專利名稱：液體處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種處理裝置，且特別是涉及一種液體處理裝置。
背景技術(shù)：
電鍍制作工藝是一種發(fā)展已久的成膜技術(shù)，自其問世以來，即廣泛的應 用在各種不同用途與不同領(lǐng)域上。從早期以美觀為主的裝飾用途，例如在容 器表面上形成一具有光澤的薄膜，逐漸發(fā)展到現(xiàn)今應用于高科技產(chǎn)業(yè)，例如 在半導體制作工藝中形成一具有導電性的金屬層，是現(xiàn)今科技產(chǎn)業(yè)中不可或
缺的一項技術(shù)。
圖1A為現(xiàn)有一種電鍍液處理裝置的示意圖，圖1B為圖1A的電鍍液處 理裝置進行液體處理的示意圖。請同時參考圖1A與圖1B，現(xiàn)有電鍍液處理 裝置1包括一槽體10、 一進風管20、 一溫度調(diào)節(jié)器30、多個輸入管40、 42 以及一輸出管50,其中進風管20與溫度調(diào)節(jié)器30分別配置于槽體10內(nèi)， 這些輸入管40、 42與輸出管50分別連通至槽體10內(nèi)。
詳細而言，現(xiàn)有電鍍液處理裝置1適于處理一電鍍液W,其中電鍍液W 是通過進風管20來提供氣泡B以混合這些輸入管40輸入的多種溶劑所形 成。由于電鍍液W是通過氣泡B混合這些溶劑所形成，因此在槽體10內(nèi)的 電鍍液W中會存在許多大大小小的氣泡B，而這些氣泡B會隨著電鍍液W 經(jīng)由溫度調(diào)節(jié)器30調(diào)整到所需的溫度后，從輸出管50輸出至一過濾器60 中，此時，在過濾器60中的電鍍液W也存在有許多氣泡B。
此時，這些氣泡B會跟著電鍍液W—起流入電鍍槽內(nèi)。當進行電鍍制 作工藝時，這些氣泡B會附著于一預定電鍍的基板(未繪示)表面上，且這 些氣泡B會造成干擾，使得基板表面所電鍍的一金屬層(未繪示)因氣泡的 阻鍍效應而產(chǎn)生金屬層凹陷的現(xiàn)象，而影響制作工藝良率與產(chǎn)品品質(zhì)。

實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供一種液體處理裝置，其通過第一導流板與第二導流板來阻隔液體中氣泡的流動，可有效減少液體輸出于液體處理裝置時 的氣泡量。
本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的，即提出一種液體處理裝置，適于處理 一液體，其中液體是通過一進風管來提供氣泡以混合多個輸入管輸入的多種
溶劑所形成。液體處理裝置包括一槽體、 一第一導流板、 一第二導流板以及 一分隔板。槽體用于存放液體。第一導流板配置槽體內(nèi)，且第一導流板具有 多個貫孔。這些貫孔位于液體的液面下，且與液體的液面相隔一第一深度。 第二導流板配置槽體內(nèi)，且第二導流板的底部具有一通道。通道位于液體的 液面下。分隔板配置槽體內(nèi)，且分隔板、第一導流板以及第二導流板將槽體 內(nèi)區(qū)分為一第一容置槽、 一第二容置槽以及一第三容置槽。這些貫孔連通第 一容置槽與第二容置槽。通道連通第二容置槽與第三容置槽。液體依序經(jīng)由 第一容置槽、第二容置槽而到達第三容置槽。
在本實用新型的一實施例中，上述的這些輸入管與進風管皆設(shè)置于第一 容置槽。
在本實用新型的一實施例中，上述的分隔板連接第一導流板與第二導流板。
在本實用新型的一實施例中，上述的通道與液體的液面相隔一第二深
度。第二深度大于第一深度。
在本實用新型的一實施例中，上述的液體處理裝置更包括一冷卻器。冷
卻器配置第二容置槽，用以冷卻液體的溫度。
在本實用新型的一實施例中，上述的液體處理裝置更包括一加熱器。加
熱器配置第二容置槽，用以加熱液體的溫度。
在本實用新型的一實施例中，上述的液體處理裝置更包括至少一輸出
管。輸出管配置于第三容置槽，其中輸出管適于連接一電鍍槽，用以將液體 從第三容置槽輸出至電鍍槽。
在本實用新型的一實施例中，上述的液體包括電鍍液。
在本實用新型的一實施例中，上述的這些貫孔的形狀包括圓形、方形或 橢圓形。
在本實用新型的一實施例中，上述的通道的形狀包括方形、半圓形或拱形。
