專利名稱：多孔氧化鋁薄膜的制備方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種制備方法，更具體地說，本發(fā)明涉及一種多孔氧化鋁薄 膜的制備方法。
背景技術：
金屬鋁在酸性或弱堿性電解液中陽極氧化后，可在其表面形成多孔 氧化鋁薄膜。所述的多孔氧化鋁薄膜具有獨特的結構，緊靠著金屬鋁表面 是一層薄而致密的阻擋層，在阻擋層上則是較厚而疏松的多孔層。
現(xiàn)有多孔氧化鋁薄膜的制備方法多集中在納米有序結構方面，其工藝
條件比較復雜、制備時間長(通常需要io小時左右)、制備環(huán)境要求苛刻，
這樣，所述的制備方法在實際應用中受到的限制較多，以致無法在工業(yè) 生產(chǎn)中大規(guī)模使用。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是為了提供一種可在工業(yè)生產(chǎn)中大規(guī)模使用的多孔 氧化鋁薄膜的制備方法。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種多孔氧化鋁薄膜的制備方法，
它依次包括以下工藝步驟
(l)堿洗將鋁箔置于重量百分比濃度為2~4%、溫度為36:t2t的氫 氧化鈉溶液中浸泡2 4分鐘后，取出鋁箔并進行清洗；
(2 )預腐蝕在電解槽內(nèi)放入溫度為36 ± lt的預腐蝕液，使經(jīng)步驟(1 ) 處理過的鋁箔位于電解槽的陽極并通直流電進行預腐蝕，預腐蝕的電流密度 為42:t0.1A/dm2，時間為2 4分鐘，預腐蝕結束后，取出鋁箔并進行清洗， 所述的預腐蝕液由下述重量百分比的組份組成鹽酸17~19%，添加劑 2.5 ~4%，水余量；
(3 )中處理將經(jīng)步驟(2 )處理過的鋁箔置于溫度為36 ± 1T的中處理 液中浸泡2 4分鐘后，取出鋁箔并進行清洗，所述的中處理液由下述重量百 分比的組份組成鹽酸20~22%，添加劑 1~1.5%，水余量；
(4)交流腐蝕在電解槽內(nèi)放入溫度為36±11的交流腐蝕液，使經(jīng)步 驟(3)處理過的鋁箔位于電解槽的一極并通交流電進行交流腐蝕，交流腐蝕 的電流密度為32土0.1A/dm2，時間為2 6分鐘，交流腐蝕結束后，取出鋁箔 并進行清洗，所述的交流腐蝕液由下述重量百分比的組份組成鹽酸18 ~ 19%，添加劑2~4%，水余量；
(5 )—次后處理將經(jīng)步驟(4 )處理過的鋁箔置于重量百分比濃度為4 ~ 6%、溫度為36 ± 的硝酸溶液中浸泡1 ~ 3分鐘后，取出鋁箔并進行清洗；
(6)二次后處理在電解槽內(nèi)放入溫度為36土ir的二次后處理液，使 經(jīng)步驟(5)處理過的鋁箔位于電解槽的陽極并通直流電進行二次后處理，二 次后處理的槽壓為50士0,5V，時間為1 3分鐘，二次后處理結束后，取出鋁箔并進行清洗，所述的二次后處理液由下述重量百分比的組份組成己二酸 銨9~11%，添加劑 1~2%，水余量；
(7 )調(diào)整將經(jīng)步驟(6 )處理過的鋁箔置于重量百分比濃度為2 ~ 3%、 溫度為85±0.5《的磷酸二氫銨溶液中浸泡1~3分鐘后，取出鋁箔并進行清 洗；
(8 )熱處理將經(jīng)步驟(7 )處理過的鋁箔在500± lt恒溫1~3分鐘， 最終在鋁箔表面形成多孔氧化鋁薄膜。
