專利名稱：鋅和鋅合金電鍍添加劑和電鍍方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明一般涉及對由堿性電鍍浴水溶液電鍍鋅或鋅合金方法的改進以及用于這種電鍍方法的新添加劑。
電鍍鋅和鋅合金的方法(例如基于鋅酸鈉的方法)已經(jīng)知道許多年了。然而由于鍍層是粉末狀或枝晶狀的，用簡單的鋅酸鈉電解液不能獲得工業(yè)上合格的鍍層。出于這個原因，為了改進這種電鍍方法，曾提出了各種添加劑，如氰化物(它具有明顯的環(huán)境問題)以及表氯醇和胺的聚合物(用作晶粒細化添加劑)。由于不能防止在較高金屬濃度下不受控制地電鍍鋅，這些聚合物只能用于鋅濃度較低的電鍍浴。使用這些添加劑的電鍍方法也會有差的陰極效率、窄的亮度范圍、窄的操作時間窗，且會產(chǎn)生凹痕和“燒熔”鍍層。最近提出了可以使用較高鋅濃度的添加劑。這種添加劑明顯減少了燒熔和凹痕，且可以有較寬的操作參數(shù)范圍。另外，這種添加劑能獲得極好的鍍層分布(即不論被鍍制品的特定區(qū)域的形狀如何，在整個制品上都能獲得均勻的鍍層)。這樣最大程度地提高了鋅的使用效率。這種添加劑一般以聚季銨化合物為原料的，且記載在美國專利5435898和5405523中。這兩個專利也提供了對現(xiàn)有技術(shù)的進一步描述。
美國專利5435898描述了用作電鍍鋅和鋅合金時所用添加劑的聚合物。該聚合物具有如下通式 式中R1-R4可以相同或不同，具體為甲基、乙基或異丙基，Y可以是S或O。R5是醚鏈，如(CH2)2-O-(CH2)2。
美國專利5405523要求保護一般用作鋅合金電鍍浴中光亮劑的1,3-亞脲基季銨聚合物。優(yōu)選和例舉的聚合物包括用如下通式表示的單元 式中A可以是O、S或N,R具體為甲基、乙基或異丙基。在優(yōu)選的聚合物中，這些單元例如由二(2-鹵代乙基)醚、(鹵代甲基)環(huán)氧乙烷或2,2’-(亞乙二氧基)-二乙基鹵衍生的單元連接。另外也提出了二鹵化乙烯(如二氯化乙烯和二溴化乙烯)，但沒有舉例說明。
其它已知的添加劑是由氯化二甲基二烯丙基銨與二氧化硫聚合產(chǎn)生的多陽離子組合物。這種組合物記載在DE19509713。
然而，這些方法的總陰極效率較低，且形成鍍層的亮度和平整度不能令人滿意。
本發(fā)明提供用作電鍍鋅和鋅合金時所用添加劑的改進聚合物。具體地說，現(xiàn)已發(fā)現(xiàn)通過消除上述現(xiàn)有技術(shù)中的醚鏈(如R5)可以獲得亮度更高的鍍層。這種鍍層以后也更易于涂布轉(zhuǎn)化涂層(conversion coating)。
因此，本發(fā)明涉及在各種導(dǎo)電基底上介質(zhì)電鍍的方法。這種方法可提供更高的陰極效率和/或更高的亮度和/或更穩(wěn)定的表面，從而適于進一步的處理。合適的基底包括鐵和所有的鐵基基底(包括鐵合金和鋼)、鋁和鋁合金、鎂和鎂合金、銅和銅合金、鎳和鎳合金、鋅和鋅合金。鋁和鋁合金及鐵基基底是特別優(yōu)選的基底，而鋼是最優(yōu)選的基底。
廣義來說，本發(fā)明提供用作電鍍鋅和鋅合金時所用的添加劑的聚合物以及使用這些混合物的方法。這些聚合物由(a)和(b)中的一種或兩種與(c)反應(yīng)形成無規(guī)共聚物而制得(a)含有酰胺官能團的二叔胺，和(b)含有烷基的二叔胺(c)二鹵代烷烴。
