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      晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu)及其制備方法

      文檔序號:39814903發(fā)布日期:2024-11-01 18:45閱讀:209來源:國知局
      晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu)及其制備方法

      本發(fā)明屬于芯片晶圓級封裝,特別是涉及一種晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu)及其制備方法。


      背景技術(shù):

      1、在集成電路芯片生產(chǎn)過程中,芯片封裝是十分重要的環(huán)節(jié)。由于芯片上的特征尺寸非常微小,金屬觸點(diǎn)難以直接與電路板上的導(dǎo)線連接,需要通過封裝技術(shù)將芯片上的觸點(diǎn)與電路板之間建立連接。此外,在實(shí)際使用時,芯片一般需要進(jìn)行保護(hù),以防止意外碰損。傳統(tǒng)的芯片封裝是將預(yù)先加工并分割好的單個芯片固定在封裝管殼內(nèi),通過引線鍵合技術(shù)將芯片上的觸點(diǎn)與封裝管殼上的電引腳連接,最后灌入絕緣封裝材料或加蓋板密封。隨著半導(dǎo)體制造工藝的發(fā)展,晶圓級封裝(wafer?lever?packaging,wlp)被開發(fā)出來用于提高集成度和降低芯片制造成本,該技術(shù)是對整片晶圓進(jìn)行封裝測試后再切割得到單個成品芯片的技術(shù),封裝后的芯片尺寸與裸片幾乎一致。與傳統(tǒng)的管殼級封裝相比,晶圓級封裝的芯片體積更小,制造成本更低,也更適合應(yīng)用于小型移動應(yīng)用或高集成度系統(tǒng)之中。

      2、近年,微機(jī)電系統(tǒng)(mico-electro-mechanical?systems,mems)已經(jīng)在各種領(lǐng)域被廣泛應(yīng)用。微機(jī)電系統(tǒng)芯片上加工有微米級的機(jī)械結(jié)構(gòu)和電極,可以實(shí)現(xiàn)物理、聲、光、磁力等信號的傳輸或感測,并由此制成各種各樣的傳感器和驅(qū)動器,例如壓力計、加速度計、陀螺儀、麥克風(fēng)、微鏡、磁力計、溫度傳感器等。微機(jī)電系統(tǒng)芯片的封裝技術(shù)借鑒了許多上述集成電路芯片的封裝技術(shù),并且再次基礎(chǔ)上額外提出了更多的要求。由于微機(jī)電元件十分脆弱,容易受外部污染物或顆粒等損害,一般都需要加帶腔體的蓋板密封進(jìn)行保護(hù)。晶圓級封裝技術(shù)也適合用于微機(jī)電系統(tǒng)芯片封裝,一般先通過帶腔體的蓋板晶圓與微機(jī)電系統(tǒng)晶圓的鍵合,達(dá)到晶圓級密封的要求,同時保持蓋板晶圓與微機(jī)電系統(tǒng)晶圓之間的物理空間。目前,mems產(chǎn)品多是以二維方式形成腔體,無法制作多重的三維堆疊腔體,而要實(shí)現(xiàn)三維堆疊腔體,需要使用單die的加工工藝,這樣的工藝方法步驟復(fù)雜、成本昂貴且散熱較差,另外在鍵合過程中易碎裂。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),本發(fā)明的目的在于提供一種晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu)及其制備方法,用于解決現(xiàn)有技術(shù)中采用單die加工工藝制備晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu)存在工藝方法步驟復(fù)雜、成本昂貴、易碎裂及散熱較差等的問題。

      2、為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的,本發(fā)明提供一種晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu)的制備方法,所述制備方法包括:

      3、提供預(yù)設(shè)厚度的金屬晶圓;

      4、于所述金屬晶圓上依次制備n級盲腔,n≥2,其中,n級所述盲腔依次嵌套且深度依次增大,相鄰兩依次嵌套的所述盲腔之間形成有隔離墻,所述隔離墻包括具有底面的環(huán)形隔離墻及條形連接脊,所述條形連接脊的兩端分別與相鄰的兩所述環(huán)形隔離墻的底面連接;

      5、提供表面形成有鍵合金屬層的芯片晶圓,并將所述芯片晶圓上的所述鍵合金屬層與所述金屬晶圓鍵合,以使n級所述盲腔與所述芯片晶圓之間形成n個真空腔體。

      6、可選地,采用機(jī)械加工工藝依次形成n級所述盲腔。

      7、進(jìn)一步地,所述機(jī)械加工工藝為激光刻蝕。

      8、可選地,采用金屬間熔融鍵合的方式將所述鍵合金屬層與所述金屬晶圓鍵合。

      9、可選地,所述金屬晶圓上還形成有多個預(yù)留空腔,該預(yù)留空腔作為后續(xù)形成的獨(dú)立的封裝體的電路引出腔。

      10、進(jìn)一步地,所述預(yù)留空腔在形成n級所述盲腔的任意一級所述盲腔時制備形成。

      11、本發(fā)明還提供一種晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu),可以采用上述任意一項(xiàng)所述的晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu)的制備方法制備得到,所述封裝結(jié)構(gòu)包括:相互鍵合的金屬晶圓及芯片晶圓;