在本發(fā)明所述的制備方法中，各工藝步驟的作用是堿洗可去除鋁 箔表面的油污、雜質以及天然的氧化鋁薄膜，使鋁箔表面均勻，有利于 預腐蝕時形成均勻分布的初始蝕孔；預腐蝕是在鋁箔表面引發(fā)初始蝕孔， 并使蝕孔孔徑的大小合理，分布均勻；中處理是通過化學方法洗去在預 腐蝕過程中鋁箔表面產(chǎn)生的不利于擴孔的沉積物；交流腐蝕是以初始蝕 孔為核，繼續(xù)進行腐蝕以擴展孔，使鋁箔表面進一步多孔化； 一次后處 理是除去鋁箔表面殘留的氯離子以及金屬雜質；二次后處理是在鋁箔腐 蝕后的多孔表面上形成不同厚度的致密氧化鋁薄膜，以保證多孔氧化鋁 薄膜的化學穩(wěn)定性；調(diào)整主要是在較高溫度下，將二次后處理后鋁箔表 面生成的Al(OH)3膠狀物質溶解，避免所述的膠狀物質堵塞孔洞而降低 多孔氧化鋁薄膜的表面積；熱處理主要是穩(wěn)定鋁箔表面的多孔氧化鋁薄 膜的結構，以期獲得表面積大、化學和電化學穩(wěn)定性高的多孔氧化鋁薄 膜。
°由于本發(fā)明制備方法中的工藝條件比較簡單，制備時間短(只需30 分鐘左右)，對制備環(huán)境的要求寬松，設備采用常規(guī)設備即可，因此，本 發(fā)明制備方法可在工業(yè)生產(chǎn)中大規(guī)模使用。
所述步驟(1)至(7 )的每個步驟中均是用25 ± 的去離子水對相應取 出的鋁箔進行清洗，清洗的時間為1 ~2分鐘。
所述步驟(2)中的添加劑由下述重量百分比的組份組成亞硝酸鈉2 ~ 3%，鉬酸鈉0.5 ~1%。
所述步驟(3)中的添加劑為氯化鐵。
所述步驟(4 )中的添加劑由下述重量百分比的組份組成硫酸亞鐵1 ~ 2%，亞硝酸鈉 1~2%。
所述步驟(6)中的添加劑為硫酸銨。


圖1是從一批外購鋁箔中經(jīng)隨機截取一片鋁箔，在使用本發(fā)明實施例 1的制備方法且讓該鋁箔經(jīng)過堿洗、預腐蝕工藝步驟處理后，鋁箔表面 微觀形貌放大至300倍時的掃描電子顯微分析照片；
圖2是使用本發(fā)明實施例1的制備方法且讓經(jīng)過堿洗、預腐蝕工藝步 驟處理過的鋁箔繼續(xù)經(jīng)過中處理工藝步驟處理后，鋁箔表面微觀形貌放 大至300倍時的掃描電子顯微分析照片；圖3是使用本發(fā)明實施例1的制備方法且讓經(jīng)過中處理工藝步驟處理 過的鋁箔繼續(xù)經(jīng)過交流腐蝕工藝步驟處理后，鋁箔表面微觀形貌放大至 300倍時的掃描電子顯微分析照片；
圖4是使用本發(fā)明實施例1的制備方法且讓經(jīng)過交流腐蝕工藝步驟處 理過的鋁箔繼續(xù)經(jīng)過一次后處理工藝步驟處理后，鋁箔表面微觀形貌放大 至300倍時的掃描電子顯微分析照片；
圖5是使用本發(fā)明實施例1的制備方法且讓經(jīng)過一次后處理工藝步驟 處理過的鋁箔繼續(xù)經(jīng)過二次后處理工藝步驟處理后，鋁箔表面微觀形貌放 大至300倍時的掃描電子顯微分析照片；
圖6是使用本發(fā)明實施例1的制備方法且讓經(jīng)過二次后處理工藝步驟 處理過的鋁箔繼續(xù)經(jīng)過調(diào)整、熱處理工藝步驟處理后，鋁箔表面微觀形 貌放大至300倍時的掃描電子顯微分析照片；
圖7是圖6中的鋁箔表面微觀形貌進一步放大至2000倍時的掃描電 子顯微分析照片。
具體實施例方式
以下通過下面給出的實施例可以進一步清楚地了解本發(fā)明。但它們 不是對本發(fā)明的限定。 實施例1:
多孔氧化鋁薄膜的制備方法，它依次包括以下工藝步驟