本實用新型的優(yōu)點在于，由于本實用新型的第 一導流板與第二導流板能阻隔液體中氣泡的流動，所以當液體依序從第一容置槽、第一導流板、第二 容置槽、第二導流板而到達第三容置槽時，液體中的氣泡量會大幅減少。因 此，本實用新型的液體處理裝置可有效降低液體輸出時的氣泡量，以利于后 續(xù)電鍍制作工藝。
為讓本實用新型的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特 舉實施例，并配合所附附圖作詳細說明如下。


圖1A為現(xiàn)有一種電鍍液處理裝置的示意圖； 圖1B為圖1A的電鍍液處理裝置進行液體處理的示意圖； 圖2A為本實用新型的一實施例的一種液體處理裝置的示意圖； 圖2B為圖2A的液體處理裝置進行液體處理的示意圖； 圖2C為圖2A的液體處理裝置中第一導流板、第二導流板與液面的關(guān) 系示意圖3為圖2A的液體處理裝置與一電鍍槽以及一系統(tǒng)控制器的關(guān)系示意圖。
主要元件符號說明
1:電鍍液處理裝置
10:槽體
20:進風管
30:溫度調(diào)節(jié)器
40、 42:輸入管
50:輸出管
60:過濾器
100:液體處理裝置
110:槽體
U0a:底板
110b:側(cè)板
120:第一導流板
122:貫孔
130:第二導流板
5132 通道
140:分隔板
150進風管
160、 162輸入管170輸出管
180冷卻器
200電鍍槽
210過濾器
220系統(tǒng)控制器
B、B':氣泡
CI:第一容置槽
C2:第二容置槽
C3:第三容置槽
Dl:第一深度
D2:第二深度
F:液體 F， 液面 W:電鍍液
Ll、 L2、 L3、 L4、 L5、 L6:箭頭方向具體實施方式
圖2A為本實用新型的一實施例的一種液體處理裝置的示意圖，圖2B 為圖2A的液體處理裝置進行液體處理的示意圖，圖2C為圖2A的液體處理 裝置中第一導流板、第二導流板與液面的關(guān)系示意圖。請先同時參考圖2A 與圖2B，本實施例的液體處理裝置100適于處理一液體F，其中液體F是通 過一進風管150來提供氣泡B以混合多個輸入管160、 162輸入的多種溶劑 所形成。在本實施例中，液體F例如是電鍍液，而前述的多種溶劑例如是電 鍍劑、平整劑、抑制劑以及加速劑等。
液體處理裝置100包括一槽體110、 一第一導流板120、 一第二導流板 130以及一分隔板140，其中第一導流板120、第二導流板130與分隔板140 皆分別位于槽體110內(nèi)。舉例而言，槽體110例如為矩形槽體110,其是由
6一底板110a與多個連接底板110a的側(cè)板110b所形成，用于存放液體F。
請同時參考圖2B與圖2C,在本實施例中，第一導流板120具有多個貫孔122 (圖2B與圖2C中僅示意地繪示八個)，其中這些貫孔122位于液體F的液面F，下，且這些貫孔122與液體F的液面F，相隔一第一深度D1。在本實施例中，這些貫孔122的形狀例如為圓形、方形、橢圓形或其他合適的幾何形狀，且這些貫孔122;f皮此呈間隔排列。
第二導流板130的底部具有一通道132,其中通道132位于液體F的液面F，下，且通道132與液體F的液面F，相隔一第二深度D2。在本實施例中，第二深度D2大于第一深度Dl,也就是說，通道132距離液面F，下的深度相較于這些貫孔122距離液面F，下的深度深，換言之，這些貫孔122離液面F，較淺。此外，在本實施例中，通道132的形狀例如是方形、半圓形、拱形或其他合適的幾何形狀。在此必須說明的是，雖然在本實施例中，第二深度D2大于第一深度D1，但在其他未繪示的實施例中，第二深度D2也可以等于第一深度D1。因此，圖2B與圖2C所示的通道132與液體F的液面F，相隔的第二深度D2以及這些貫孔122與液體F的液面F，相隔的第一深度Dl僅為舉例說明，并非限定本實用新型。
分隔板140連接第一導流板120與第二導流板130，且分隔板140、第一導流板120與第二導流板130將槽體110內(nèi)區(qū)分為一第一容置槽Cl、 一第二容置槽C2以及一第三容置槽C3，其中這些輸入管160與進風管150設(shè)置于第一容置槽Cl,但本實用新型不以此為限。具體而言，在本實施例中，第一導流板120位于第一容置槽Cl與第二容置槽C2之間，且第一導流板120的這些貫孔122連通第一容置槽Cl與第二容置槽C2。第二導流板130位于第二容置槽C2與第三容置槽C3之間，且第二導流板130的通道132連通第二容置槽C2與第三容置槽C3。分隔板140位于第一容置槽C1與第三容置槽C3之間，且分隔板140分隔第一導流板120與第二導流板130。
