)脂固化的壓印處理，從而在所述第一圖案上的所述樹(shù)脂上形成第二圖案，并且限定第二拍攝布置，其中，基于在進(jìn)行所述壓印處理的情況下、所述基板上可限定的估計(jì)的所述第二拍攝布置的信息，所述光刻裝置形成所述第一圖案，以使所述第一拍攝布置和所述第二拍攝布置的重疊誤差在容許范圍內(nèi)，并且其中，所述第二拍攝布置的信息是通過(guò)在使所述模具變形來(lái)對(duì)所述模具上形成的第二圖案進(jìn)行修正之后進(jìn)行形成第二圖案的壓印處理、所述基板上可限定的估計(jì)的拍攝布置的信息。
[0011]通過(guò)以下參照附圖對(duì)示例性實(shí)施例的描述，本發(fā)明的其他特征將變得清楚。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0012]圖1是示出壓印裝置的圖；
[0013]圖2是示出壓印裝置的模具的校正機(jī)構(gòu)的圖；
[0014]圖3A和圖3B是分別示出模具側(cè)標(biāo)記和基板側(cè)標(biāo)記的布置的圖；
[0015]圖4A至圖4E是示出模具和基板之間的圖案形狀的差異的圖；
[0016]圖5A至圖5C是示出壓印處理的圖；
[0017]圖6是示出模具的轉(zhuǎn)印區(qū)域和基板端之間的關(guān)系的圖；
[0018]圖7是示出曝光裝置的圖；
[0019]圖8A至圖SE是各自示出曝光裝置進(jìn)行的轉(zhuǎn)印形狀的校正的狀態(tài)的圖；
[0020]圖9A至圖9C是示出同時(shí)在多個(gè)拍攝區(qū)域(shot reg1n)中壓印圖案時(shí)的轉(zhuǎn)印圖案信息管理方法的圖；以及
[0021]圖10是示出光刻系統(tǒng)和圖案形成方法的圖。

【具體實(shí)施方式】
[0022]現(xiàn)在，參照附圖詳細(xì)描述根據(jù)本發(fā)明的圖案形成方法的實(shí)施例。在各個(gè)圖中，相同的附圖標(biāo)記表示相同的部分，并且省略其重復(fù)描述。圖1是示出在本實(shí)施例中使用的壓印裝置100的布置的圖。壓印裝置100通過(guò)進(jìn)行在使模具與樹(shù)脂接觸的同時(shí)、使樹(shù)脂(壓印材料)固化的壓印處理，在基板上的樹(shù)脂上形成圖案。作為樹(shù)脂固化法，本實(shí)施例采用通過(guò)紫外線的照射使樹(shù)脂固化的光固化法。
[0023]壓印裝置100包括保持模具11的模具保持單元12、保持基板(晶片)13的基板保持單元14、檢測(cè)器(校準(zhǔn)用示波器(alignment scope)) 15、對(duì)模具11的形狀進(jìn)行校正的校正機(jī)構(gòu)16以及控制器。壓印裝置100還包括用于將紫外線固化樹(shù)脂供給到基板上的樹(shù)脂供給單元(分配器)、用于保持模具保持單元12的橋板(bridge plate)和用于保持基板保持單元14的底板(base plate)。
[0024]模具11具有要轉(zhuǎn)印到基板上的樹(shù)脂的圖案形成為三維形狀的圖案表面11a。模具11由能夠透射用于使基板上的樹(shù)脂固化的紫外線的諸如石英的材料構(gòu)成。在模具11的圖案表面Ila上形成模具側(cè)標(biāo)記18。模具保持單元12是保持模具11的保持機(jī)構(gòu)。模具保持單元12包括對(duì)模具11進(jìn)行真空吸附或者靜電吸附的模具吸盤、放置有模具吸盤的模具臺(tái)以及驅(qū)動(dòng)模具臺(tái)的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。模具臺(tái)的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)驅(qū)動(dòng)模具臺(tái)，由此至少沿Z軸方向(相對(duì)于樹(shù)脂的模具11的壓印方向)驅(qū)動(dòng)模具11。模具臺(tái)的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)可以具有不僅沿Z軸方向，還沿X軸方向、Y軸方向和Θ (繞Z軸的旋轉(zhuǎn))方向驅(qū)動(dòng)模具臺(tái)的功能。
[0025]基板(晶片)13是轉(zhuǎn)印了模具11的圖案的基板?；?3包括例如單晶硅基板和SOI (絕緣體上硅)基板。向基板13供給(涂布)樹(shù)脂。在基板上的各個(gè)拍攝區(qū)域中形成基板側(cè)標(biāo)記19?；灞３謫卧?4是保持基板13的保持機(jī)構(gòu)?；灞３謫卧?4包括對(duì)基板13進(jìn)行真空吸附或者靜電吸附的基板吸盤、放置有基板吸盤的基板臺(tái)以及驅(qū)動(dòng)基板臺(tái)的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。基板臺(tái)的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)驅(qū)動(dòng)基板臺(tái)，由此至少沿X軸方向和Y軸方向(與模具11的壓印方向垂直的方向)驅(qū)動(dòng)基板13?；迮_(tái)的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)可以具有不僅沿X軸方向和Y軸方向，還沿Z軸方向和Θ (繞Z軸的旋轉(zhuǎn))方向驅(qū)動(dòng)基板臺(tái)的功能。
[0026]檢測(cè)器15由對(duì)在模具11上形成的模具側(cè)標(biāo)記18和在基板13上的各個(gè)拍攝區(qū)域中形成的基板側(cè)標(biāo)記19進(jìn)行光學(xué)檢測(cè)(觀察)的示波器構(gòu)成。檢測(cè)器15足夠檢測(cè)模具側(cè)標(biāo)記18和基板側(cè)標(biāo)記19之間的相對(duì)位置關(guān)系。因此，檢測(cè)器15可以由包括同時(shí)捕獲模具側(cè)標(biāo)記18和基板側(cè)標(biāo)記19兩者的光學(xué)系統(tǒng)的示波器或者檢測(cè)諸如兩個(gè)標(biāo)記的干涉信號(hào)或者波紋(moir6)的反映相對(duì)位置關(guān)系的信號(hào)的示波器構(gòu)成。檢測(cè)器15可以不同時(shí)檢測(cè)模具側(cè)標(biāo)記18和基板側(cè)標(biāo)記19。例如，檢測(cè)器15可以通過(guò)獲得相對(duì)于布置在內(nèi)部的基準(zhǔn)位置的模具側(cè)標(biāo)記18和基板側(cè)標(biāo)記19的各自位置，來(lái)檢測(cè)模具側(cè)標(biāo)記18和基板側(cè)標(biāo)記19之間的相對(duì)位置關(guān)系。