(1) 堿洗將鋁箔置于重量百分比濃度為2%、溫度為的氫氧化鈉 溶液中浸泡2分鐘后，取出鋁箔并用23r的去離子水對其清洗2分鐘，本實 施例所采用的鋁箔純度為99.99% ，且其尺寸為5mm x 5mm x 0.3mm;
(2) 預腐蝕在電解槽內(nèi)放入溫度為35r的預腐蝕液，使經(jīng)步驟(1) 處理過的鋁箔位于電解槽的陽極并通直流電進行預腐蝕，預腐蝕的電流密度 為42.1A/dm2，時間為4分鐘，預腐蝕結束后，取出鋁箔并用23T的去離子水 對其清洗2分鐘，所述的預腐蝕液由下述重量百分比的組份組成:鹽酸17% ， 添加劑2.5%,水80.5%，所述的添加劑由下述重量百分比的組份組成亞 硝酸鈉2%，鉬酸鈉0.5%，此時參見圖1，可以看到，鋁箔表面出現(xiàn)了一 些初始的蝕坑，蝕坑的尺寸較小且結構簡單，外形大致為圓形；
(3) 中處理將經(jīng)步驟(2)處理過的鋁箔置于溫度為35《的中處理液 中浸泡4分鐘后，取出鋁箔并用23t的去離子水對其清洗2分鐘，所述的中 處理液由下述重量百分比的組份組成鹽酸20%，添加劑1%，水79%， 所述的添加劑為氯化鐵，此時參見圖2，可以看到，鋁箔表面分布有一系列的 蝕坑，與圖1中的鋁箔表面微觀形貌相比，蝕坑在尺寸和數(shù)量上都有所增加， 而且蝕坑的形狀變得不規(guī)則，結構也變復雜；
(4 )交流腐蝕在電解槽內(nèi)放入溫度為35^的交流腐蝕液，使經(jīng)步驟(3 ) 處理過的鋁箔位于電解槽的一極并通交流電進行交流腐蝕，交流腐蝕的電流 密度為311A/dm2，時間為6分鐘，交流腐蝕結束后，取出鋁箔并用23t的去離子水對其清洗2分鐘，所述的交流腐蝕液由下述重量百分比的組份組成 鹽酸18%,添加劑2%，水80%，所述的添加劑由下述重量百分比的組 份組成硫酸亞鐵1%，亞硝酸鈉1%，此時參見圖3，可以看到，鋁箔表 面出現(xiàn)一定的空間層次，表明多孔氧化鋁薄膜已初步形成；
(5) —次后處理將經(jīng)步驟(4)處理過的鋁箔置于重量百分比濃度為 4%、溫度為37t的硝酸溶液中浸泡3分鐘后，取出鋁箔并用23t的去離子水 對其清洗2分鐘，此時參見圖4，可以看到，鋁箔表面的空間層次已不存在明 顯的單個蝕坑，呈現(xiàn)一定的起伏，與圖3中的鋁箔表面微觀形貌相比，多孔 氧化鋁薄膜的多孔層的疏松性提高、層次感增強，以至多孔氧化鋁薄膜的結 構更加細膩；
(6) 二次后處理在電解槽內(nèi)放入溫度為35《的二次后處理液，使經(jīng)步 驟(5)處理過的鋁箔位于電解槽的陽極并通直流電進行二次后處理，二^ 處理的槽壓為50.5V，時間為3分鐘，二次后處理結束后，取出鋁箔并用23 ^的去離子水對其清洗2分鐘，所述的二次后處理液由下述重量百分比的組 份組成己二酸銨9%，添加劑1%，水90%,所述的添加劑為硫酸銨， 此時參見圖5，可以看到，鋁箔表面呈現(xiàn)出疏松的多孔氧化鋁薄膜的結構，與 圖4中的鋁箔表面微觀形貌相比，無明顯差異；
(7 )調(diào)整將經(jīng)步驟(6 )處理過的鋁箔置于重量百分比濃度為2%、溫 度為85.5T的磷酸二氫銨溶液中浸泡3分鐘后，取出鋁箔并用23t的去離子 水對其清洗2分鐘；
(8 )熱處理將經(jīng)步驟(7 )處理過的鋁箔在499t恒溫3洲，最終在 鋁箔表面形成多孔氧化鋁薄膜，此時參見圖6，可以看到，鋁箔表面也呈現(xiàn)出 疏松的多孔氧化鋁薄膜的結構，與圖4中的鋁箔表面微觀形貌相比，也無明 顯差異。再參見圖7，可以進一步清晰地看出，鋁箔表面空間層次進一步清晰， 疏松的多孔氧化鋁薄膜的結構已經(jīng)比較明顯。