本發(fā)明也涉及由電解浴介質(zhì)在導(dǎo)電基底上電鍍鋅或鋅合金的方法。上述的電解浴介質(zhì)含有有效量的由(a)含有酰胺官能團的二叔胺和(b)含有烷基的二叔胺中的一種或兩種與(c)二鹵代烷烴的反應(yīng)產(chǎn)物(形成無規(guī)共聚物)、鋅離子源和任選的一種或多種合金金屬的附加金屬離子源以及適于使所述離子溶解的螯合劑。
本發(fā)明聚合物中含有酰胺官能團的二叔胺(a)用如下通式表示 式中R’表示C=O或O=C-(CH2)q-C=O，且q為2-6，R表示CH3或C2H5，每個R可相同或不同，m為2-4。
用通式(1)表示的合適二叔胺的一個實例是N,N’-二[3-(二甲氨基)丙基]脲。
含有烷基的二叔胺(b)用如下通式表示 式中B為CgH2g+1，g=0或一個整數(shù)，各個B基團相同或不同，f=0或一個整數(shù)，且R"表示CH3或C2H5，每個R"可相同或不同。
因此，上述的氨基可以在烷基鏈的末端或支鏈處。然而，上述的氨基較好如下列通式所示在烷基鏈的末端處 R"表示CH3或C2H5，每個R"可相同或不同，且p至少為2。
用通式(2)表示的合適二叔胺的實例包括N,N,N’,N’-四甲基-1,6-己二胺、N,N,N’,N’-四甲基-1,3-丙二胺和N,N,N’,N’-四甲基-1,3-丁二胺。
二鹵代烷烴(c)可用通式(4)表示A-(CH2)n-A(4)式中A表示鹵原子，特別是氯或溴，最好是氯，n至少為2，條件是當(dāng)通式(2)或(3)表示的單體不存在時，n至少為3。
用通式(4)表示的二鹵代烷烴的實例包括1,4-二氯丁烷、1,5-二氯戊烷、1,6-二氯己烷和1,3-二氯丁烷。據(jù)稱，后一種二鹵代烷烴產(chǎn)生的聚合物添加劑比鹵原子僅在末端的二鹵代烷烴產(chǎn)生的聚合物添加劑的效率要低。
n(通式4)、p(通式3)或f和g(通式2)的上限分別取決于對所得聚合物在電解浴中溶解度的要求。在實際的術(shù)語中，n和p的上限預(yù)計分別約為8。f不超過6，g不超過3，因為更高的值產(chǎn)生溶解度不夠的聚合物。
本發(fā)明中制成的聚合物添加劑可用如下通式表示 式中0≤x≤10≤y≤1且(x或y)或(x和y)=1z至少為2，且當(dāng)y=0時，n至少為3。
實際上難以制得n和p都為2且x為0的聚合物。因此，當(dāng)x=0時，n+p的總和較好至少為6。
在本發(fā)明的聚合物添加劑中，可以不存在含有酰胺官能團的二叔胺單元(即當(dāng)x=0時)或可不存在含有烷基的二叔胺單元(即當(dāng)y=0時)，但必須存在其中一個單元。較好存在兩種單元。含有上述兩種單元的本發(fā)明聚合物是無規(guī)共聚物，從而使各個二叔胺單元以無規(guī)的次序出現(xiàn)(在所有的情況下與二鹵代烷基連接)。
z的絕對值沒有說明，因為本發(fā)明的聚合物包括正常分子量范圍的聚合物分子。對于特定的聚合物分子，z一般至少為4-20，也可以高達100或更高。
另外，為了獲得特別的性能，也可以根據(jù)需要選擇聚合物中由通式(1)和(2)衍生的二叔胺單元的摩爾比。因此，y=0的聚合物使得電鍍鋅的方法產(chǎn)生亮度很高和分布良好(均勻的鍍層)的鍍層，但陰極效率沒有需要的那樣高。x和y都大于0的聚合物提供良好的亮度和分布以及良好的陰極效率。由通式(1)和(2)衍生的二叔胺單元的摩爾比較好為25∶75-75∶25，更好為50∶50-75∶25，最好為62.5∶37.5。