[0027]校正機(jī)構(gòu)16通過(guò)沿與圖案表面I Ia平行的方向?qū)δ＞?1施加力，使圖案表面I Ia的形狀變形。例如，如圖2所示，校正機(jī)構(gòu)16包括吸附圖案表面Ila的側(cè)表面的吸附單元(suct1n unit) 16a以及沿朝向和遠(yuǎn)離圖案表面Ila的側(cè)表面的方向驅(qū)動(dòng)吸附單元16a的致動(dòng)器16b。注意，校正機(jī)構(gòu)16可以通過(guò)對(duì)模具11施加熱并且對(duì)模具11的溫度進(jìn)行控制，來(lái)使圖案表面Ila變形。
[0028]控制器包括CPU和存儲(chǔ)器，并對(duì)壓印裝置100的各個(gè)單元進(jìn)行控制。控制器對(duì)壓印處理和與其相關(guān)聯(lián)的處理進(jìn)行控制。例如，當(dāng)進(jìn)行壓印處理時(shí)，控制器基于檢測(cè)器15的檢測(cè)結(jié)果，將模具11和基板13對(duì)準(zhǔn)。此外，當(dāng)進(jìn)行壓印處理時(shí)，控制器對(duì)校正機(jī)構(gòu)16進(jìn)行的模具11的圖案表面Ila的變形量進(jìn)行控制。
[0029]參照?qǐng)D3A和圖3B,說(shuō)明用于對(duì)準(zhǔn)I旲具11和基板13的I旲具側(cè)標(biāo)記18和基板側(cè)標(biāo)記19。本實(shí)施例假設(shè)在基板13上的一個(gè)拍攝區(qū)域中布置了 6個(gè)芯片區(qū)域。圖3A示出了在模具11的圖案表面Ila的4個(gè)角形成的模具側(cè)標(biāo)記18a至18h。例如，縱向方向在水平方向上的模具側(cè)標(biāo)記18a、18b、18e和18f是測(cè)量方向在X軸方向上的標(biāo)記?？v向方向在垂直方向上的模具側(cè)標(biāo)記18c、18d、18g和18h是測(cè)量方向在Y軸方向上的標(biāo)記。在圖3A中，由虛線包圍的區(qū)域是形成有要轉(zhuǎn)印到6個(gè)各自的芯片區(qū)域的圖案的圖案區(qū)域。
[0030]圖3B示出了在基板上的一個(gè)拍攝區(qū)域的4個(gè)角形成的基板側(cè)標(biāo)記19a至19h。例如，縱向方向在水平方向上的基板側(cè)標(biāo)記19a、19b、19e和19f是測(cè)量方向在X軸方向上的標(biāo)記?？v向方向在垂直方向上的基板側(cè)標(biāo)記19c、19d、19g和19h是測(cè)量方向在Y軸方向上的標(biāo)記。在圖3B中，拍攝區(qū)域13a內(nèi)部的、由實(shí)線包圍的區(qū)域是芯片區(qū)域。
[0031]當(dāng)進(jìn)行壓印處理時(shí)，即當(dāng)使模具11和基板13上的樹(shù)脂彼此接觸時(shí)，各個(gè)模具側(cè)標(biāo)記18a至18h和各個(gè)基板側(cè)標(biāo)記19a至19h彼此靠近。檢測(cè)器15檢測(cè)模具側(cè)標(biāo)記18和基板側(cè)標(biāo)記19。能夠?qū)⒛＞?1的圖案表面Ila的形狀和位置與基板13上的拍攝區(qū)域13a的形狀和位置進(jìn)行比較。如果在模具11的圖案表面Ila的形狀和位置與基板13上的拍攝區(qū)域13a的形狀和位置之間產(chǎn)生了大的差異(偏差)，則重疊誤差超過(guò)容許范圍，從而導(dǎo)致圖案轉(zhuǎn)印錯(cuò)誤(產(chǎn)品缺陷)。
[0032]圖4A至圖4E是示出在模具11的圖案表面Ila的形狀和位置與基板13上的拍攝區(qū)域13a的形狀和位置之間產(chǎn)生的偏差(第二拍攝布置)的圖。模具11和拍攝區(qū)域13a之間的偏差包含移位、倍率偏差、旋轉(zhuǎn)等。通過(guò)檢測(cè)模具側(cè)標(biāo)記18相對(duì)于基板側(cè)標(biāo)記19的位置偏差量，能夠估計(jì)偏差是移位、倍率偏差和旋轉(zhuǎn)中的哪一個(gè)。
[0033]圖4A示出了模具11和拍攝區(qū)域13a之間的偏差是移位的情況。當(dāng)檢測(cè)到模具側(cè)標(biāo)記18在一個(gè)方向上從基板側(cè)標(biāo)記19偏離時(shí)，能夠估計(jì)模具11和拍攝區(qū)域13a之間的偏差是移位。圖4B示出了模具11和拍攝區(qū)域13a之間的偏差是倍率偏差的情況。當(dāng)檢測(cè)到模具側(cè)標(biāo)記18相對(duì)于拍攝區(qū)域13a的中心向外或向內(nèi)偏離時(shí)，能夠估計(jì)偏差是倍率偏差。圖4C示出了模具11和拍攝區(qū)域13a之間的偏差是梯形偏差的情況。當(dāng)檢測(cè)到模具側(cè)標(biāo)記18相對(duì)于拍攝區(qū)域13a的中心向外或向內(nèi)偏離，并且方向在拍攝區(qū)域13a的上側(cè)和下側(cè)或者左側(cè)和右側(cè)之間不同時(shí)，能夠估計(jì)偏差是梯形偏差。此外，當(dāng)檢測(cè)到模具側(cè)標(biāo)記18相對(duì)于拍攝區(qū)域13a的中心向外或向內(nèi)偏離，并且偏差量在拍攝區(qū)域13a的上側(cè)和下側(cè)或者左側(cè)和右側(cè)之間不同時(shí)，能夠估計(jì)偏差是梯形偏差。
[0034]圖4D示出了模具11和拍攝區(qū)域13a之間的偏差是扭曲的情況。當(dāng)檢測(cè)到模具側(cè)標(biāo)記18在拍攝區(qū)域13a的上側(cè)和下側(cè)或者左側(cè)和右側(cè)之間沿不同的方向偏離時(shí)，能夠估計(jì)偏差是扭曲。圖4E示出了模具11和拍攝區(qū)域13a之間的偏差是旋轉(zhuǎn)的情況。當(dāng)模具側(cè)標(biāo)記18在圖4D中在拍攝區(qū)域13a的上側(cè)和下側(cè)或者左側(cè)和右側(cè)之間沿不同的方向偏離，并且以使用拍攝區(qū)域中的給定點(diǎn)作為中心描繪圓的方式偏離時(shí)，能夠估計(jì)偏差是旋轉(zhuǎn)。
