專利名稱：一種陽(yáng)離子發(fā)生裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及電鍍行業(yè)，尤其涉及一種可使電鍍過(guò)程不更換電鍍液的陽(yáng)離子發(fā)
生裝置。
背景技術(shù)：
在電鍍的實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中，不溶解性陽(yáng)極使用非常多，其也被稱為惰性陽(yáng)極系統(tǒng)， 此電鍍過(guò)程中，由于電鍍液中的電鍍金屬離子會(huì)不斷的減少，所以必須添加配制好的標(biāo)準(zhǔn) 金屬鹽溶液來(lái)補(bǔ)充金屬離子，如鍍鎳的過(guò)程中，就必須不斷地補(bǔ)充硫酸鎳或其它鎳鹽等才 能使電鍍繼續(xù)進(jìn)行，然而，隨著補(bǔ)充的硫酸鎳中的鎳離子被消耗，硫酸根離子或陰離子被留 存下來(lái)，進(jìn)而鍍液中的電荷就會(huì)不平衡，致使電鍍反應(yīng)不能繼續(xù)進(jìn)行，所以必須定期將電鍍 液倒掉，重新配置新的電鍍液，不僅操作麻煩，浪費(fèi)鍍液，而且倒掉的電鍍液對(duì)環(huán)境污染嚴(yán) 重。另外，在電鍍過(guò)程中，隨著金屬陽(yáng)離子逐漸減少，會(huì)同時(shí)變得酸化，因?yàn)榇藭r(shí)會(huì)發(fā)生如下 反應(yīng)2H20 = 02+4H++4e_或40H_ = 02+2H20+4e_ (堿性鍍液中)，此兩種反應(yīng)均會(huì)引起溶液的 PH值下降，所以必須添加調(diào)整溶液PH值的化合物，這樣既浪費(fèi)資源，也增加勞動(dòng)力度，不便 操作，而且添加調(diào)整鍍液PH值的化合物后，也不能維持鍍液PH值穩(wěn)定，嚴(yán)重影響電鍍效果 及效率。此類問(wèn)題是人們一直希望解決的難題，如若能解決將會(huì)對(duì)電鍍行業(yè)做出很大的貢 獻(xiàn)。

實(shí)用新型內(nèi)容發(fā)明目的本實(shí)用新型的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種陽(yáng)離子發(fā)生 裝置，該陽(yáng)離子發(fā)生裝置可給電鍍裝置中的鍍液連續(xù)提供金屬陽(yáng)離子，從而不用定期更換 鍍液，能達(dá)到節(jié)能減排的目標(biāo)，且能保持鍍液穩(wěn)定，提高電鍍效率及產(chǎn)品電鍍質(zhì)量。技術(shù)方案為了實(shí)現(xiàn)以上目的，本實(shí)用新型所述的一種陽(yáng)離子發(fā)生裝置，包括電解槽；陽(yáng)極，設(shè)置在電解槽內(nèi)并浸入鍍液中，直接用鍍層金屬或惰性金屬其上設(shè)有鍍層 金屬作陽(yáng)極；陰極，設(shè)置在電解槽內(nèi)并浸入電解液中，用惰性金屬作陰極；電解電源，其用于在上述陽(yáng)極和陰極之間通電進(jìn)行電解；以及阻止離子通過(guò)的膜，其設(shè)于所述電解槽內(nèi)的陽(yáng)極及陰極之間，將電解槽分為陽(yáng)極 室和陰極室。為了使鍍液中的金屬陽(yáng)離子隨鍍液均勻放出，在所述的陽(yáng)極室內(nèi)設(shè)有反逆流裝置 (也稱作防逆流裝置)。所述的反逆流裝置為多塊隔板中間相隔一定距離上下交錯(cuò)排列而成。為了取到更好的反逆流效果，所述的反逆流裝置的第一塊隔板與電解槽底部之間 設(shè)有縫隙。為了阻止陰極室的離子進(jìn)入陽(yáng)極室，以免污染配置好的鍍液，同時(shí)阻止陽(yáng)極室的離子進(jìn)入陰極室，保持鍍液中原有離子穩(wěn)定，不會(huì)外流，所述的阻止離子通過(guò)的膜為R0反 滲透膜。