在用通式(1)表示的二叔胺中，R’較好為C=O，但當(dāng)R’為O=C-(CH2)q-C=O時，q較好為4-6。另外，R(不考慮R’)最好是CH3。
在用通式(2)表示的二叔胺中，R"較好是CH3，f較好為2-4，從而使得通式(3)中的p較好為4-6。
在用通式(4)表示的二鹵代烷烴中，n較好為4-6。
如下的實施例說明本發(fā)明聚合物的制備技術(shù)。
實施例1在一個裝有回流冷凝器、溫度計和攪拌器的反應(yīng)瓶中加入N,N’-二[3-(二甲氨基)丙基]脲(15.0克)、1,4-二氯丁烷(8.3克)和水(23.3克)。將反應(yīng)物攪拌和加熱回流，直到反應(yīng)充分進行完全為止。回流4-5小時以上是合適的。讓所得的液體冷卻至室溫，產(chǎn)生所需產(chǎn)物的水溶液。在這些實施例中，100％完全反應(yīng)是不能達到的，也沒有必要。因此，可以根據(jù)要求改變回流時間。
實施例2在一個裝有回流冷凝器、溫度計和攪拌器的反應(yīng)瓶中加入N,N’-二[3-(二甲氨基)丙基]脲(6.3克)、N,N,N’,N’-四甲基-1,6-己二胺(4.7克)、1,4-二氯丁烷(6.9克)和水(18.0克)。將反應(yīng)物攪拌和加熱回流足夠的時間，以達到所需的反應(yīng)完全程度，一般為至少5小時。讓所得的液體冷卻至室溫，產(chǎn)生所需產(chǎn)物的水溶液。
實施例3在一個裝有回流冷凝器、溫度計和攪拌器的反應(yīng)瓶中加入N,N,N’,N’-四甲基-1,6-己二胺(10.0克)、1,5-二氯戊烷(8.1克)和水(18.1克)。將反應(yīng)物攪拌和加熱回流足夠的時間，以達到所需的反應(yīng)完全程度，一般為至少7小時。讓所得的液體冷卻至室溫，產(chǎn)生所需產(chǎn)物的水溶液。
實施例4在一個裝有回流冷凝器、溫度計和攪拌器的反應(yīng)瓶中加入N,N’-二[3-(二甲氨基)丙基]脲(9.0克)、N,N,N’,N’-四甲基-1,3-丙二胺(5.1克)、1,6-二氯己烷(12.1克)和水(26.2克)。將反應(yīng)物攪拌和加熱回流足夠的時間，以達到所需的反應(yīng)完全程度，一般為至少8-10小時。讓所得的液體冷卻至室溫，產(chǎn)生所需產(chǎn)物的水溶液。
單獨使用時，本發(fā)明的聚合物添加劑可在電鍍鋅和鋅合金的方法中產(chǎn)生優(yōu)異的結(jié)果。另外，通過將本發(fā)明的聚合物添加劑與已知的其它添加劑混合可獲得更好的效果，如下列各組所示第1組本發(fā)明的聚合物第2組選自硅酸鹽、酒石酸鹽、萄糖酸鹽、庚糖酸鹽或其它羥酸的添加劑第3組N-芐基煙酸和/或可溶解于電鍍浴的芳族醛及其亞硫酸氫鹽加成物第4組咪唑/表鹵醇聚合物或其它胺/表鹵醇聚合物電鍍浴介質(zhì)較好存在有效量的每一組中的一種化合物。
如下的實施例說明使用本發(fā)明聚合物添加劑的電鍍鋅和鋅合金的介質(zhì)和方法。如下的實施例涉及在低碳鋼(即鐵基基底)上進行的電鍍實驗。然而，這些實施例中所述的步驟同樣適用于在鋁和鋁合金、鎂和鎂合金、銅和銅合金、鎳和鎳合金、鋅和鋅合金上進行的電鍍。
