專利名稱：鍍膜治具及鍍膜方法
技術領域：
本發(fā)明關于一種鍍膜裝置，尤其是關于一種可用于鏡筒承座鍍膜的鍍膜治具以及鍍膜方法。
背景技術：
目前，在數(shù)碼相機的像素需求提高的趨勢下，對數(shù)碼相機畫面品質的要求也越來越高。數(shù)碼相機在使用時，可能會因信號被電磁波干擾而使相機感測元件產生雜信號進而降低了成像品質。為了提高成像品質，必須減少電磁波對感測元件的干擾。例如，一種防電磁干擾的方法就是對封裝感測元件的設備鍍一層金屬膜，在鍍膜過程中，因為不是所有的面都需要鍍膜，所以如果不對其非鍍膜面進行保護的話，會造成對非鍍膜面的污染。

發(fā)明內容
有鑒于此，提供一種可保護非鍍膜面的鍍膜治具以及利用該鍍膜治具的鍍膜方法實為必要。
一種鍍膜治具，該鍍膜治具具有一本體及一由本體一表面向外延伸的螺柱，該螺柱沿軸向設有外螺紋，用于與一待鍍膜的鏡筒承座的內螺紋相配合。
一種鍍膜方法包括以下步驟提供一上述的鍍膜治具，將該鍍膜治具旋入一待鍍鏡筒承座中，使該鍍膜治具與該鏡筒承座緊密結合，再在該鏡筒承座上鍍膜。
本發(fā)明所提供的該鍍膜治具在鍍膜過程中通過治具本體的螺柱與鏡筒承座的內螺紋以及本體與鏡筒承座的底座的緊密配合，可避免鏡筒內部的螺紋以及其底座與感測元件結合的部分被膜層污染。


圖1是本發(fā)明實施例提供的鍍膜治具示意圖。
圖2是本發(fā)明實施例提供的待鍍膜的鏡筒承座示意圖。
圖3是本發(fā)明實施例提供的用于鏡筒承座的鍍膜治具使用狀態(tài)示意圖。
具體實施例方式
請參閱圖1，本實施例中的鍍膜治具10包括一本體12和一由該本體12一表面向外延伸的螺柱11。
該本體12可以為一平行六面體，在該本體12延伸有螺柱的一端面為一平面121。
該螺柱11沿其軸向設有外螺紋111。
請參閱圖2和圖3，本實施例的待鍍膜鏡筒承座13為一通用的承座，該鏡筒承座13為一中空筒狀，包括一底座131和一在該底座131上向外垂直延伸的筒體132。
該底座131與該筒體132的內徑相當，該底座131的與平面121結合部分的底面積小于或等于鍍膜治具10本體的平面121的表面積。
該筒體132設有內螺紋133，該內螺紋133與螺柱11的外螺紋111相配合，優(yōu)選地螺柱11的長度大于或等于該鏡筒承座13的軸向長度。
該鍍膜治具10可用于在鏡筒承座13上鍍膜，所鍍膜層可為防電磁波干擾薄膜，該鍍膜層通常包括兩層，一層可為1微米的銅層，另一層可為0.2微米的奧氏體不銹鋼層，且此薄膜的電阻可小于1歐姆。
鍍膜時，請參見圖1、2和3，以鍍防電磁干擾薄膜為例，給該鏡筒承座13鍍膜包括以下步驟步驟一提供一上述鍍膜治具10，該鍍膜治具10具有一外螺紋111。
步驟二將該鍍膜治具10的螺柱11旋入待鍍膜的鏡筒承座13的筒體132中，且使螺柱11的外螺紋111與鏡筒承座13的內螺紋133緊密結合，以免該鏡筒承座13的內螺紋133被膜層污染而影響該鏡筒承座13與其它元件的結合力矩。
步驟四檢查鏡筒承座的底座131是否與治具的平面121緊密貼合，以避免在鍍膜過程中鏡筒承座的底座131與感測元件(未標示)結合的部分被膜層污染。
步驟五開始給該鏡筒承座13鍍上述的防電磁干擾薄膜，該鍍膜通?？梢杂脼R鍍方法來鍍膜。
步驟六旋出鍍膜治具10的螺柱111。
如此即可完成對該鏡筒承座13的鍍膜工段。
本發(fā)明提供的鍍膜方法不僅可用于鏡筒承座，同樣可用于類似鏡筒承座結構的其它部件等來防電磁干擾，同時還可以鍍制其它功能膜。
另外，本領域技術人員還可在本發(fā)明精神內做其它變化，如改變治具的形狀或者是改變膜層厚度，只要其不偏離本發(fā)明的技術效果，都應包含在本發(fā)明所要求保護的范圍之內。
權利要求
1.一種鍍膜治具，其特征在于該鍍膜治具包括一本體及一由本體一表面向外延伸的螺柱，且該螺柱設有外螺紋，用于與一待鍍膜的鏡筒承座的內螺紋相配合。
2.如權利要求1所述的鍍膜治具，其特征在于該鍍膜治具本體向外延伸有螺柱的表面為一平面。
3.如權利要求2所述的鍍膜治具，其特征在于平面的表面積大于或等于鏡筒承座的底座的底面面積。
4.如權利要求3所述的鍍膜治具，其特征在于該鍍膜治具的螺柱的長度大于或等于鏡筒承座的軸向長度。
5.一種鍍膜方法，其步驟如下提供一如權利要求1至4任一項所述的鍍膜治具；將該鍍膜治具的螺柱旋入待鍍鏡筒承座中，使鍍膜治具與鏡筒承座緊密結合；在該待鍍鏡筒承座上鍍一薄膜。
6.如權利要求5所述的鍍膜方法，其特征在于該鍍膜治具的外螺紋與鏡筒承座的內螺紋緊密結合。
7.如權利要求6所述的鍍膜方法，其特征在于該鏡筒承座具有一底座，該底座與所述鍍膜治具本體向外延伸有螺柱的表面緊密結合。
8.如權利要求5所述的鍍膜方法，其特征在于該薄膜為防電磁干擾薄膜。
9.如權利要求8所述的鍍膜方法，其特征在于該防電磁干擾薄膜有兩層，一層為銅，該銅層厚度為1微米，另一層為奧氏體不銹鋼，該奧氏體不銹鋼層厚度為0.2微米。
10.如權利要求8所述的的鍍膜方法，其特征在于該防電磁干擾薄膜的電阻小于1歐姆。
全文摘要
本發(fā)明提供一種鍍膜治具以及利用該鍍膜治具的鍍膜方法。該鍍膜治具具有一本體及一由該本體一表面向外延伸的螺柱，該螺柱沿軸向設有外螺紋。該鍍膜方法包括下列步驟首先提供一鍍膜治具，然后將該鍍膜治具的螺柱旋入一待鍍膜鏡筒承座中，使該鍍膜治具與該鏡筒承座緊密結合，再在該鏡筒承座上鍍一層薄膜。通過該鍍膜治具的螺柱的外螺紋與鏡筒承座的內螺紋的緊密配合，可避免鏡筒內部的螺紋以及其底座與感測元件結合的部分被膜層污染。
文檔編號C25D5/02GK101089232SQ20061006117
公開日2007年12月19日 申請日期2006年6月16日 優(yōu)先權日2006年6月16日
發(fā)明者李欣和 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司