專利名稱:便攜式電子裝置外殼及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明是關(guān)于一種便攜式電子裝置外殼及其制作方法。
背景技術(shù):
隨著信息科技的迅速發(fā)展,便攜式電子裝置如筆記型電腦(notebook)、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、移動電話等普及率日益升高,因此這些電子裝置外殼的美觀程度及觸覺效果也愈來愈受到人們的關(guān)注與重視?,F(xiàn)有的便攜式電子裝置大部份采用塑料外殼,而為使塑料外殼更加美觀及更具抗磨損性,射出成型后還要經(jīng)過電鍍或烤漆等進(jìn)一步處理工序。如美國專利第4,350,739號,其是采用在射入塑料樹脂前于模腔內(nèi)壁噴涂涂料,而該涂料層與后期射入的塑料結(jié)合而形成裝飾層。但是經(jīng)過模內(nèi)噴涂處理過的塑料外殼表面較硬,手感不佳,而且若要使其表面具有圖案花紋等,將使得制造加工更加復(fù)雜,成本更高。再如美國專利第5,123,988號,其是采用在擠壓成型橡膠基體后,在其表面涂上黏結(jié)劑,將一層黏結(jié)層通過硫化使其與基體結(jié)合,再將具有黏結(jié)層的軟質(zhì)材料壓到基體上,加熱融化黏結(jié)層使二者結(jié)合在一起,形成具有布狀表面的橡膠。但是現(xiàn)有的塑料外殼本身的強(qiáng)度較低,其表面的烤漆也較易磨損,且其制造工序較復(fù)雜。
鐵、鋁等金屬材料因?yàn)榫哂袃?yōu)良的加工性能,而廣泛應(yīng)用于諸多領(lǐng)域。但是,鋁材由于硬度低、耐磨性差,而鐵件暴露在空氣中則容易被腐蝕,因而在使用前需要進(jìn)行電鍍、烤漆等功能性或裝飾性處理,以彌補(bǔ)材料自身的缺陷。如美國專利第5,783,313號即揭示了一種在金屬基體表面形成鎳、鈀、鉬的復(fù)合鍍層,以提高基體表面的亮度和耐磨性的電鍍方法;而中國專利CN1030851A號則通過電鍍Zn-Ni合金的方法提高金屬材料的抗腐蝕性能。目前,便攜式電子裝置等許多具有金屬殼體的產(chǎn)品一般通過烤漆制程提高表面質(zhì)量。
但是,上述電鍍、烤漆等制程處理后,便攜式電子裝置外殼表面品質(zhì)雖有所改善,但是這些產(chǎn)品多為日常用品,與人體經(jīng)常接觸,特別是與手指接觸時(shí)會在表面留下清晰的指紋。眾所周知,指紋中含有水、灰塵、鹽等腐蝕性物質(zhì),不僅影響美觀,久而久之,會加速表面的銹蝕,而且在使用過程中需要定期對表面進(jìn)行擦拭、清洗等工作來清除指紋,造成不便。
發(fā)明內(nèi)容鑒于上述狀況,有必要提供一種制造較為簡單、具有良好耐磨性能及耐腐蝕性能的便攜式電子裝置外殼。
另,有必要提供一種便攜式電子裝置外殼的制作方法。
一種便攜式電子裝置外殼,包括一鋁基材、一氧化鋁膜層及一類金剛石薄膜層,該氧化鋁膜層形成于該鋁基材的表面,該類金剛石薄膜層形成于該氧化鋁膜層的表面。
一種便攜式電子裝置外殼的制作方法,包括以下步驟提供一成型的鋁基材;將該鋁基材放入陽極處理液中進(jìn)行陽極處理,形成一氧化鋁膜層;于該氧化鋁膜層表面沉積一層類金剛石薄膜層。
相較現(xiàn)有技術(shù),該便攜式電子裝置外殼的鋁基材表面陽極處理后形成一層陽極處理層,然后于該陽極處理層表面表面沉積一層類金剛石薄膜層,該陽極處理層具有很強(qiáng)的硬度及耐磨性,可提高鋁基材表面的性質(zhì),且通過鋁基材表面生成的陽極處理層及類金剛石薄膜層具有良好的耐磨性能及耐腐蝕性能,可防止外界的水氣、灰塵及鹽等成份的腐蝕,亦可抵制尖物或硬物的刻劃及磨損。
圖1是本發(fā)明便攜式電子裝置外殼較佳實(shí)施例的立體示意圖。
圖2是本發(fā)明便攜式電子裝置外殼較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式本發(fā)明的便攜式電子裝置外殼適用于筆記型電腦、移動電話、PDA、數(shù)碼相機(jī)等便攜式電子裝置。
參照圖1及圖2所示,本發(fā)明的便攜式電子裝置外殼1包括鋁基材10、氧化鋁膜層20及類金剛石薄膜層30,其中該氧化鋁膜層20形成于鋁基材10表面,且該氧化鋁膜層20表面形成有一類金剛石薄膜層30。
該氧化鋁膜層20是鋁基材10表面經(jīng)陽極處理而形成的陽極處理層,該氧化鋁膜層20的較佳厚度為10-200納米,更佳的厚度應(yīng)為50-100納米。該類金剛石薄膜層30的材料可為非結(jié)晶碳?xì)?a-C:H)、非結(jié)晶碳氮(a-C:N)或非結(jié)晶碳?xì)涞?a-CNH),該三種材料均具有類金剛石結(jié)構(gòu)的原子結(jié)合方式。該類金剛石薄膜層30的較佳厚度為10-100納米,更佳的厚度應(yīng)為20-60納米。