實施例A制備含12克/升鋅(按金屬計)和135克/升NaOH的適于鍍鋅的電解質(zhì)水溶液。在1安培電流條件下對該電解液進行10分鐘赫爾電池(Hull cell)試驗。所得的鍍層是黑色粉末狀的，不適于商業(yè)用途。在此電解液中加入3毫升/升實施例1中制得的產(chǎn)物?，F(xiàn)在，1安培的赫爾電池試驗在0.5-5安培/分米2的電流密度下產(chǎn)生半光亮的鋅鍍層。
實施例B制備含12克/升鋅(按金屬計)和135克/升NaOH的適于鍍鋅的電解水溶液。在此電解液中加入3毫升/升實施例2中制得的產(chǎn)物，并進行赫爾電池試驗。在0.1-4安培/分米2的電流密度下產(chǎn)生半光亮的鍍層。
實施例C制備含12克/升鋅(按金屬計)和135克/升NaOH的適于鍍鋅的電解水溶液。在此電解液中加入3毫升/升實施例3中制得的產(chǎn)物，并進行赫爾電池試驗。在0.05-5安培/分米2的電流密度下形成無光澤但細晶的鍍層。
實施例D制備含12克/升鋅(按金屬計)和135克/升NaOH的適于鍍鋅的電解水溶液。在此電解液中加入3毫升/升實施例4中制得的產(chǎn)物，并進行赫爾電池試驗。在0.1-4安培/分米2的電流密度下產(chǎn)生半光亮的鍍層。
實施例E制備含12克/升鋅(按金屬計)和135克/升NaOH的適于鍍鋅的電解水溶液。在此電解液中加入3毫升/升實施例2中制得的產(chǎn)物、0.5毫升/升咪唑/表氯醇聚合物(購自BASF的Lugalvan ES 9572)、0.05克/升N-芐基煙酸和8克/升硅酸鈉。對此電解液進行的1安培赫爾電池試驗在赫爾電池板的整個電流密度范圍內(nèi)產(chǎn)生完全光亮的鍍層。在該電池板上形成的鍍層的厚度比對比板厚至少25％。上述的對比板由按上述方法制備但用等濃度的Mirapol WT(一種US 5435898中所述的聚合物)代替實施例2產(chǎn)物的電解液制得。
實施例F制備含12克/升鋅(按金屬計)和135克/升NaOH的適于鍍鋅的電解水溶液。在此電解液中加入3毫升/升實施例2中制得的產(chǎn)物、0.5毫升/升咪唑/表氯醇聚合物(Lugalvan ES 9572)、0.05克/升N-芐基煙酸和1克/升酒石酸鈉鉀。對此電解液進行的1安培赫爾電池試驗在赫爾電池板的整個電流密度范圍內(nèi)產(chǎn)生完全光亮的鍍層。
實施例G制備含12克/升鋅(按金屬計)和135克/升NaOH的適于鍍鋅的電解水溶液。在此電解液中加入3毫升/升實施例3中制得的產(chǎn)物、0.5毫升/升咪唑/表氯醇聚合物(Lugalvan ES 9572)、0.05克/升N-芐基煙酸和8克/升硅酸鈉。對此電解液進行的1安培赫爾電池試驗在0.05-4安培/分米2的電流密度范圍內(nèi)產(chǎn)生完全光亮的鍍層。
實施例H制備含12克/升鋅(按金屬計)、135克/升NaOH、60克/升庚糖酸鈉和100毫克/升鐵的適于鍍鋅/鐵合金的電解水溶液。在此電解液中加入3毫升/升實施例2中制得的產(chǎn)物、0.5毫升/升咪唑/表氯醇聚合物(Lugalvan ES 9572)和0.05克/升N-芐基煙酸。對此電解液進行的1安培赫爾電池試驗在赫爾電池板的整個電流密度范圍內(nèi)產(chǎn)生完全光亮的鍍層。將該赫爾電池板放在含有鉻酸、硫酸、磷酸和其它無機鹽的鉻化浴中鈍化產(chǎn)生均勻的黑色鍍層。因此，這表明已在赫化電池板上均勻地共沉積了鐵。