[0035]如圖4B至圖4E所不，當(dāng)模具11和拍攝區(qū)域13a之間的偏差是倍率偏差、梯形偏差、扭曲、旋轉(zhuǎn)等時(shí)，控制器對(duì)校正機(jī)構(gòu)16進(jìn)行控制，以使模具11的圖案表面Ila的形狀變形。更具體來(lái)說(shuō)，控制器對(duì)校正機(jī)構(gòu)16進(jìn)行的圖案表面Ila的變形量進(jìn)行控制，使得圖案表面Ila的形狀變?yōu)榕臄z區(qū)域13a的形狀?？刂破黝A(yù)先獲得表示致動(dòng)器16b的驅(qū)動(dòng)量(即要對(duì)模具11施加的力)和圖案表面Ila的變形量之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系的數(shù)據(jù)，并且將數(shù)據(jù)存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器等中?；跈z測(cè)器15的檢測(cè)結(jié)果，控制器計(jì)算使圖案表面Ila的形狀與拍攝區(qū)域13a的形狀一致所需的圖案表面Ila的變形量。換句話說(shuō)，根據(jù)檢測(cè)器15檢測(cè)到的模具側(cè)標(biāo)記18和基板側(cè)標(biāo)記19之間的位置偏差量，控制器計(jì)算圖案表面Ila變形的程度。然后，控制器從存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)中獲得與計(jì)算出的圖案表面Ila的變形量相對(duì)應(yīng)的致動(dòng)器16b的驅(qū)動(dòng)量，并且驅(qū)動(dòng)致動(dòng)器16b。以上述方式進(jìn)行模具11和拍攝區(qū)域13a的對(duì)準(zhǔn)和形狀校正，并且將模具圖案轉(zhuǎn)印到基板上。
[0036]參照?qǐng)D5A至圖5C，說(shuō)明通過(guò)壓印處理將模具11的圖案轉(zhuǎn)印到基板上的樹(shù)脂的狀態(tài)。如圖5A所示，在壓印開(kāi)始之前，對(duì)基板上的壓印目標(biāo)區(qū)域涂布樹(shù)脂20。因?yàn)閴河?shù)脂極其易于揮發(fā)，所以緊接在壓印處理之前涂布通常使用的壓印樹(shù)脂。如果揮發(fā)性低，則可以預(yù)先使用旋涂(spin coating)等涂布樹(shù)脂。如上所述，控制器控制檢測(cè)器15測(cè)量模具側(cè)標(biāo)記18和基板側(cè)標(biāo)記19的相對(duì)位置，并且進(jìn)行兩個(gè)標(biāo)記18和19的對(duì)準(zhǔn)以及模具11的形狀校正。除了用于進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)的模具側(cè)標(biāo)記18之外，模具11還具有刻有元件圖案的圖案表面Ila0
[0037]如圖5B所示，控制器使模具11與樹(shù)脂20接觸，以用樹(shù)脂20填充模具11的圖案部分(三維結(jié)構(gòu))。此時(shí)，由于樹(shù)脂20透射可見(jiàn)光，因此能夠測(cè)量基板側(cè)標(biāo)記19。模具11使用由石英等制成的透明基板，以用紫外線使樹(shù)脂20固化。因此，在一些情況下，模具11和樹(shù)脂20之間的折射率差較小，并且可能無(wú)法僅通過(guò)三維結(jié)構(gòu)來(lái)測(cè)量模具側(cè)標(biāo)記18。因此，提出了對(duì)模具側(cè)標(biāo)記18涂布折射率或者透射率與模具11不同的物質(zhì)或者通過(guò)離子照射等改變標(biāo)記部分的折射率中的各個(gè)的方法。通過(guò)使用這些方法，即使在圖5B的狀態(tài)下，檢測(cè)器15也能夠測(cè)量模具側(cè)標(biāo)記18。
[0038]圖5C示出了通過(guò)紫外線照射樹(shù)脂20來(lái)使樹(shù)脂20固化，然后將模具11從基板13釋放的狀態(tài)。通過(guò)照射紫外線，將模具11的圖案轉(zhuǎn)印到基板13。同時(shí)，也將模具側(cè)標(biāo)記18轉(zhuǎn)印到基板13，從而在基板13上形成轉(zhuǎn)印標(biāo)記21。轉(zhuǎn)印標(biāo)記21是轉(zhuǎn)印到基板上的圖案。通過(guò)測(cè)量轉(zhuǎn)印標(biāo)記21和基板側(cè)標(biāo)記19的相對(duì)位置，能夠進(jìn)行它們之間的重疊檢查。
[0039]需要以與預(yù)定模具的線寬相等的倍率描繪在壓印裝置100中使用的模具11。當(dāng)重復(fù)進(jìn)行壓印處理時(shí)，模具11接觸樹(shù)脂許多次，由釋放引起的損壞被累積，并且出現(xiàn)圖案的破損等。用電子束描繪裝置等的直接描繪成本高，并且使生產(chǎn)成本大大增加。為了防止這種情況，提出了制作主模并且轉(zhuǎn)印該模具以制作復(fù)制模具的方法。在這種情況下，不可避免地出現(xiàn)轉(zhuǎn)印時(shí)的圖案畸變、扭曲等。還提出了同時(shí)在多個(gè)拍攝區(qū)域中壓印圖案以提高生產(chǎn)率的方法，以及一次在基板的整個(gè)表面上轉(zhuǎn)印圖案的方法。然而，如果圖案表面的面積增力口，則出現(xiàn)諸如較大的圖案畸變或者扭曲的圖案形狀的劣化。由于轉(zhuǎn)印大面積模具，因此還出現(xiàn)由于保持或者轉(zhuǎn)印而導(dǎo)致的形狀改變。模具校正機(jī)構(gòu)通過(guò)如上所述從周邊對(duì)由諸如石英的材料構(gòu)成的模具施加力來(lái)使模具變形，并且對(duì)模具的圖案形狀進(jìn)行校正。因此，即使偏差是如上所述的倍率偏差、梯形偏差、扭曲、旋轉(zhuǎn)等，校正量也是有限的。如果為了對(duì)模具進(jìn)行校正而施加相當(dāng)大的力，則模具本身有被破壞的可能性。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)在模具具有較大面積的情況下，通過(guò)從模具的周邊使模具變形，難以使模具中心附近的部分變形。如下面所描述的，通過(guò)從模具的周邊施加力，難以對(duì)如圖9A至圖9C所示的模具圖案中的芯片和拍攝布置進(jìn)行校正。因此，僅使用模具的校正機(jī)構(gòu)16無(wú)法對(duì)它們?nèi)窟M(jìn)行校正。
