專(zhuān)利名稱(chēng)：旋轉(zhuǎn)鍍盤(pán)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及電鍍工藝中用于裝夾鍍件的裝置領(lǐng)域，尤其是一種旋轉(zhuǎn)式鍍盤(pán)。
背景技術(shù)：
眾所周知，在電鍍行業(yè)里，鍍架是必不可少的工具。鍍架裝著鍍件送入電鍍槽中進(jìn)行施鍍，這對(duì)于單件鍍不會(huì)有什么影響，但對(duì)于批量鍍，就會(huì)嚴(yán)重影響施鍍工藝的正常進(jìn)行。因?yàn)?，大批量的鍍?例如一千只筷子狀的金屬)放在一起，它們之間的吻合處因不能受到電鍍液的侵蝕，會(huì)引起鍍層不勻和光澤各異，有時(shí)甚至脫鍍。為了解決此工藝缺陷，目前最好的方法是將鍍件立著放在容器內(nèi)，容器在鍍槽內(nèi)脈沖似的上下墩(振動(dòng))以減少鍍件間的吻合時(shí)間，從而獲得相對(duì)均勻的鍍層，但這種方法仍然不能有效地解決鍍層不均勻的技術(shù)問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有的電鍍裝置鍍層不均勻的技術(shù)不足，本實(shí)用新型提供一種旋轉(zhuǎn)鍍盤(pán)，該旋轉(zhuǎn)鍍盤(pán)不僅能使鍍層均勻，而且結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易于操作。
本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是設(shè)有轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸的兩端分別固定有一個(gè)堵盤(pán)，轉(zhuǎn)軸的中部平行間隔安裝有兩個(gè)轉(zhuǎn)盤(pán)，轉(zhuǎn)盤(pán)上均勻分布有異形孔，并且兩個(gè)轉(zhuǎn)盤(pán)對(duì)應(yīng)位置上的兩個(gè)異形孔在同一軸線(xiàn)上。
本實(shí)用新型還可通過(guò)如下措施來(lái)實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)盤(pán)為圓形并且轉(zhuǎn)盤(pán)的外圓周上加工有環(huán)形凹槽。異形孔為正四邊形孔。異形孔還可以為正五邊形孔、正六邊形孔、正七邊形孔、正八邊形孔、正九邊形孔或者橢圓形孔。
本實(shí)用新型的有益效果是，柱形鍍件插裝在兩個(gè)轉(zhuǎn)盤(pán)上相對(duì)應(yīng)的異形孔內(nèi)，鍍件在轉(zhuǎn)盤(pán)的大公轉(zhuǎn)、異形孔內(nèi)的小公轉(zhuǎn)和鍍件間摩擦引起的自轉(zhuǎn)環(huán)境下，均勻受鍍液的浸泡，從而獲得均勻的鍍層，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易于操作。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。


圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是
圖1中轉(zhuǎn)盤(pán)的俯視圖。
圖3是
圖1中轉(zhuǎn)盤(pán)的I--I剖視圖。
圖4是
圖1中堵盤(pán)的俯視圖。
圖中1.轉(zhuǎn)盤(pán)，2.堵盤(pán)，3.螺栓，4.螺母，5.轉(zhuǎn)軸，6.異形孔，7.凹槽。
具體實(shí)施方式
在
圖1、圖2、圖3、圖4中，轉(zhuǎn)軸5的兩端分別經(jīng)螺栓3、螺母4固定有一個(gè)圓形的塑料材料堵盤(pán)2，轉(zhuǎn)軸5的中部經(jīng)螺栓、螺母平行間隔安裝有兩個(gè)圓形的轉(zhuǎn)盤(pán)1，轉(zhuǎn)盤(pán)1上均勻分布有非圓形的異形孔6，并且兩個(gè)轉(zhuǎn)盤(pán)1對(duì)應(yīng)位置上的兩個(gè)異形孔6在同一軸線(xiàn)上，從而可以保證將柱形的鍍件插放在兩個(gè)轉(zhuǎn)盤(pán)1對(duì)應(yīng)的兩個(gè)異形孔6內(nèi)，轉(zhuǎn)盤(pán)1外圓周上加工有環(huán)形凹槽7，該環(huán)形凹槽7用以將皮帶套裝在轉(zhuǎn)盤(pán)1上。兩個(gè)堵盤(pán)2之間的距離是根據(jù)柱形鍍件的長(zhǎng)度而調(diào)節(jié)，鍍件被封堵在兩個(gè)堵盤(pán)2之間以免滑落，整體懸垂于鍍槽中，皮帶帶動(dòng)轉(zhuǎn)盤(pán)1使其旋轉(zhuǎn)，完成施鍍過(guò)程。本實(shí)用新型異形孔6可以為正四邊形孔、正五邊形孔、正六邊形孔、正七邊形孔、正八邊形孔等非圓形孔，也可以橢圓形孔。