實施例I制備含12克/升鋅(按金屬計)、135克/升NaOH、60克/升庚糖酸鈉、50毫克/升鐵和80毫克/升鈷的適于鍍鋅/鈷/鐵合金的電解水溶液。在此電解液中加入3毫升/升實施例2中制得的產(chǎn)物、0.5毫升/升咪唑/表氯醇聚合物(Lugalvan ES 9572)和0.05克/升N-芐基煙酸。對此電解液進行的1安培赫爾電池試驗在赫爾電池板的整個電流密度范圍內(nèi)產(chǎn)生完全光亮的鍍層。將該赫爾電池板放在含有鉻酸、硫酸、磷酸和其它無機鹽的鉻化浴中鈍化產(chǎn)生均勻的黑色鍍層。因此，這表明已在赫化電池板上均勻地共沉積了鈷和鐵。隨后用能量分散的X-射線分析法對鍍層分析表明在寬的電流密度范圍內(nèi)鈷的濃度為0.4％。
實施例J制備含12克/升鋅(按金屬計)、135克/升NaOH的適于鍍鋅的電解水溶液。在此電解液中加入3毫升/升實施例2中制得的產(chǎn)物、0.5毫升/升咪唑/表氯醇聚合物(Lugalvan ES 9572)、0.1克/升藜蘆醛(3,4-二甲氧基苯甲醛)和1克/升酒石酸鈉鉀。對此電解液進行的1安培赫爾電池試驗在赫爾電池板的整個電流密度范圍內(nèi)產(chǎn)生光亮但稍有模糊的鍍層。
本發(fā)明還涉及用于堿性鋅或鋅合金電鍍浴介質(zhì)的聚合物添加劑，它包含(ⅰ)中一種或兩種與(ⅱ)的反應(yīng)產(chǎn)物(ⅰ)用如下通式表示的第一二叔胺 式中R’表示C=O或O=C-(CH2)q-C=O，且q為2-6，R表示CH3或C2H5，每個R可相同或不同m為2-4，及用如下通式表示的第二二叔胺 式中B為CgH2g+1，g=0或一個整數(shù)，各個B基團相同或不同，f=0或一個整數(shù)，且R"表示CH3或C2H5，每個R"可相同或不同(ⅱ)用如下通式表示的二鹵代烷烴A-(CH2)n-A(4)式中A表示鹵原子，n至少為2，條件是當(dāng)通式(2)或(3)表示的單體不存在時，n至少為3，以及當(dāng)所述的胺是N,N’-二[3-(二甲氨基)丙基]脲或N,N,N’,N’-四甲基-1,6-己二胺時，所述的二鹵代烷烴不是1,4-二氯丁烷，或者當(dāng)所述的胺是N,N’-二[3-(二甲氨基)丙基]脲時，所述的二鹵代烷烴不是1,6-二溴己烷。
本發(fā)明也涉及用于在導(dǎo)電基底上電鍍鋅和/或鋅合金的方法，該方法包括使所述的基底與權(quán)利要求16-22中任一項所述的電鍍浴介質(zhì)接觸，并在所述的基底上電沉積鋅或鋅合金，條件是對于鋁或鋁合金基底，當(dāng)所述的胺是N,N’-二[3-(二甲氨基)丙基]脲或N,N,N’,N’-四甲基-1,6-己二胺時，所述的二鹵代烷烴不是1,4-二氯丁烷，或者當(dāng)所述的胺是N,N’-二[3-(二甲氨基)丙基]脲時，所述的二鹵代烷烴不是1,6-二溴己烷。
權(quán)利要求