此外，在本實施例中，液體處理裝置100更包括至少一輸出管170 (圖2A與圖2B中僅示意地的繪示一個)，其中輸出管170連通于第三容置槽C3且適于連接一過濾器210,用于將液體F輸出。另外，液體處理裝置100更包括一冷卻器180或一加熱器(未繪示)，其中冷卻器180或加熱器皆可配置于第二容置槽C2，用以冷卻或加熱液體F的溫度。
舉例來說，當液體F是用來鍍銅時，銅電鍍液所需的溫度約為20°C，而一般的室溫約為25°C，因此可選擇使用冷卻器180以降低液體F的溫度。當液體F是用來鍍鎳時，鎳電鍍液所需的溫度約為52。C 58。C之間，相較于一般的室溫高，因此可選擇使用加熱器以加熱液體F的溫度。換言之，可依照所需液體F的溫度來選擇配置冷卻器180、加熱器或冷熱兩用的溫度調(diào)節(jié)器。在本實施例中，圖2A與圖2B中僅繪示以冷卻器180做為舉例說明，^旦并不以此為限。
請再參考圖2B，當液體處理裝置100開始運作時，進風管150會提供氣泡B于槽體110的第一容置槽Cl內(nèi)，其中氣泡B可加速混合這些輸入管160所輸入的這些溶劑，以形成所需的液體F。此時，第一容置槽C1內(nèi)的液體F中存在許多大大小小的氣泡B。接著，液體F與這些大大小小的氣泡B會沿著箭頭方向Ll從第一容置槽Cl移動至第二容置槽C2內(nèi)，由于第一導流板120位于第一容置槽Cl與第二容置槽C2之間，因此第一導流板120的這些貫孔122可以將部分較大的氣泡B給阻擋下來，其中阻擋下來的氣泡B的直徑約大于這些貫孔122的直徑。也就是說，第一導流板120可以阻止部分較大的氣泡B的流動。此時，液體F與部分較小的氣泡B，會穿過這些貫孔122而進入第二容置槽C2。
第二容置槽C2內(nèi)設(shè)置有冷卻器180，液體F與部分較小的氣泡B，經(jīng)由冷卻器180調(diào)整溫度至所需的溫度后，會沿著箭頭方向L2從第二容置槽C2進入第三容置槽C3。由于第二導流板130是位于第二容置槽C2與第三容置槽C3之間，且通道132是位于第二導流板130的底部，依據(jù)氣泡B、 B，是由下往上升的原理，因此大部分較小的氣泡B，會被第二導流板130給阻擋下來，也就是說，液體F會從第二容置槽C2經(jīng)由第二導流板130的通道132而進入第三容置槽C3，而部分較小的氣泡B，會被第二導流板130給阻擋而留在第二容置槽C2。
特別是，在本實施例中，通道132與液體F的液面F，相隔的第二深度D2大于這些貫孔122與液體F的液面F，相隔的第一深度D1，也就是說，通道132距離液面F，下的深度相較于這些貫孔122距離液面F，下的深度深，因此若有較大的氣泡B隨著較小的氣泡B，與液體F —起通過第一導流板120而進入第二容置槽C2時，第二導流板130的設(shè)計也可阻擋較大的氣泡B通過，以避免較大的氣泡B進入第三容置槽C3。
之后，液體F會沿著箭頭方向L3經(jīng)由輸出管170從第三容置槽C3流入過濾器210中，過濾器210將適于電鍍制作工藝的液體F沿著箭頭方向L5輸入至一電鍍槽200，其中電鍍槽200連接一系統(tǒng)控制器220,用以設(shè)定參數(shù)以控制電鍍槽200的電鍍制作工藝。此外，電鍍槽200中有部分回流的液體F可沿著箭頭方向L6而輸入第一容置槽Cl,而過濾器210中部分回流的液體F可沿著箭頭方向L4通過輸入管162而輸入第一容置槽Cl,以重新再處理，請參考圖3。
簡言之，液體處理裝置IOO會使液體F依序經(jīng)由第一容置槽CI、第一導流板120、第二容置槽C2、第二導流板130而到達第三容置槽C3，在此過程中，液體F內(nèi)的氣泡B、 B，量會因為第一導流板120與第二導流板130的阻隔而逐漸減少，因此當此液體F進入電鍍槽200而進行電鍍制作工藝時，可以避免現(xiàn)有電鍍基板(未繪示)時因氣泡B附著于基板上所造成的干擾，以提高電鍍制作工藝的良率。