經(jīng)檢測，所述的多孔氧化鋁薄膜具有表面積大、化學和電化學穩(wěn)定性高 的優(yōu)點。
綜上所述，在本發(fā)明所述制備方法的各工藝步驟中，堿洗、預腐蝕和中 處理這三個工藝步驟為蝕孔的萌生階段，鋁箔表面先是出現(xiàn)了分散的蝕孔， 然后蝕孔的數(shù)量變多、尺寸變大，結構也變復雜。鋁箔經(jīng)歷交流腐蝕、 一次 后處理這兩個工藝步驟后，蝕孔在初生蝕孔的基礎上進入發(fā)展階段 一方面 蝕孔之間相互合并以及鋁箔表面的新生蝕孔不斷增加，另一方面在初生蝕孔 孔壁的活性區(qū)會出現(xiàn)新的蝕孔，這使得蝕孔分布變密、空間層次增多、結構 變得復雜，最終在鋁箔表面形成了疏松的多孔氧化鋁薄膜結構。交流腐蝕對 鋁箔表面微觀形貌的改變作用最明顯， 一次后處理使得多孔氧化鋁薄膜的結 構更加疏松細膩。二次后處理、調(diào)整和熱處理這三個工藝步驟對鋁箔表面的 微觀形貌影響不大，這三個工藝步驟主要是提高多孔氧化鋁薄膜的化學和電 化學穩(wěn)定性，以及其微觀結構的穩(wěn)定性。實施例2:
多孔氧化鋁薄膜的制備方法，它依次包括以下工藝步驟
(1) 堿洗將鋁箔置于重量百分比濃度為3%、溫度為36t的氫氧化鈉 溶液中浸泡3分鐘后，取出鋁箔并用25r的去離子水對其清洗1.5分鐘，本 實施例所采用的鋁箔純度為99.99% ，且其尺寸為5mm x 5mm x 0.3mm;
(2) 預腐蝕在電解槽內(nèi)放入溫度為36t的預腐蝕液，使經(jīng)步驟(l) 處理過的鋁箔位于電解槽的陽極并通直流電進行預腐蝕，預腐蝕的電流密度 為42A/dm2，時間為3分鐘，預腐蝕結束后，取出鋁箔并用25T的去離子水 對其清洗1.5分鐘，所述的預腐蝕液由下述重量百分比的組份組成鹽酸 18%,添加劑3%，水79%，所述的添加劑由下述重量百分比的組份組成 亞硝酸鈉2.5%，鉬酸鈉0.5%;
(3) 中處理將經(jīng)步驟(2)處理過的鋁箔置于溫度為36t的中處理液 中浸泡3分鐘后，取出鋁箔并用25t的去離子水對其清洗1.5分鐘，所述的 中處理液由下述重量百分比的組份組成鹽酸21%，添加劑 1.3%,水 77.7%,所述的添加劑為氯化鐵；
(4) 交流腐蝕在電解槽內(nèi)放入溫度為36^的交流腐蝕液，使經(jīng)步驟(3 ) 處理過的鋁箔位于電解槽的一極并通交流電進行交流腐蝕，交流腐蝕的電流 密度為32A/dm2，時間為4分鐘，交流腐蝕結束后，取出鋁箔并用25T的去
離子水對其清洗1.5分鐘，所述的交流腐蝕液由下述重量百分比的組份組成 鹽酸18.5%，添加劑3%，水78.5%,所述的添加劑由下述重量百分比的 組份組成硫酸亞鐵1.5%,亞硝酸鈉1.5%;
(5) —次后處理將經(jīng)步驟(4)處理過的鋁箔置于重量百分比濃度為 5%、溫度為36T:的硝酸溶液中浸泡2分鐘后，取出鋁箔并用25t的去離子水 對其清洗L5分鐘；
(6) 二次后處理在電解槽內(nèi)放人溫度為36r的二次后處理液，使經(jīng)步 驟(5)處理過的鋁箔位于電解槽的陽極并通直流電進行二次后處理，二次后 處理的槽壓為50V，時間為2分鐘，二次后處理結束后，取出鋁箔并用25T 的去離子水對其清洗1.5分鐘，所述的二次后處理液由下述重量百分比的組份 組成己二酸銨10%,添加劑1.5%，水88.5%，所述的添加劑為硫酸銨；
(7) 調(diào)整將經(jīng)步驟(6)處理過的鋁箔置于重量百分比濃度為2.5%、 溫度為的磷酸二氫銨溶液中浸泡2分鐘后，取出鋁箔并用25r的去離子 水對其清洗L5分鐘；