1．用于堿性鋅或鋅合金電鍍浴介質(zhì)的聚合物添加劑，它包含(ⅰ)中一種或兩種和(ⅱ)的反應(yīng)產(chǎn)物(ⅰ)用如下通式表示的第一二叔胺 式中R’表示C=O或O=C-(CH2)q-C=O，且q為2-6，R表示CH3或C2H5，每個R可相同或不同m為2-4，及用如下通式表示的第二二叔胺 式中B為CgH2g+1,g=0或一個整數(shù)，各個B基團相同或不同，f=0或一個整數(shù)，且R"表示CH3或C2H5，每個R"可相同或不同(ⅱ)用如下通式表示的二鹵代烷烴A-(CH2)n-A(4)式中A表示鹵原子，n至少為2，條件是當(dāng)通式(2)或(3)表示的單體不存在時，n至少為3。
2．如權(quán)利要求1所述的聚合物添加劑，其特征在于所述的第二二叔胺具有如下通式 式中R"具有如上所述的定義，p至少為2。
3．如權(quán)利要求2所述的聚合物添加劑，其特征在于p不大于8。
4．如權(quán)利要求1、2或3所述的聚合物添加劑，其特征在于它含有用如下通式表示的無規(guī)共聚物 式中0≤x≤10≤y≤1且(x或y)或(x和y)=1z至少為2，且當(dāng)y=0時，n至少為3。
5．如權(quán)利要求1-4中任一項所述的聚合物添加劑，其特征在于n不大于8。
6．如權(quán)利要求1-5中任一項所述的聚合物添加劑，其特征在于f不大于6和/或g不大于3。
7．如權(quán)利要求1-6中任一項所述的聚合物添加劑，其特征在于R為CH3。
8．如上述權(quán)利要求中任一項所述的聚合物添加劑，其特征在于R"為CH3。
9．如上述權(quán)利要求中任一項所述的聚合物，其特征在于f為2-4。
10．如權(quán)利要求2或3所述的聚合物，其特征在于p為4-6。
11．如權(quán)利要求1-7中任一項所述的聚合物，其特征在于R’為O=C-(CH2)q-C=O和q為4-6。
12．如上述權(quán)利要求中任一項所述的聚合物，其特征在于由第一二叔胺衍生的單元和由第二二叔胺衍生的單元之比為25∶75-75∶25。
13．如權(quán)利要求1-10中任一項所述的聚合物添加劑，其特征在于所述的第一二叔胺是N,N’-二[3-(二甲氨基)丙基]脲。
14．如上述權(quán)利要求中任一項所述的聚合物添加劑，其特征在于所述第二二叔胺是N,N,N’,N’-四甲基-1,6-己二胺。
15．如上述權(quán)利要求中任一項所述的聚合物添加劑，其特征在于所述二鹵代烷烴是1,4-二氯丁烷。
16．用于電鍍鋅或鋅合金的堿性鋅或鋅合金電鍍浴水介質(zhì)，其特征在于它含有鋅離子源、在合金的情況下，合金金屬的附加金屬離子源、適于使所述離子溶解的螯合劑以及功能量的如權(quán)利要求1-15中任一項所述的聚合物。
17．如權(quán)利要求16所述的電鍍浴介質(zhì)，其特征在于所述的合金金屬是鐵、鈷和鎳中的一種或多種。
18．如權(quán)利要求16或17所述的電鍍浴介質(zhì)，其特征在于所述的鋅以鋅酸鈉或鋅酸鉀的形式存在、
19．如權(quán)利要求18所述的電鍍浴介質(zhì)，其特征在于鋅的存在量為5-35克/升，按鋅金屬計。
20．如權(quán)利要求16-19中任一項所述的電鍍浴介質(zhì)，其特征在于由50-200克/升的氫氧化鈉或氫氧化鉀提供堿性。
21．如權(quán)利要求16-20中任一項所述的電鍍浴介質(zhì)，其特征在于所述聚合物添加劑的存在量為0.5-5克/升。