有益效果本實(shí)用新型提供的陽(yáng)離子發(fā)生裝置，由于陽(yáng)極設(shè)有鍍層金屬，當(dāng)通電 后，鍍層金屬被電解，生成鍍層金屬離子，以補(bǔ)充鍍液中所消耗的金屬離子，從而不用將缺 乏金屬陽(yáng)離子的電鍍液倒掉重新配制新的電鍍液，可使鍍液延續(xù)使用，延長(zhǎng)其使用壽命，不 僅不會(huì)浪費(fèi)鍍液，降低生產(chǎn)成本，而且減少對(duì)環(huán)境的污染，達(dá)到節(jié)能減排的目標(biāo)；由于可以 不間斷地提供鍍層金屬離子，金屬陽(yáng)離子不會(huì)減少，從而在一定程度上可以保持鍍液PH值 穩(wěn)定，減少了調(diào)整PH值的化合物添加量，提高了鍍液的穩(wěn)定性，同時(shí)也提高了電鍍效率及 產(chǎn)品的電鍍質(zhì)量；由于在陽(yáng)極室內(nèi)設(shè)有反逆流裝置，從而使已電解的帶有陽(yáng)離子的鍍液由 于反逆流裝置的作用不會(huì)再回到陽(yáng)極鍍層金屬附近被再次電解，保證了鍍液中陽(yáng)離子隨鍍 液均勻放出，有利于陽(yáng)離子發(fā)生裝置及電鍍裝置都能更有效地工作，確保產(chǎn)品電鍍的質(zhì)量。

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型使用時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例，進(jìn)一步闡明本實(shí)用新型。如圖1所示的陽(yáng)離子發(fā)生裝置，以鍍鎳為例，該陽(yáng)離子發(fā)生裝置包括電解槽1，在 電解槽1內(nèi)設(shè)有的陽(yáng)極2為鎳柱，在電解槽1內(nèi)設(shè)有的陰極3為石墨棒，還包括連通陽(yáng)極2 和陰極3的電解電源4，電解電源4的正極與陽(yáng)極2相連，負(fù)極與陰極3相連。在電解槽1 內(nèi)設(shè)有阻止離子通過(guò)的膜6為R0反滲透膜(還可以是其它阻止離子通過(guò)的膜，如納濾膜)， 將電解槽1分為陽(yáng)極室7和陰極室8。在所述的陽(yáng)極室7內(nèi)設(shè)有反逆流裝置9，該反逆流裝 置9為4塊隔板10中間相隔一定距離上下交錯(cuò)排列而成，且第一塊隔板11與電解槽1底 部之間設(shè)有縫隙，陽(yáng)極鎳柱位于陽(yáng)極室7的側(cè)壁與第一塊隔板11之間。在所述的陰極室8 內(nèi)注入電解液，如NaCl溶液(還可以是其它電解質(zhì)溶液)。如圖2所示，本實(shí)用新型在電鍍時(shí)與電鍍裝置配合使用，當(dāng)電鍍裝置的電鍍槽(5) 中的電鍍液里的金屬陽(yáng)離子快被消耗完后，將鍍液為硫酸鎳、氯化鎳和硼酸的水溶液采用 泵(12)通過(guò)開(kāi)口(A)送到陽(yáng)離子發(fā)生裝置的陽(yáng)極室(7)中，當(dāng)陽(yáng)離子發(fā)生裝置接通電解電 源4啟動(dòng)電解工作后，會(huì)使陽(yáng)極2的鍍層金屬鎳電解，生成鎳離子，溶于電鍍液中，再將此帶 有鎳離子的電鍍液通過(guò)開(kāi)口(B)采用泵或利用水位差等方法送回到電鍍裝置的電鍍槽(5) 中，如此循環(huán)從而補(bǔ)充電鍍反應(yīng)中消耗的鎳離子，使電鍍反應(yīng)連續(xù)進(jìn)行，提高了電鍍效率， 不需將電鍍液倒掉重新配置新的電鍍液，達(dá)到了節(jié)能減排的目標(biāo)。此過(guò)程中由于設(shè)有反逆 流裝置(9)，因而含有已電解鎳離子的鍍液會(huì)先放出，不會(huì)再回到陽(yáng)極附近被再次電解，從 而保證鍍液中的金屬陽(yáng)離子隨鍍液均勻放出，電鍍裝置也能更有效地工作，確保了電鍍產(chǎn) 品的質(zhì)量。此過(guò)程中可通過(guò)電解電源4調(diào)節(jié)電流，從而控制陽(yáng)離子生成量，繼而保持電鍍槽 中金屬陽(yáng)離子的量在需求的范圍內(nèi)，確保電鍍質(zhì)量。本實(shí)用新型也可單獨(dú)使用，在電鍍裝置停止工作時(shí)，將鍍液采用泵(12)通過(guò)開(kāi)口 (A)送入陽(yáng)離子發(fā)生裝置的陽(yáng)極室(7)中，當(dāng)陽(yáng)離子發(fā)生裝置接通電解電源4啟動(dòng)電解工作