本實(shí)用新型柱形鍍件插裝在兩個(gè)轉(zhuǎn)盤(pán)1上相對(duì)應(yīng)的異形孔6內(nèi)，皮帶帶動(dòng)轉(zhuǎn)盤(pán)1轉(zhuǎn)動(dòng)，鍍件隨著轉(zhuǎn)盤(pán)1的轉(zhuǎn)動(dòng)而公轉(zhuǎn)，另外，由于轉(zhuǎn)盤(pán)1轉(zhuǎn)動(dòng)引起每個(gè)異形孔6的角度在不停的改變，鍍件在異形孔6內(nèi)翻動(dòng)形成一個(gè)小公轉(zhuǎn)，每個(gè)鍍件隨著角度改變而不停的變換自己的位置，鍍件間由于摩擦而自轉(zhuǎn)。這樣，鍍件在轉(zhuǎn)盤(pán)1的大公轉(zhuǎn)、異形孔6內(nèi)的小公轉(zhuǎn)和鍍件間摩擦引起的自轉(zhuǎn)環(huán)境下，均勻受鍍液的浸泡，從而獲得均勻的鍍層，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易于操作。
權(quán)利要求1.一種旋轉(zhuǎn)鍍盤(pán)，其設(shè)有轉(zhuǎn)軸，其特征在于轉(zhuǎn)軸的兩端分別固定有一個(gè)堵盤(pán)，轉(zhuǎn)軸的中部平行間隔安裝有兩個(gè)轉(zhuǎn)盤(pán)，轉(zhuǎn)盤(pán)上均勻分布有異形孔，并且兩個(gè)轉(zhuǎn)盤(pán)對(duì)應(yīng)位置上的兩個(gè)異形孔在同一軸線(xiàn)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述旋轉(zhuǎn)鍍盤(pán)，其特征在于所說(shuō)的轉(zhuǎn)盤(pán)為圓形并且轉(zhuǎn)盤(pán)的外圓周上加工有環(huán)形凹槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述旋轉(zhuǎn)鍍盤(pán)，其特征在于所說(shuō)的異形孔為正四邊形孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述旋轉(zhuǎn)鍍盤(pán)，其特征在于所說(shuō)的異形孔還可以為正五邊形孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述旋轉(zhuǎn)鍍盤(pán)，其特征在于所說(shuō)的異形孔還可以為正六邊形孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述旋轉(zhuǎn)鍍盤(pán)，其特征在于所說(shuō)的異形孔還可以為正七邊形孔。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述旋轉(zhuǎn)鍍盤(pán)，其特征在于所說(shuō)的異形孔還可以為正八邊形孔。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述旋轉(zhuǎn)鍍盤(pán)，其特征在于所說(shuō)的異形孔還可以為正九邊形孔。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述旋轉(zhuǎn)鍍盤(pán)，其特征在于所說(shuō)的異形孔還可以為橢圓形孔。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型涉及一種電鍍工藝中用于裝夾鍍件的裝置領(lǐng)域，尤其是一種旋轉(zhuǎn)鍍盤(pán)。設(shè)有轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸的兩端分別固定有一個(gè)堵盤(pán)，轉(zhuǎn)軸的中部平行間隔安裝有兩個(gè)轉(zhuǎn)盤(pán)，轉(zhuǎn)盤(pán)上均勻分布有異形孔，并且兩個(gè)轉(zhuǎn)盤(pán)對(duì)應(yīng)位置上的兩個(gè)異形孔在同一軸線(xiàn)上。本實(shí)用新型柱形鍍件插裝在兩個(gè)轉(zhuǎn)盤(pán)上相對(duì)應(yīng)的異形孔內(nèi)，鍍件在轉(zhuǎn)盤(pán)的大公轉(zhuǎn)、異形孔內(nèi)的小公轉(zhuǎn)和鍍件間摩擦引起的自轉(zhuǎn)環(huán)境下，均勻受鍍液的浸泡，從而獲得均勻的鍍層，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易于操作。
文檔編號(hào)C25D17/06GK2820883SQ20052008652
公開(kāi)日2006年9月27日 申請(qǐng)日期2005年8月23日 優(yōu)先權(quán)日2005年8月23日
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