[0040]因此，本發(fā)明人提出了如下方法:例如，當(dāng)通過(guò)投影曝光裝置形成下層圖案(第一圖案)時(shí)，將其校正為具有符合由在后續(xù)階段中使用的壓印裝置100形成的圖案(第二圖案)的形狀的圖案形狀。下面描述測(cè)量在模具11的圖案表面Ila上形成的圖案的形狀的方法。當(dāng)在模具11中形成的圖案的形狀性能大大影響通過(guò)壓印處理轉(zhuǎn)印到基板13的圖案時(shí)，預(yù)先以高精度測(cè)量模具11的圖案形狀，并且使用該圖案形狀作為使用模具11時(shí)的校正量。
[0041]當(dāng)由于模具保持單元12保持模具11而導(dǎo)致的形狀改變大大影響模具11的轉(zhuǎn)印圖案的形狀時(shí)，需要在將模具11附裝到壓印裝置100的狀態(tài)下，測(cè)量模具11的圖案形狀。如圖1所示，模具保持單元12保持使用的模具11。當(dāng)模具保持單元12保持模具11時(shí)，對(duì)模具11增加力，從而使其變形。然后，對(duì)與在模具11上形成的圖案基準(zhǔn)的形狀差進(jìn)行測(cè)量，從而對(duì)變形的模具11的圖案形狀進(jìn)行測(cè)量。使用基準(zhǔn)基板或者在基板臺(tái)上形成的基準(zhǔn)標(biāo)記22作為基準(zhǔn)?；鶞?zhǔn)基板是為了進(jìn)行檢查而制作的基板，壓印裝置外部的測(cè)量裝置預(yù)先以高精度對(duì)其構(gòu)成圖案進(jìn)行測(cè)量和管理?；鶞?zhǔn)標(biāo)記22通過(guò)使用電子束描繪裝置等構(gòu)成圖案，并且以高精度對(duì)該圖案進(jìn)行管理。
[0042]通過(guò)使用圖4A至圖4E所示的方法，測(cè)量上述基準(zhǔn)和在模具11上形成的標(biāo)記之間的相對(duì)位置關(guān)系，能夠測(cè)量模具11的圖案形狀。在圖4A至4E中，對(duì)在模具11上形成的8個(gè)標(biāo)記進(jìn)行測(cè)量。然而，當(dāng)圖案區(qū)域?qū)捇蛘咝枰暂^高精度執(zhí)行測(cè)量時(shí)，可以在更大數(shù)量的點(diǎn)處測(cè)量圖案形狀。
[0043]當(dāng)在將模具11保持在裝置中的同時(shí)進(jìn)行壓印處理時(shí)的模具11的形狀改變大大影響轉(zhuǎn)印圖案的形狀時(shí)，需要反映壓印裝置實(shí)際進(jìn)行壓印處理的結(jié)果。
[0044]如圖5A至圖5C所示，當(dāng)轉(zhuǎn)印模具11的圖案時(shí)，將模具側(cè)標(biāo)記18和圖案轉(zhuǎn)印到基板上。通過(guò)測(cè)量該轉(zhuǎn)印的圖案的形狀，能夠獲得在壓印處理中模具11的形狀改變后的轉(zhuǎn)印圖案的形狀。此外，轉(zhuǎn)印的行為可以依據(jù)在基板表面上的位置而改變。例如，基板13等的保持狀態(tài)在基板13的中心附近進(jìn)行壓印和在基板13的周邊進(jìn)行壓印之間不同，因此轉(zhuǎn)印圖案的形狀可能改變。特別地，如圖6所示，在模具11的圖案表面Ila位于基板13的邊緣上的情況下，行為很可能與在其他情況不同。圖6示出了 6個(gè)芯片被轉(zhuǎn)印為一個(gè)拍攝區(qū)域，但是僅它們中的3個(gè)能夠被轉(zhuǎn)印到基板13上的狀態(tài)。然而，如果甚至一個(gè)芯片能夠被轉(zhuǎn)印，則從生產(chǎn)率而言應(yīng)當(dāng)進(jìn)行壓印處理。在這種情況下，與在拍攝區(qū)域的整個(gè)表面上的壓印處理相比，轉(zhuǎn)印步驟中的行為很可能被改變。因此，當(dāng)如圖6所示在包括基板13的邊緣的轉(zhuǎn)印部分處或者在基板表面上，轉(zhuǎn)印圖案形狀改變時(shí)，需要針對(duì)各情況獲得模具11的轉(zhuǎn)印圖案的形狀。例如，從裝置中提取通過(guò)圖5A至圖5C所示的方法轉(zhuǎn)印在基板上的圖案，以通過(guò)測(cè)量裝置測(cè)量圖案的形狀。通過(guò)這些方法，也能夠以高精度獲得轉(zhuǎn)印的圖案的形狀，并且能夠獲得更準(zhǔn)確的形狀。
[0045]通過(guò)將模具11的圖案轉(zhuǎn)印到如上所述的基準(zhǔn)基板，測(cè)量轉(zhuǎn)印的圖案(標(biāo)記)和在基準(zhǔn)基板上形成的下層圖案的相對(duì)位置，并且能夠獲得轉(zhuǎn)印圖案的形狀。在這種情況下，例如，也可以使用布置在壓印裝置中的檢測(cè)器15。能夠使用圖4A至圖4E所示的方法根據(jù)這些圖案的相對(duì)位置來(lái)測(cè)量形狀。這種方法不需要在壓印裝置外部的測(cè)量裝置，能夠有效地測(cè)量形狀，并且消除了單獨(dú)準(zhǔn)備測(cè)量裝置的需要。例示了具有在裝置外部的測(cè)量裝置等預(yù)先以高精度測(cè)量并管理的圖案的基準(zhǔn)基板，作為以高精度測(cè)量圖案形狀的基準(zhǔn)。然而，可以使用實(shí)際使用的基板。示例是用于在壓印處理開(kāi)始之前設(shè)置壓印條件的所謂的試作晶片(pilot wafer)。
[0046]在實(shí)際生產(chǎn)步驟中，將下層圖案和壓印裝置中的轉(zhuǎn)印圖案之間的差反饋回使用投影曝光裝置形成下層圖案的制作步驟。隨著生產(chǎn)進(jìn)行，能夠進(jìn)一步提高重疊精度。在本實(shí)施例中，諸如校正機(jī)構(gòu)16的壓印裝置中的校正機(jī)構(gòu)不對(duì)模具11的圖案進(jìn)行校正。然而，壓印裝置中的校正機(jī)構(gòu)可以對(duì)模具11的圖案進(jìn)行校正。例如，校正機(jī)構(gòu)16可以獲得校正機(jī)構(gòu)16沒(méi)有進(jìn)行校正的狀態(tài)下的轉(zhuǎn)印圖案的形狀。在這種情況下，將通過(guò)從獲得的轉(zhuǎn)印圖案形狀和下層圖案之間的差中減去校正機(jī)構(gòu)16的校正量而獲得的差，設(shè)置為投影曝光裝置的校正量。這使得能夠由壓印裝置的校正機(jī)構(gòu)對(duì)可能在下層中出現(xiàn)的制造誤差進(jìn)行校正，因此能夠大大改善對(duì)拍攝形狀的調(diào)整。相反，可以以上述方式獲得校正機(jī)構(gòu)16能夠盡可能進(jìn)行的校正的項(xiàng)目和量，并且可以將獲得的轉(zhuǎn)印圖案和下層圖案之間的差設(shè)置為投影曝光裝置的校正量。換句話說(shuō)，由壓印裝置進(jìn)行校正機(jī)構(gòu)16能夠進(jìn)行的校正的項(xiàng)目和量，并且由下層側(cè)進(jìn)行其他校正的項(xiàng)目和量，由此將校正的項(xiàng)目和量劃分為針對(duì)模具的校正的項(xiàng)目和量和針對(duì)下層的校正的項(xiàng)目和量。這使得能夠減小下層的拍攝形狀的變形量。因?yàn)樵谝幌盗刑幚碇羞M(jìn)行多次圖案轉(zhuǎn)印，因此自然存在拍攝形狀的變形容許量。因此，本發(fā)明的方法解決了減小下層的拍攝形狀的變形量的需要。