綜上所述，由于本實用新型的第一導流板與第二導流板能阻隔液體中氣泡的流動，所以當液體依序經(jīng)由第一容置槽、第一導流板、第二容置槽、第二導流板、第三容置槽而流出液體處理裝置時，液體中的氣泡量已經(jīng)大幅減少，因此本實用新型的液體處理裝置可有效降低液體輸出時的氣泡量。此外，當此液體進入電鍍槽以進行電鍍制作工藝時，由于液體中的氣泡量已經(jīng)大幅減少，因此可以避免現(xiàn)有電鍍基板時因氣泡附著于基板上所造成的干擾，進而可提高電鍍制作工藝的合格率。
權(quán)利要求1.一種液體處理裝置，適于處理一液體，其中該液體是通過一進風管來提供氣泡以混合多個輸入管輸入的多種溶劑所形成，其特征在于，該液體處理裝置包括用于存放該液體的槽體；第一導流板，配置該槽體內(nèi)，具有多個貫孔，該多個貫孔位于該液體的液面下，且與該液體的液面相隔一第一深度；第二導流板，配置該槽體內(nèi)，該第二導流板的底部具有一通道，且該通道位于該液體的液面下；以及分隔板，配置該槽體內(nèi)，該分隔板、該第一導流板以及該第二導流板將該槽體內(nèi)區(qū)分為一第一容置槽、一第二容置槽以及一第三容置槽，其中該些貫孔連通該第一容置槽與該第二容置槽，該通道連通該第二容置槽與該第三容置槽，且該液體依序經(jīng)由該第一容置槽、該第二容置槽而到達該第三容置槽。
2. 如權(quán)利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于，該多個輸入管與該 進風管皆設(shè)置于該第一容置槽。
3. 如權(quán)利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于，該分隔板連接該第 一導流板與該第二導流板。
4. 如權(quán)利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于，該通道與該液體的 液面相隔一第二深度，該第二深度大于該第一深度。
5. 如權(quán)利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于，該液體處理裝置還 包括一冷卻器，配置該第二容置槽，用以冷卻該液體的溫度。
6. 如權(quán)利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于，該液體處理裝置還 包括一加熱器，配置該第二容置槽，用以加熱該液體的溫度。
7. 如權(quán)利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于，該液體處理裝置還 包括至少一輸出管，配置于該第三容置槽，其中該輸出管適于連接一電鍍槽， 用以將該液體從該第三容置槽輸出至該電鍍槽。
8. 如權(quán)利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于，該液體包括電鍍液。
9. 如權(quán)利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于，該多個貫孔的形狀 包括圓形、方形或橢圓形。
10. 如權(quán)利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于，該通道的形狀包 括方形、半圓形或拱形。
專利摘要本實用新型公開一種液體處理裝置，其適于處理通過一進風管來提供氣泡以混合多種溶劑所形成的一液體。液體處理裝置包括一槽體以及配置于槽體內(nèi)的一第一導流板、一第二導流板以及一分隔板。槽體用于存放液體。第一導流板具有多個位于液面下的貫孔。這些貫孔與液面相隔一第一深度。第二導流板的底部具有一位于液面下的通道。分隔板、第一導流板以及第二導流板將槽體內(nèi)區(qū)分為一第一容置槽、一第二容置槽以及一第三容置槽。這些貫孔連通第一容置槽與第二容置槽。通道連通第二容置槽與第三容置槽。液體依序經(jīng)由第一容置槽、第二容置槽而到達第三容置槽。
文檔編號C25D21/00GK201309978SQ20082017577
公開日2009年9月16日 申請日期2008年10月28日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月28日
發(fā)明者石志學, 簡孟修 申請人:欣興電子股份有限公司