22．如權(quán)利要求16-21中任一項所述的電鍍浴介質(zhì)，其特征在于它還含有有效量的選自如下一組的一種或多種附加添加劑A硅酸鹽；B萄糖酸鹽、庚糖酸鹽和酒石酸；CN-芐基煙酸；D芳香醛和它的亞硫酸氫鹽加成物；和E胺/表鹵醇聚合物，較好是咪唑/表鹵醇聚合物。
23．用于在導(dǎo)電基底上電鍍鋅和/或鋅合金的方法，其特征在于該方法包括使所述的基底與權(quán)利要求16-22中任一項所述的電鍍浴介質(zhì)接觸，并在所述的基底上電沉積鋅或鋅合金。
24．如權(quán)利要求23所述的方法，其特征在于所述導(dǎo)電基底選自鋁和鋁合金、鐵基基底、鎂和鎂合金、銅和銅合金、鎳和鎳合金、鋅和鋅合金。
25．如權(quán)利要求24所述的方法，其特征在于所述的導(dǎo)電基底是鋼。
26．如權(quán)利要求1-15中任一項所述的聚合物作為電鍍鋅或鋅合金的電鍍浴水介質(zhì)中添加劑的應(yīng)用。
27．如權(quán)利要求1所述的聚合物添加劑，其特征在于基本上如說明書中所述。
28．基本上如實施例1-4中任一個所述的聚合物添加劑。
29．用于電鍍鋅或鋅合金的鋅或鋅合金電鍍浴介質(zhì)，其特征在于它基本上如實施例A-J中任一個所述。
30．用于堿性鋅或鋅合金電鍍浴介質(zhì)的聚合物添加劑，它包含(ⅰ)中一種或兩種和(ⅱ)的反應(yīng)產(chǎn)物(ⅰ)用如下通式表示的第一二叔胺 式中R’表示C=O或O=C-(CH2)q-C=O，且q為2-6，R表示CH3或C2H5，每個R可相同或不同m為2-4，及用如下通式表示的第二二叔胺 式中B為CgH2g+1，g=0或一個整數(shù)，各個B基團相同或不同，f=0或一個整數(shù)，且R"表示CH3或C2H5，每個R"可相同或不同(ⅱ)用如下通式表示的二鹵代烷烴A-(CH2)n-A(4)式中A表示鹵原子，n至少為2，條件是當(dāng)通式(2)或(3)表示的單體不存在時，n至少為3，以及當(dāng)所述的胺是N,N’-二[3-(二甲氨基)丙基]脲或N,N,N’,N’-四甲基-1,6-己二胺時，所述的二鹵代烷烴不是1,4-二氯丁烷，或者當(dāng)所述的胺是N,N’-二[3-(二甲氨基)丙基]脲時，所述的二鹵代烷烴不是1,6-二溴己烷。
31．用于在導(dǎo)電基底上電鍍鋅和/或鋅合金的方法，其特征在于該方法包括使所述的基底與權(quán)利要求16-22中任一項所述的電鍍浴介質(zhì)接觸，并在所述的基底上電沉積鋅或鋅合金，條件是對于鋁或鋁合金基底，當(dāng)所述的胺是N,N’-二[3-(二甲氨基)丙基]脲或N,N,N’,N’-四甲基-1,6-己二胺時，所述的二鹵代烷烴不是1,4-二氯丁烷，或者當(dāng)所述的胺是N,N’-二[3-(二甲氨基)丙基]脲時，所述的二鹵代烷烴不是1,6-二溴己烷。
全文摘要
用于堿性鋅或鋅合金電鍍浴介質(zhì)的聚合物添加劑包含(i)中一種或兩種和(ii)的反應(yīng)產(chǎn)物:(i)用通式(1)表示的第一二叔胺,式中R’表示(a)或(b),且q為2—6,R表示CH
文檔編號C25D3/02GK1300329SQ00800210
公開日2001年6月20日 申請日期2000年2月21日 優(yōu)先權(quán)日1999年2月25日
發(fā)明者T·皮爾遜, A·斯韋爾斯 申請人:麥克德米德坎尼克股份有限公司