[0047]在這里描述的測(cè)量方法中，還需要考慮壓印裝置和模具11的組合，即在裝置之間是否存在差，或者形狀變形是否可再現(xiàn)。例如，如果由于保持而引起的模具11的變形在裝置之間相等，則不管進(jìn)行壓印處理的裝置如何，只要型號(hào)相同即可，則可以使用同一轉(zhuǎn)印圖案形狀的數(shù)據(jù)。因此，在進(jìn)行測(cè)量時(shí)，希望對(duì)裝置之間的差或者可再現(xiàn)性進(jìn)行測(cè)量。
[0048]通過(guò)在多個(gè)壓印裝置中對(duì)同一模具11進(jìn)行相同的測(cè)量，能夠獲得裝置之間的變形差。如果在裝置之間存在差，則壓印裝置和模具11的組合是不可缺少的信息，并且需要對(duì)裝置的標(biāo)識(shí)數(shù)據(jù)進(jìn)行管理。通過(guò)重復(fù)從保持模具11直到由單個(gè)壓印裝置進(jìn)行多次測(cè)量的步驟，能夠獲得可再現(xiàn)性。如果測(cè)量結(jié)果改變，則獲得它們的平均形狀，并且壓印裝置中布置的校正機(jī)構(gòu)16按照變化執(zhí)行精細(xì)校正。以這種方式，能夠獲得要由壓印裝置轉(zhuǎn)印的圖案形狀。
[0049]基于要由上述壓印裝置轉(zhuǎn)印的圖案形狀，投影曝光裝置200形成作為壓印裝置100進(jìn)行圖案形狀之前的階段的下層圖案。對(duì)投影曝光裝置中的圖像畸變的產(chǎn)生進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。首先，參照?qǐng)D7和圖8A至圖SE，說(shuō)明相對(duì)簡(jiǎn)單步進(jìn)&重復(fù)縮小投影曝光裝置(步進(jìn)器)中的圖像畸變的產(chǎn)生。如圖7所示，步進(jìn)器使用雙遠(yuǎn)心投影光學(xué)系統(tǒng)PO。當(dāng)沿與投影光學(xué)系統(tǒng)PO的光軸平行的方向驅(qū)動(dòng)構(gòu)成的透鏡元件或者掩模(標(biāo)線)R時(shí)，出現(xiàn)關(guān)于光軸對(duì)稱的分量的圖像改變(倍率分量)。此外，要驅(qū)動(dòng)的透鏡元件能夠產(chǎn)生例如由圖8A中的虛線指示的正方形圖案的圖像改變?yōu)槿鐚?shí)線所指示的形狀的對(duì)稱畸變(桶形畸變)。當(dāng)使用標(biāo)線側(cè)為非遠(yuǎn)心的投影光學(xué)系統(tǒng)作為投影光學(xué)系統(tǒng)PO時(shí)，通過(guò)沿投影光學(xué)系統(tǒng)PO的光軸方向驅(qū)動(dòng)透鏡元件，僅能夠改變倍率。
[0050]當(dāng)標(biāo)線R或者透鏡元件相對(duì)于與投影光學(xué)系統(tǒng)PO的光軸垂直的平面傾斜時(shí)，正方形圖案可以被改變?yōu)槿鐖D8B所示的實(shí)線所指示的梯形形狀。即，通過(guò)使用旋轉(zhuǎn)軸作為中心改變倍率分量，能夠產(chǎn)生梯形畸變。不僅透鏡元件，而且其他構(gòu)成的光學(xué)元件可以被配置為可驅(qū)動(dòng)的。作為另選方案，可以將包括多個(gè)透鏡的透鏡組配置為可驅(qū)動(dòng)的。通過(guò)移動(dòng)給定透鏡元件的位置或者朝向而獲得的圖案形狀取決于光學(xué)布置。因此，根據(jù)需要選擇要移動(dòng)的透鏡元件。
[0051]通常，當(dāng)產(chǎn)生圖像畸變時(shí)，圖像平面位置(聚焦)、彗形像差等與產(chǎn)生的圖像畸變一起隨之改變，因此需要驅(qū)動(dòng)標(biāo)線R和透鏡元件來(lái)抵消這種改變。通過(guò)例示圖像平面位置(聚焦)、彗形像差和畸變?nèi)撸瑏?lái)簡(jiǎn)單地說(shuō)明這種情況。例如，為了僅改變畸變，在初始調(diào)整階段獨(dú)立地驅(qū)動(dòng)標(biāo)線R和透鏡元件的同時(shí)，測(cè)量聚焦、彗形像差和畸變這三個(gè)成像特征，從而獲得這三個(gè)成像特征的改變系數(shù)。使用除了聚焦之外的兩個(gè)成像特征的改變系數(shù)以及標(biāo)線R和透鏡元件的驅(qū)動(dòng)量，設(shè)定具有兩個(gè)未知數(shù)的聯(lián)立線性方程。然后，將預(yù)定量代入方程中的畸變的改變系數(shù)，并且將O代入彗形像差的改變系數(shù)，從而設(shè)定新的聯(lián)立方程。根據(jù)通過(guò)對(duì)這些方程進(jìn)行求解而獲得的驅(qū)動(dòng)量，驅(qū)動(dòng)標(biāo)線R和透鏡元件。因?yàn)楫?dāng)為了對(duì)諸如畸變的其他成像特征進(jìn)行校正而驅(qū)動(dòng)透鏡等時(shí)，聚焦附帶地波動(dòng)，并且需要由其他檢測(cè)單元進(jìn)行校正，因此排除了聚焦。通過(guò)考慮隨之改變的聚焦的波動(dòng)量來(lái)改變聚焦檢測(cè)系統(tǒng)(未示出)的目標(biāo)值，能夠?qū)劢惯M(jìn)行校正。如上所述，靜止曝光步進(jìn)器能夠相對(duì)容易地對(duì)與軸向?qū)ΨQ分量或者傾斜軸成比例地改變的分量進(jìn)行校正。