4后，會(huì)使陽(yáng)極2的鍍層金屬鎳電解，生成鎳離子，溶于電鍍液中，再將此帶有鎳離子的電鍍 液通過(guò)開(kāi)口(B)送回電鍍裝置的電鍍槽(5)中，當(dāng)補(bǔ)充完消耗的金屬陽(yáng)離子后，電鍍裝置可 重新啟動(dòng)工作。本實(shí)用新型可為所有的電鍍金屬提供金屬陽(yáng)離子，如還可為電鍍銅、鋅、錫、金等 金屬時(shí)提供銅、鋅、錫、金等金屬陽(yáng)離子，此時(shí)鍍層金屬相應(yīng)地為銅、鋅、錫、金等金屬，使用 方法同上，在此不做累述。上述實(shí)施例只為說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的是讓熟悉該技術(shù)領(lǐng)域 的技術(shù)人員能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此來(lái)限制本實(shí)用新型的保護(hù) 范圍。凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作出的等同變換或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保 護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種陽(yáng)離子發(fā)生裝置，其特征在于包括電解槽(1)；陽(yáng)極(2)，設(shè)置在電解槽(1)內(nèi)并浸入鍍液中，直接用鍍層金屬或惰性金屬其上設(shè)有鍍 層金屬作陽(yáng)極；陰極(3)，設(shè)置在電解槽(1)內(nèi)并浸入電解液中，用惰性金屬作陰極；電解電源(4)，其用于在上述陽(yáng)極⑵和陰極(3)之間通電進(jìn)行電解；以及阻止離子通過(guò)的膜(6)，其設(shè)于所述電解槽(1)內(nèi)的陽(yáng)極(2)及陰極(3)之間，將電解 槽(1)分為陽(yáng)極室(7)和陰極室(S)0
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陽(yáng)離子發(fā)生裝置，其特征在于在所述的陽(yáng)極室(7)內(nèi) 設(shè)有反逆流裝置(9)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種陽(yáng)離子發(fā)生裝置，其特征在于所述的反逆流裝置(9) 為多塊隔板(10)中間相隔一定距離上下交錯(cuò)排列而成。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種陽(yáng)離子發(fā)生裝置，其特征在于所述的反逆流裝置(9) 的第一塊隔板(11)與電解槽(1)底部之間設(shè)有縫隙。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的一種陽(yáng)離子發(fā)生裝置，其特征在于所述的阻止 離子通過(guò)的膜(6)為RO反滲透膜。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種陽(yáng)離子發(fā)生裝置，包括電解槽、含有鍍層金屬的陽(yáng)極、惰性陰極、電解電源以及阻止離子通過(guò)的膜，其設(shè)于所述電解槽內(nèi)的陽(yáng)極及陰極之間，將電解槽分為陽(yáng)極室和陰極室，在陽(yáng)極室內(nèi)設(shè)有反逆流裝置。本實(shí)用新型提供的陽(yáng)離子發(fā)生裝置，由于陽(yáng)極設(shè)有鍍層金屬，當(dāng)通電后，鍍層金屬被電解，生成鍍層金屬離子，以補(bǔ)充鍍液中所消耗的金屬離子，從而不用將缺乏金屬陽(yáng)離子的電鍍液倒掉重新配制新的電鍍液，可使鍍液連續(xù)使用，延長(zhǎng)其使用壽命，不僅不會(huì)浪費(fèi)鍍液，降低生產(chǎn)成本，而且減少對(duì)環(huán)境的污染，達(dá)到節(jié)能減排的目標(biāo)。
文檔編號(hào)C25D17/00GK201778139SQ20102029510
公開(kāi)日2011年3月30日 申請(qǐng)日期2010年8月17日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月17日
發(fā)明者蔡有利 申請(qǐng)人:蘇州銓笠電鍍掛具有限公司