      12、所述芯片晶圓表面形成有鍵合金屬層;

      13、所述金屬晶圓表面形成有n級盲腔,n≥2,其中n級所述盲腔依次嵌套且深度依次增大,相鄰兩依次嵌套的所述盲腔之間形成有隔離墻,所述隔離墻包括具有底面的環(huán)形隔離墻及條形連接脊,所述條形連接脊的兩端分別與相鄰的兩所述環(huán)形隔離墻的底面連接;

      14、所述金屬晶圓與所述芯片晶圓通過所述鍵合金屬層鍵合,并在n級所述盲腔與所述芯片晶圓之間形成n個真空腔體。

      15、可選地,所述芯片晶圓為微機(jī)電系統(tǒng)芯片晶圓。

      16、可選地,所有所述條形連接脊的位置相同,寬度也相同;且所述條形連接脊的橫向表面積為最內(nèi)側(cè)所述環(huán)形隔離墻的橫向表面積的20%以下。

      17、可選地,所述金屬晶圓的材料為可伐合金。

      18、如上所述,本發(fā)明的晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu)及其制備方法,以金屬材料作為蓋板晶圓,可直接刻蝕形成盲腔,避免了真空刻蝕機(jī)臺的使用,金屬本身就可以作為鍵合材料,避免了在蓋板晶圓上制備鍵合金屬層的過程,有效降低工藝復(fù)雜度及制造成本;另外,所需的n級盲腔制備于同一金屬晶圓上,每一級的盲腔都是直接對同一金屬晶圓刻蝕形成,進(jìn)一步降低工藝復(fù)雜度;再者,金屬具有較佳的導(dǎo)電屬性且具有較小的熱膨脹系數(shù)和較好的力學(xué)強(qiáng)度,導(dǎo)電性能使其具有較強(qiáng)的電磁屏蔽效應(yīng),較小的熱膨脹系數(shù)使其在后續(xù)加工過程中不易變形,較好的力學(xué)強(qiáng)度可使其在后續(xù)的工藝過程中不易損壞,提高產(chǎn)品良率;最后,本發(fā)明的封裝結(jié)構(gòu)在實(shí)現(xiàn)多層腔體堆疊的過程中采用的隔離墻結(jié)構(gòu),可對堆疊腔體結(jié)構(gòu)起到良好的支撐效果,條形連接脊還能提高對內(nèi)層腔體的散熱強(qiáng)度,并使堆疊腔體在垂直方向保持能量的疊加交互,起到加強(qiáng)能量波的信號,以及形成更加復(fù)雜的能量波形的效果。



      技術(shù)特征:

      1.一種晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于:采用機(jī)械加工工藝依次形成n級所述盲腔。

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于:所述機(jī)械加工工藝為激光刻蝕。

      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于:采用金屬間熔融鍵合的方式將所述鍵合金屬層與所述金屬晶圓鍵合。

      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于:所述金屬晶圓上還形成有多個預(yù)留空腔,該預(yù)留空腔作為后續(xù)形成的獨(dú)立的封裝體的電路引出腔。

      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于:所述預(yù)留空腔在形成n級所述盲腔的任意一級所述盲腔時制備形成。

      7.一種晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述封裝結(jié)構(gòu)包括:相互鍵合的金屬晶圓及芯片晶圓;

      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述芯片晶圓為微機(jī)電系統(tǒng)芯片晶圓。

      9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所有所述條形連接脊的位置相同,寬度也相同;且所述條形連接脊的橫向表面積為最內(nèi)側(cè)所述環(huán)形隔離墻的橫向表面積的20%以下。

      10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述金屬晶圓的材料為可伐合金。


      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明提供一種晶圓級多層腔體堆疊的封裝結(jié)構(gòu)及其制備方法,以金屬材料作為蓋板晶圓,可直接刻蝕形成盲腔,避免真空刻蝕機(jī)臺的使用,同時可以作為鍵合材料,避免在蓋板晶圓上制備鍵合金屬層的過程,所需的N級盲腔的每一級都是直接對同一金屬晶圓刻蝕形成,有效降低工藝復(fù)雜度;另外金屬具有較佳的導(dǎo)電屬性、較小的熱膨脹系數(shù)和較好的力學(xué)強(qiáng)度,使其具有較強(qiáng)的電磁屏蔽效應(yīng),且在后續(xù)加工過程中不易變形、損壞,提高產(chǎn)品良率;最后,采用隔離墻結(jié)構(gòu),可對堆疊腔體結(jié)構(gòu)起到良好的支撐效果,條形連接脊還能提高對內(nèi)層腔體的散熱強(qiáng)度,并使堆疊腔體在垂直方向保持能量的疊加交互,起到加強(qiáng)能量波的信號,以及形成更加復(fù)雜的能量波形的效果。

      技術(shù)研發(fā)人員:肖克來提
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/10/31
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