[0052]在諸如步進(jìn)&掃描曝光裝置的掃描曝光裝置(掃描器)中，在掃描曝光之后形成圖案。因此，僅投影光學(xué)系統(tǒng)PO的圖像形狀的改變不夠。對(duì)掃描期間的掃描方向上的圖像畸變求平均，并且需要對(duì)此進(jìn)行考慮。首先，當(dāng)倍率改變時(shí)，通過(guò)與步進(jìn)器相同的方法，改變投影光學(xué)系統(tǒng)PO的倍率。另外，需要改變標(biāo)線R和基板的相對(duì)掃描速度(同步速度比)。通過(guò)改變投影光學(xué)系統(tǒng)PO的倍率，能夠改變非掃描方向上的倍率。通過(guò)改變標(biāo)線R和基板的同步速度比，能夠改變掃描方向上的倍率。掃描器的主控制器能夠產(chǎn)生由圖8C中的虛線指示的正方形圖案被改變?yōu)橛蓪?shí)線指示的矩形形狀的圖像畸變(矩形分量)。通過(guò)對(duì)標(biāo)線R和基板在掃描方向上的相對(duì)角度給予偏置，能夠產(chǎn)生如圖8D中的實(shí)線指示的圖像畸變(菱形或者平行四邊形圖像畸變)。通過(guò)逐漸改變掃描期間的標(biāo)線R和基板在掃描方向上的相對(duì)角度，能夠產(chǎn)生如圖8E中的實(shí)線指示的圖像畸變。在日本特開(kāi)第6-310399和7-57991號(hào)公報(bào)中，詳細(xì)描述了通過(guò)改變標(biāo)線和基板的同步速度比來(lái)改變掃描方向上的倍率，以及通過(guò)對(duì)標(biāo)線和基板在掃描方向上的相對(duì)角度給予偏置來(lái)產(chǎn)生圖像畸變。
[0053]以這種方式，掃描器能夠在掃描方向和非掃描方向上獨(dú)立地產(chǎn)生圖像畸變，以通過(guò)對(duì)標(biāo)線R和基板進(jìn)行相對(duì)掃描(同步移動(dòng))，來(lái)形成標(biāo)線R的圖案圖像。通過(guò)改變諸如掃描期間的同步速度比和掃描方向上的相對(duì)角度的條件，能夠產(chǎn)生依據(jù)掃描位置改變的圖像畸變。
[0054]通過(guò)上述方法，使用投影曝光裝置200來(lái)制作符合在后續(xù)階段中使用的壓印裝置100的轉(zhuǎn)印圖案的形狀(第二拍攝布置)的形狀(第一拍攝布置)的下層。投影曝光裝置通常針對(duì)各拍攝區(qū)域進(jìn)行曝光處理。然而，在壓印處理中，在轉(zhuǎn)印時(shí)用樹(shù)脂填充模具的三維結(jié)構(gòu)花費(fèi)時(shí)間。因此，同時(shí)將圖案轉(zhuǎn)印到一個(gè)或更多個(gè)拍攝區(qū)域(例如多個(gè)拍攝區(qū)域)的效率高。即，一次經(jīng)歷轉(zhuǎn)印的拍攝區(qū)域的數(shù)量在投影曝光裝置和壓印裝置之間可能不同。檢查如圖9A所示的壓印裝置一次在4個(gè)拍攝區(qū)域中形成圖案的情況。在這種情況下，在轉(zhuǎn)印區(qū)域中產(chǎn)生針墊形狀，因此4個(gè)拍攝區(qū)域A至D具有不同的形狀。為了在該壓印處理步驟(第二步驟)存在于后續(xù)階段中時(shí)，在先前的投影曝光步驟(第一步驟)中對(duì)下層的形狀進(jìn)行校正，需要掌握這4個(gè)各自的拍攝區(qū)域中的圖案的形狀，并對(duì)其進(jìn)行管理和轉(zhuǎn)印。
[0055]不僅需要考慮整個(gè)壓印區(qū)域的畸變和變形，還需要考慮如圖9B所示的在壓印區(qū)域中形成的拍攝區(qū)域(圖案)的相對(duì)位置。
[0056]下文中，將壓印區(qū)域中的拍攝區(qū)域(圖案)的位置和形狀等統(tǒng)稱為“標(biāo)記布置”。
[0057]圖9C示出了使用壓印裝置針對(duì)作為單位的4個(gè)拍攝區(qū)域進(jìn)行壓印處理的示例。在這種情況下，4個(gè)拍攝區(qū)域A至D的拍攝布置的形狀是不同的。因此，投影曝光裝置需要形成下層圖案，使得4個(gè)拍攝區(qū)域中的各個(gè)中的重疊誤差在容許范圍內(nèi)。在基板端部，僅可以形成4個(gè)拍攝區(qū)域中的一些。因此，需要對(duì)經(jīng)歷壓印的拍攝區(qū)域的位置和校正量進(jìn)行管理，以由投影曝光裝置轉(zhuǎn)印圖案。當(dāng)一次在基板的整個(gè)表面上壓印圖案時(shí)，形狀可能在所有拍攝區(qū)域之間是不同的。因此，需要針對(duì)各個(gè)拍攝區(qū)域?qū)πＵ窟M(jìn)行管理，并且由投影曝光裝置轉(zhuǎn)印圖案。
[0058]此外，當(dāng)使用投影曝光裝置形成下層圖案時(shí)，期望使拍攝區(qū)域之間的差最小以同時(shí)經(jīng)歷壓印。例如，對(duì)于掃描器，轉(zhuǎn)印性能可能依據(jù)曝光時(shí)的掃描方向而改變。因此，希望在所有拍攝區(qū)域中在相同的方向上進(jìn)行掃描曝光，以同時(shí)經(jīng)歷壓印。
[0059]參照?qǐng)D10描述根據(jù)本發(fā)明的在基板上形成圖案的光刻系統(tǒng)。該光刻系統(tǒng)包括測(cè)量裝置300、信息處理裝置400、壓印裝置100以及投影曝光裝置200。該光刻系統(tǒng)還包括對(duì)由壓印裝置100或者投影曝光裝置200形成的光致抗蝕圖案進(jìn)行顯影的顯影裝置以及蝕刻裝置。投影曝光裝置200在基板上的各拍攝區(qū)域中形成下層圖案(第一圖案)，并且限定第一拍攝布置。
[0060]壓印裝置100針對(duì)使用投影曝光裝置200限定的第一拍攝布置中的每個(gè)或多個(gè)拍攝區(qū)域進(jìn)行壓印處理，從而在下層圖案上形成第二圖案，并且限定第二拍攝區(qū)域。測(cè)量裝置300進(jìn)行測(cè)量，以獲得在進(jìn)行壓印處理時(shí)在基板上可限定的估計(jì)的第二拍攝布置。信息處理裝置(獲得單元)400獲得測(cè)量裝置300的測(cè)量結(jié)果，并且將其保持作為估計(jì)的第二拍攝布置的信息。
[0061]下面，說(shuō)明測(cè)量裝置300、信息處理裝置400、壓印裝置100和投影曝光裝置200的操作以及當(dāng)光刻系統(tǒng)在基板上形成圖案時(shí)它們之間的信息交換。
[0062](步驟SI)測(cè)量裝置300測(cè)量圖案表面Ila的圖案，以測(cè)量在模具11的圖案表面Ila上形成的圖案的精度。其結(jié)果是，能夠獲得圖案表面Ila本身的形狀。
[0063](步驟S2)測(cè)量裝置300或者壓印裝置中的示波器在壓印裝置保持模具11的狀態(tài)下，或者在壓印步驟中產(chǎn)生的圖案的形狀改變的影響大時(shí)，對(duì)壓印裝置中安裝的必要步驟中的圖案的形狀進(jìn)行測(cè)量。