該便攜式電子裝置外殼1的制作方法包括以下步驟提供一成型的鋁基材10;將該鋁基材10放入陽極處理液中進(jìn)行陽極處理,形成一氧化鋁膜層20;
于該氧化鋁膜層20表面沉積一層類金剛石薄膜層30。
其中該成型的鋁基材10是通過沖壓成型等技術(shù)所成型,其具有便攜式電子裝置外殼的形狀。
該鋁基材10進(jìn)行陽極處理的陽極處理液可為果酸電解液,亦可為檸檬酸、酒石酸及蘋果酸的混合電解液,當(dāng)然亦可為其它現(xiàn)有的陽極處理液。
該類金剛石薄膜層30的材料可為非結(jié)晶碳?xì)?、非結(jié)晶碳氮或非結(jié)晶碳?xì)涞?br>
當(dāng)該類金剛石薄膜層30的材料為非結(jié)晶碳?xì)鋾r(shí),其可由反應(yīng)性濺射或化學(xué)氣相沉積法所沉積,該反應(yīng)性濺射是指現(xiàn)有的直流、交流或射頻反應(yīng)性濺射。反應(yīng)性濺射采用的濺射氣體為氬氣與氫氣的混合氣、氬氣與甲烷的混合氣、或氬氣與乙烷的混合氣,濺射靶材為石墨。在氬氣與氫氣的混合氣中,氫氣含量為20%左右,在氬氣與甲烷的混合氣中,甲烷含量為20%左右,在氬氣與乙烷的混合氣中,乙烷含量為20%左右。其中上述濺射氣體中的氬氣亦可為其它惰性氣體所代替,如氪氣等。
當(dāng)該類金剛石薄膜層30的材料為非結(jié)晶碳氮時(shí),其亦可由反應(yīng)性濺射或化學(xué)氣相沉積法所沉積,該反應(yīng)性濺射是指現(xiàn)有的直流、交流或射頻反應(yīng)性濺射。反應(yīng)性濺射采用的濺射氣體為氬氣與氮?dú)獾幕旌蠚?,濺射靶材為石墨。其中所述濺射氣體中的氬氣亦可為其它惰性氣體所代替,如氪氣等。
當(dāng)該類金剛石薄膜層30的材料為非結(jié)晶碳?xì)涞獣r(shí),其亦可由反應(yīng)性濺射及化學(xué)氣相沉積法所沉積,該反應(yīng)性濺射是指現(xiàn)有的直流、交流或射頻反應(yīng)性濺射。反應(yīng)性濺射采用的濺射氣體為氫氣與氮?dú)獾幕旌蠚?,濺射靶材為石墨。
該便攜式電子裝置外殼1具有良好的耐磨性能及耐腐蝕性能,可防止外界的水氣、灰塵及鹽等成份的腐蝕,亦可抵制尖物或硬物的刻劃及磨損。
權(quán)利要求
1.一種便攜式電子裝置外殼,其特征在于其包括一鋁基材、一氧化鋁膜層及一類金剛石薄膜層,該氧化鋁膜層形成于該鋁基材的表面,該類金剛石薄膜層形成于該氧化鋁膜層的表面。
2.如權(quán)利要求1所述的便攜式電子裝置外殼,其特征在于所述氧化鋁膜層是鋁基材表面經(jīng)陽極處理而形成的陽極處理層。
3.如權(quán)利要求1所述的便攜式電子裝置外殼,其特征在于所述類金剛石薄膜層的材料為非結(jié)晶碳?xì)?、非結(jié)晶碳氮或非結(jié)晶碳?xì)涞?br>
4.如權(quán)利要求1所述的便攜式電子裝置外殼,其特征在于所述氧化鋁膜層的厚度為10-200納米。
5.如權(quán)利要求1所述的便攜式電子裝置外殼,其特征在于所述類金剛石薄膜層的厚度為10-100納米。
6.一種便攜式電子裝置外殼的制作方法,其特征在于其包括以下步驟提供一成型的鋁基材;將該鋁基材放入陽極處理液中進(jìn)行陽極處理,形成一氧化鋁膜層;于該氧化鋁膜層表面沉積一層類金剛石薄膜層。
7.如權(quán)利要求6所述的便攜式電子裝置外殼的制作方法,其特征在于陽極處理時(shí)采用果酸或檸檬酸、酒石酸及蘋果酸的混合溶液為陽極處理液。
8.如權(quán)利要求6所述的便攜式電子裝置外殼的制作方法,其特征在于所述類金剛石薄膜的材料為非結(jié)晶碳?xì)洹⒎墙Y(jié)晶碳氮或非結(jié)晶碳?xì)涞?br>
9.如權(quán)利要求6所述的便攜式電子裝置外殼的制作方法,其特征在于所述類金剛石薄膜是采用反應(yīng)性濺射及化學(xué)氣相沉積法所沉積。
10.如權(quán)利要求9所述的便攜式電子裝置外殼的制作方法,其特征在于所述反應(yīng)性濺射是直流、交流或射頻反應(yīng)性濺射。
全文摘要
本發(fā)明是關(guān)于一種便攜式電子裝置外殼,包括一鋁基材、一氧化鋁膜層及一類金剛石薄膜層,該氧化鋁膜層形成于該鋁基材的表面,該類金剛石薄膜層形成于該氧化鋁膜層的表面。一種便攜式電子裝置外殼的制作方法,包括以下步驟提供一成型的鋁基材;將該鋁基材放入陽極處理液中進(jìn)行陽極處理,形成一氧化鋁膜層;于該氧化鋁膜層表面沉積一層類金剛石薄膜層。
文檔編號C25D11/10GK1870863SQ200510034959
公開日2006年11月29日 申請日期2005年5月28日 優(yōu)先權(quán)日2005年5月28日
發(fā)明者陳杰良 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司