(8 )熱處理將經(jīng)步驟(7 )處理過的鋁箔在500r恒溫2分鐘，最終在 鋁箔表面形成多孔氧化鋁薄膜。
經(jīng)檢測，所述的多孔氧化鋁薄膜具有表面積大、化學和電化學穩(wěn)定性高 的優(yōu)點。
實施例3:
多孔氧化鋁薄膜的制備方法，它依次包括以下工藝步驟(1 )堿洗將鋁箔置于重量百分比濃度為4%、溫度為34t的氫氧化鈉 溶液中浸泡4分鐘后，取出鋁箔并用27r的去離子水對其清洗1分鐘，本實 施例所采用的鋁箔純度為99.99% ，且其尺寸為5mm x 5mm x 0.3mm;
(2) 預腐蝕在電解槽內(nèi)放入溫度為37t的預腐蝕液，使經(jīng)步驟(1) 處理過的鋁箔位于電解槽的陽極并通直流電進行預腐蝕，預腐蝕的電流密度 為41.9A/dm2，時間為2分鐘，預腐蝕結束后，取出鋁箔并用27t的去離子水 對其清洗1分鐘，所述的預腐蝕液由下述重量百分比的組份組成:鹽酸19%， 添加劑4%，水77%，所述的添加劑由下述重量百分比的組份組成亞硝 酸鈉3%，鉬酸鈉1%;
(3) 中處理將經(jīng)步驟(2)處理過的鋁箔置于溫度為37t的中處理液 中浸泡2分鐘后，取出鋁箔并用27t的去離子水對其清洗l分鐘，所述的中 處理液由下述重量百分比的組份組成鹽酸 22%，添加劑 1.5%,水 76.5%,所述的添加劑為氯化鐵；
(4 )交流腐蝕在電解槽內(nèi)放人溫度為37t的交流腐蝕液，使經(jīng)步驟(3 ) 處理過的鋁箔位于電解槽的一極并通交流電進行交流腐蝕，交流腐蝕的電流 密度為31.9A/dm2，時間為2分鐘，交流腐蝕結束后，取出鋁箔并用27t的去 離子水對其清洗1分鐘，所述的交流腐蝕液由下述重量百分比的組份組成 鹽酸19%,添加劑4%，水77%,所述的添加劑由下述重量百分比的組 份組成硫酸亞鐵2%，亞硝酸鈉2%;
(5) —次后處理將經(jīng)步驟(4)處理過的鋁箔置于重量百分比濃度為 6%、溫度為35T的硝酸溶液中浸泡1分鐘后，取出鋁箔并用27T:的去離子水 對其清洗l分鐘；
(6) 二次后處理在電解槽內(nèi)放入溫度為37r的二次后處理液，使經(jīng)步 驟(5)處理過的鋁箔位于電解槽的陽極并通直流電進行二次后處理，二次后 處理的槽壓為49.5V,時間為1分鐘，二次后處理結束后，取出鋁箔并用27 T的去離子水對其清洗1分鐘，所述的二次后處理液由下述重量百分比的組 份組成己二酸銨11%,添加劑2%，水87%，所述的添加劑為硫酸銨；
(7 )調(diào)整將經(jīng)步驟(6 )處理過的鋁箔置于重量百分比濃度為3%、溫 度為84.5t的磷酸二氫銨溶液中浸泡1分鐘后，取出鋁箔并用27T的去離子 水對其清洗l分鐘；
(8 )熱處理將經(jīng)步驟(7 )處理過的鋁箔在501 r恒溫1分鐘，最終在 鋁箔表面形成多孔氧化鋁薄膜。
經(jīng)檢測，所述的多孔氧化鋁薄膜具有表面積大、化學和電化學穩(wěn)定性高 的優(yōu)點。
權利要求