[0064](步驟S3)信息處理裝置400存儲(chǔ)步驟SI和S2中的測(cè)量結(jié)果。當(dāng)圖案的形狀改變?nèi)Q于模具11和壓印裝置的組合時(shí)，信息處理裝置400保持組合信息和測(cè)量結(jié)果信息的集合，并對(duì)其進(jìn)行管理。信息處理裝置400類似地對(duì)基板表面上或者包括基板邊緣的拍攝區(qū)域中的圖案的變形進(jìn)行管理。
[0065](步驟S4)基于保持的信息，信息處理裝置400向投影曝光裝置200發(fā)送要通過(guò)曝光處理形成的下層圖案的形狀信息。投影曝光裝置200基于從信息處理裝置400接收到的下層圖案形狀信息，通過(guò)曝光處理轉(zhuǎn)印圖案。
[0066](步驟S5)投影曝光裝置200轉(zhuǎn)印了下層圖案的基板13經(jīng)歷諸如顯影和蝕刻的步驟，從而形成下層圖案。
[0067](步驟S6)壓印裝置100通過(guò)對(duì)承載有下層圖案的基板13進(jìn)行壓印處理，來(lái)將圖案轉(zhuǎn)印到基板13。信息處理裝置400對(duì)用與對(duì)經(jīng)歷壓印處理的基板13上壓印一致圖案形狀的模具和壓印裝置進(jìn)行管理。根據(jù)來(lái)自信息處理裝置400的指令，向提供一致形狀的模具/壓印裝置發(fā)送基板13，并且處理前進(jìn)到基于壓印的轉(zhuǎn)印步驟。
[0068](步驟S7)向諸如顯影或者蝕刻的下一步驟發(fā)送壓印裝置100轉(zhuǎn)印了圖案的基板13。
[0069]通過(guò)進(jìn)行上述步驟SI至S7，即使當(dāng)在多個(gè)拍攝區(qū)域中同時(shí)進(jìn)行壓印處理時(shí)，也能夠使模具11的轉(zhuǎn)印圖案形狀和下層形狀彼此一致。本實(shí)施例采用了投影曝光裝置作為將圖案轉(zhuǎn)印到下層的光刻裝置。然而，也可使用帶電粒子束描繪裝置等作為將圖案轉(zhuǎn)印到下層的光刻裝置。
[0070]在上述實(shí)施例中，壓印裝置能夠使用校正機(jī)構(gòu)進(jìn)行形狀校正。例如，由曝光裝置制造的基板具有制造誤差。當(dāng)壓印裝置對(duì)基板進(jìn)行壓印時(shí)，該制造誤差作為拍攝形狀中的誤差保留。能夠通過(guò)壓印裝置中的校正機(jī)構(gòu)對(duì)拍攝形狀中的該誤差進(jìn)行校正。
[0071]此外，在另一示例中，能夠在下層側(cè)對(duì)所有制造誤差進(jìn)行校正。然而，在一系列處理中進(jìn)行多次圖案轉(zhuǎn)印。因此，自然存在拍攝形狀的變形的容許量。因此，存在減小拍攝形狀的變形量的需要。在這種情況下，能夠想到由壓印裝置進(jìn)行校正的一部分，并且在下層側(cè)進(jìn)行校正的其余部分的校正方法。在這種情況下，能夠在S3中向信息處理裝置400發(fā)送壓印裝置100中的校正項(xiàng)目和校正量，或者如果該校正項(xiàng)目和校正量在壓印裝置100中是固有的，則信息處理裝置400能夠從開(kāi)始作為信息對(duì)該校正項(xiàng)目和校正量進(jìn)行處理。然后，在S4中，向曝光裝置200發(fā)送在S3中發(fā)送的、通過(guò)從要壓印的圖案形狀中減去壓印裝置能夠進(jìn)行的校正的項(xiàng)目和量而獲得的形狀，并且制造下層。通過(guò)向壓印裝置100發(fā)送在S4中制造的下層，并且使用壓印裝置100的校正機(jī)構(gòu)進(jìn)行形狀校正，能夠進(jìn)行大幅的形狀(具有較小的校正量)的壓印操作。
[0072]在該實(shí)施例中，作為壓印裝置的形狀校正機(jī)構(gòu)說(shuō)明了校正機(jī)構(gòu)16。然而，壓印裝置的形狀校正機(jī)構(gòu)不限于校正機(jī)構(gòu)16。在本發(fā)明中能夠使用能夠在壓印裝置中對(duì)形狀進(jìn)行校正的形狀校正機(jī)構(gòu)。
[0073][制造物品的方法]
[0074]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的制造物品的方法適于制造諸如微型設(shè)備(例如半導(dǎo)體設(shè)備)或者具有微結(jié)構(gòu)的元件的物品。該制造方法包括使用包括投影曝光裝置200和壓印裝置100的光刻裝置在基板上形成圖案的步驟。此外，該制造方法包括對(duì)形成了圖案的基板進(jìn)行處理的其他公知步驟(例如，氧化、沉積、氣相沉積、摻雜、平面化、蝕刻、光致抗蝕去除、切割、粘合以及封裝)。根據(jù)本實(shí)施例的制造物品的方法在物品的性能、質(zhì)量、生產(chǎn)率和生產(chǎn)成本中的至少一個(gè)方面優(yōu)于傳統(tǒng)方法。
[0075]雖然參照示例性實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了描述，但是應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不限于所公開(kāi)的示例性實(shí)施例。所附權(quán)利要求的范圍符合最寬的解釋，以使其涵蓋所有這種變型以及等同結(jié)構(gòu)和功能。
【權(quán)利要求】
1.一種在基板上形成圖案的方法，所述方法包括: 第一步驟，在所述基板上的各拍攝區(qū)域中形成第一圖案并且限定第一拍攝布置；以及 第二步驟，在所述第一步驟中限定的所述第一拍攝布置中的至少一個(gè)拍攝區(qū)域中的每個(gè)中，進(jìn)行在使所述基板上的壓印材料和模具彼此接觸的同時(shí)使所述壓印材料固化的壓印處理，從而在所述第一圖案上的所述壓印材料上形成第二圖案并且限定第二拍攝布置， 其中，在所述第二步驟中，以通過(guò)使所述模具變形來(lái)減小所述第一拍攝布置和所述第二拍攝布置的重疊誤差的方式，修正所述第二拍攝布置，并且 其中，在所述第一步驟中，基于在通過(guò)使所述模具變形來(lái)對(duì)所述模具上形成的所述第二圖案進(jìn)行修正之后進(jìn)行所述第二步驟的情況下、所述基板上可限定的估計(jì)的所述第二拍攝布置的信息，形成所述第一圖案，以使所述第一拍攝布置和所述第二拍攝布置的重疊誤差在容許范圍內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，在所述第二步驟中，在所述第一步驟中限定的所述第一拍攝布置中的多個(gè)拍攝區(qū)域中同時(shí)進(jìn)行所述壓印處理。