1、多孔氧化鋁薄膜的制備方法，它依次包括以下工藝步驟(1)堿洗將鋁箔置于重量百分比濃度為2～4％、溫度為36±2℃的氫氧化鈉溶液中浸泡2～4分鐘后，取出鋁箔并進行清洗；(2)預腐蝕在電解槽內(nèi)放入溫度為36±1℃的預腐蝕液，使經(jīng)步驟(1)處理過的鋁箔位于電解槽的陽極并通直流電進行預腐蝕，預腐蝕的電流密度為42±0.1A/dm2，時間為2～4分鐘，預腐蝕結束后，取出鋁箔并進行清洗，所述的預腐蝕液由下述重量百分比的組份組成鹽酸17～19％，添加劑2.5～4％，水余量；(3)中處理將經(jīng)步驟(2)處理過的鋁箔置于溫度為36±1℃的中處理液中浸泡2～4分鐘后，取出鋁箔并進行清洗，所述的中處理液由下述重量百分比的組份組成鹽酸20～22％，添加劑1～1.5％，水余量；(4)交流腐蝕在電解槽內(nèi)放入溫度為36±1℃的交流腐蝕液，使經(jīng)步驟(3)處理過的鋁箔位于電解槽的一極并通交流電進行交流腐蝕，交流腐蝕的電流密度為32±0.1A/dm2，時間為2～6分鐘，交流腐蝕結束后，取出鋁箔并進行清洗，所述的交流腐蝕液由下述重量百分比的組份組成鹽酸18～19％，添加劑2～4％，水余量；(5)一次后處理將經(jīng)步驟(4)處理過的鋁箔置于重量百分比濃度為4～6％、溫度為36±1℃的硝酸溶液中浸泡1～3分鐘后，取出鋁箔并進行清洗；(6)二次后處理在電解槽內(nèi)放入溫度為36±1℃的二次后處理液，使經(jīng)步驟(5)處理過的鋁箔位于電解槽的陽極并通直流電進行二次后處理，二次后處理的槽壓為50±0.5V，時間為1～3分鐘，二次后處理結束后，取出鋁箔并進行清洗，所述的二次后處理液由下述重量百分比的組份組成己二酸銨9～11％，添加劑1～2％，水余量；(7)調(diào)整將經(jīng)步驟(6)處理過的鋁箔置于重量百分比濃度為2～3％、溫度為85±0.5℃的磷酸二氫銨溶液中浸泡1～3分鐘后，取出鋁箔并進行清洗；(8)熱處理將經(jīng)步驟(7)處理過的鋁箔在500±1℃恒溫1～3分鐘，最終在鋁箔表面形成多孔氧化鋁薄膜。
2、 按照權利要求l所述的多孔氧化鋁薄膜的制備方法，其特征在于所 述步驟(1)至(7 )的每個步驟中均是用25 ± 的去離子水對相應取出的鋁 箔進行清洗，清洗的時間為1 ~ 2分鐘。
3、 按照權利要求1或2所述的多孔氧化鋁薄膜的制備方法，其特征在于: 所述步驟(2 )中的添加劑由下述重量百分比的組份組成亞硝酸鈉2 ~ 3%， 鉬酸鈉0.5 ~1%。
4、 按照權利要求1或2所述的多孔氧化鋁薄膜的制備方法，其特征在于: 所述步驟(3)中的添加劑為氯化鐵。
5、 按照權利要求1或2所述的多孔氧化鋁薄膜的制備方法，其特征在于: 所述步驟(4)中的添加劑由下述重量百分比的組份組成硫酸亞鐵1 ~2%，亞硝酸鈉1~2%。
6、按照權利要求1或2所述的多孔氧化鋁薄膜的制備方法，其特征在于: 所述步驟(6)中的添加劑為硫酸銨。
全文摘要
多孔氧化鋁薄膜的制備方法，步驟是將鋁箔置于氫氧化鈉溶液中浸泡進行堿洗；使上步中的鋁箔位于電解槽的陽極并通直流電進行預腐蝕；將上步中的鋁箔置于中處理液中浸泡進行中處理；使上步中的鋁箔位于電解槽的一極并通交流電進行交流腐蝕；將上步中的鋁箔置于硝酸溶液中浸泡進行一次后處理；使上步中的鋁箔位于電解槽的陽極并通直流電進行二次后處理；將上步中的鋁箔置于磷酸二氫銨溶液中浸泡進行調(diào)整(需要特別說明的是，以上各步中每一步結束時均要對鋁箔進行清洗，然后才能進入下一步)；將上步中的鋁箔進行熱處理，最終在鋁箔表面形成表面積大、化學和電化學穩(wěn)定性高的多孔氧化鋁薄膜。本發(fā)明制備方法可在工業(yè)生產(chǎn)中大規(guī)模使用。
文檔編號C25D11/18GK101608331SQ20081012399
公開日2009年12月23日 申請日期2008年6月16日 優(yōu)先權日2008年6月16日
發(fā)明者昊 吳 申請人:昊 吳