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，使用被配置為經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)將掩模的圖案投影到所述基板并且對(duì)所述基板進(jìn)行曝光的投影曝光裝置，進(jìn)行所述第一步驟。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，在所述第一步驟中，以通過(guò)調(diào)整構(gòu)成所述投影光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)元件或者所述掩模的位置或姿勢(shì)、使所述第一拍攝布置和所述第二拍攝布置的重疊誤差在容許范圍內(nèi)的方式，形成所述第一圖案。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述第二拍攝布置的信息還包括在所述壓印處理中使用的所述模具和所述壓印裝置的標(biāo)識(shí)數(shù)據(jù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述第二拍攝布置的信息還包括經(jīng)歷所述壓印處理的拍攝區(qū)域的位置的數(shù)據(jù)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述第二拍攝布置基于在所述壓印處理中使用的所述模具的形狀的測(cè)量結(jié)果。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述第二拍攝布置基于在所述壓印處理中使用的所述壓印裝置中安裝的所述模具的形狀的測(cè)量結(jié)果。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述第二拍攝布置基于通過(guò)所述壓印處理形成所述第二圖案而限定的所述第二拍攝布置的測(cè)量結(jié)果。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，所述第二拍攝布置基于在所述壓印處理中使用的所述壓印裝置中布置的檢測(cè)器的測(cè)量結(jié)果。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，所述第二拍攝布置基于在所述壓印處理中使用的所述壓印裝置中布置的檢測(cè)器的測(cè)量結(jié)果。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述第二拍攝布置的信息包括對(duì)之前形成了圖案的基板上的所述第一拍攝布置和所述第二拍攝布置的差分的測(cè)量結(jié)果。
13.一種在基板上的各拍攝區(qū)域中形成第一圖案的光刻裝置，所述光刻裝置包括: 獲得單元，其被配置為在所述第一圖案上的至少一個(gè)拍攝區(qū)域中的每個(gè)中，進(jìn)行在使所述基板上的壓印材料和模具彼此接觸的同時(shí)使所述壓印材料固化的壓印處理，從而形成第二圖案，并且獲得通過(guò)進(jìn)行形成所述第二圖案的壓印處理而可形成的估計(jì)的第二拍攝布置的信息；以及 控制器，其被配置為基于由所述獲得單元獲得的所述第二拍攝布置的信息，形成所述第一圖案，限定第一拍攝布置，并且將所述第一圖案形成為所限定的拍攝布置， 其中，所述第二拍攝布置的信息是通過(guò)在使所述模具變形來(lái)對(duì)所述模具上形成的第二圖案進(jìn)行修正之后進(jìn)行形成第二圖案的壓印處理、所述基板上可限定的估計(jì)的拍攝布置的信息。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光刻裝置，其中，所述第二拍攝布置的信息包括所述模具中形成的圖案形狀。
15.—種在基板上形成圖案的光刻系統(tǒng),所述光刻系統(tǒng)包括: 光刻裝置，其被配置為在所述基板上的各拍攝區(qū)域中形成第一圖案，并且限定第一拍攝布直；以及 壓印裝置，其被配置為在所限定的第一拍攝布置中的至少一個(gè)拍攝區(qū)域中的每個(gè)中，進(jìn)行在使模具與樹(shù)脂接觸的同時(shí)使所述樹(shù)脂固化的壓印處理，從而在所述第一圖案上的所述樹(shù)脂上形成第二圖案，并且限定第二拍攝布置， 其中，基于在進(jìn)行所述壓印處理的情況下、所述基板上可限定的估計(jì)的所述第二拍攝布置的信息，所述光刻裝置形成所述第一圖案，以使所述第一拍攝布置和所述第二拍攝布置的重疊誤差在容許范圍內(nèi)，并且 其中，所述第二拍攝布置的信息是通過(guò)在使所述模具變形來(lái)對(duì)所述模具上形成的第二圖案進(jìn)行修正之后進(jìn)行形成第二圖案的壓印處理、所述基板上可限定的估計(jì)的拍攝布置的信息。
16.—種制造物品的方法，所述方法包括: 通過(guò)使用光刻系統(tǒng)在基板上形成圖案；以及 對(duì)形成了所述圖案的所述基板進(jìn)行處理以制造所述物品， 所述光刻系統(tǒng)包括: 光刻裝置，其被配置為在所述基板上的各拍攝區(qū)域中形成第一圖案，并且限定第一拍攝布直；以及 壓印裝置，其被配置為在所限定的第一拍攝布置中的至少一個(gè)拍攝區(qū)域中的每個(gè)中，進(jìn)行在使模具與樹(shù)脂接觸的同時(shí)使所述樹(shù)脂固化的壓印處理，從而在所述第一圖案上的所述樹(shù)脂上形成第二圖案，并且限定第二拍攝布置， 其中，基于在進(jìn)行所述壓印處理的情況下、所述基板上可限定的估計(jì)的所述第二拍攝布置的信息，所述光刻裝置形成所述第一圖案，以使所述第一拍攝布置和所述第二拍攝布置的重疊誤差在容許范圍內(nèi)，并且 其中，所述第二拍攝布置的信息是通過(guò)在使所述模具變形來(lái)對(duì)所述模具上形成的第二圖案進(jìn)行修正之后進(jìn)行形成第二圖案的壓印處理、所述基板上可限定的估計(jì)的拍攝布置的信息。
【文檔編號(hào)】B82Y10/00GK104281002SQ201410310980
【公開(kāi)日】2015年1月14日 申請(qǐng)日期:2014年7月1日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月2日
【發(fā)明者】佐藤浩司 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社