專利名稱：處理槽以及電解處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種用于在電解液中對(duì)圓柱狀的基材進(jìn)行電解處理的處理槽、以及在電解液中對(duì)圓柱狀的基材進(jìn)行電解處理的電解處理裝置。
背景技術(shù)：
處理基材表面的方法有電鍍等被膜處理、陽極氧化等化成處理等等。處理基材表面時(shí)通常進(jìn)行如下的處理例如圖7所示，從設(shè)置于長(zhǎng)方體狀的處理槽70下部的供給管71向處理槽70供給電解液等處理液L’，通過多孔板72調(diào)整處理槽70 內(nèi)的處理液L’的流動(dòng)，使處理液L’從處理槽70的上部溢出，并將圓柱狀基材A浸漬在處理槽70內(nèi)的處理液L’中進(jìn)行表面處理。此外，在專利文獻(xiàn)1中公開了一種電鍍處理裝置，其具有長(zhǎng)方體形狀的電鍍槽、包圍該電鍍槽四周的溢出部、與該溢出部連通的儲(chǔ)液槽、以及從該儲(chǔ)液槽向電鍍槽補(bǔ)給電鍍液的泵。該電鍍處理裝置中在泵的液體排出部設(shè)有U字型的多孔管，在該多孔管的上部設(shè)置有將電鍍槽的內(nèi)部上下隔斷的多孔板，被鍍物體(基材)位于多孔板的上部，收容在電鍍槽中。采用該電鍍處理裝置，通過泵將電鍍液導(dǎo)入電鍍槽，從多孔管的排出口向電鍍槽上方排出，由此可以使電鍍槽內(nèi)的電鍍液流動(dòng)，并可以利用多孔管的上部的多孔板使電鍍液流動(dòng)均勻化。專利文獻(xiàn)1 日本特開2009-242878號(hào)公報(bào)然而，在使用如圖7所示的電解槽70或?qū)＠墨I(xiàn)1公開的電鍍槽處理基材表面的情況下，在多孔板72的下側(cè)，處理液L’的流動(dòng)狀態(tài)容易發(fā)生不均勻。其結(jié)果是，從處理槽 70的下部向上部流動(dòng)、進(jìn)而溢出的處理液L’的流動(dòng)紊亂，部分處理液L’可能會(huì)滯留(出現(xiàn)滯留部)。一旦出現(xiàn)滯留部，就會(huì)難以對(duì)基材A的表面進(jìn)行均勻處理。如圖7所示，這種趨勢(shì)在基材A為長(zhǎng)條形的情況下較易發(fā)生，長(zhǎng)度方向上的長(zhǎng)度越長(zhǎng)越顯著。相關(guān)原因如下所述。通常，供給管71從處理槽70的端面朝向與該端面相對(duì)的端面延伸到內(nèi)部。因此， 基材A的長(zhǎng)度越長(zhǎng)，容納該基材A的處理槽70的形狀也越長(zhǎng)，供給管71也按照處理槽70 長(zhǎng)度方向的長(zhǎng)度而變長(zhǎng)。由于處理液L’通過泵73從供給管71擠壓到處理槽70，所以處理液L’受到的壓力容易因?yàn)殡x泵73的距離不同而出現(xiàn)差異。供給管71越長(zhǎng)離泵73越遠(yuǎn)， 所以在靠近泵73的跟前側(cè)與遠(yuǎn)離泵73的靠后側(cè)之間極易產(chǎn)生壓力差。因此，認(rèn)為處理液 L’的流動(dòng)狀態(tài)更容易發(fā)生不均勻，而容易出現(xiàn)滯留部。此外，因?yàn)榛腁變長(zhǎng)，容納該基材A的處理槽70也會(huì)變大，所以裝置變得大型化，處理液L’的使用量也增大。此外，近年來，由于發(fā)現(xiàn)表面具有可見光波長(zhǎng)以下的周期的微細(xì)凹凸構(gòu)造的光學(xué)膜具有防反射效果、蓮花效應(yīng)(Lotus effect)等，所以其應(yīng)用性備受關(guān)注。特別是被稱為蛾眼(Moth eye)構(gòu)造的微細(xì)凹凸構(gòu)造，發(fā)現(xiàn)其折射率從空氣的曲折率向物品的材料的折射率連續(xù)地增大，從而能夠有效地防止反射，上述情況已為公眾熟知。表面具有微細(xì)凹凸構(gòu)造的物品的制造方法可以為在基材膜等被轉(zhuǎn)印體的表面上轉(zhuǎn)印形成于模具表面的微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)的壓印法。制造在上述壓印法中使用的模具的方法，已公知的方法為在電解液中對(duì)例如圓柱狀的鋁基材進(jìn)行陽極氧化，在鋁基材的周面上形成具有多個(gè)細(xì)孔(凹部)的陽極氧化鋁。然而，在使用圖7所示的處理槽70在電解液中對(duì)圓柱狀的鋁基材進(jìn)行陽極氧化的情況下，如果在處理槽70內(nèi)產(chǎn)生滯留部，則尤其在多孔板72的上部，處理液(電解液)L’ 中容易發(fā)生溫度不均勻?；腁的表面溫度容易受到處理液L’的溫度不均勻的影響，處理液L’中發(fā)生溫度不均勻，則基材A的表面也容易發(fā)生溫度不均勻。通過陽極氧化在基材表面形成的細(xì)孔的深度容易受到處理過程中的溫度的影響。 因此，若電解液、基材表面發(fā)生溫度不均勻，就可能會(huì)做出不同部位的細(xì)孔深度不齊整的模具。若使用這種模具、利用壓印法轉(zhuǎn)印形成于該模具表面的微細(xì)凹凸構(gòu)造，則會(huì)得到不同部位的凸部的高度不齊整、即不同部位的反射率不均勻的部件。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型是鑒于上述情況而做出的，其目的在于提供一種電解處理裝置和適用于該電解處理裝置的處理槽，該電解處理裝置即使在處理長(zhǎng)條形基材的情況下，也能夠防止電解液的滯留，而且還能夠抑制電解液的使用量。本實(shí)用新型的處理槽用于在電解液中對(duì)圓柱狀基材進(jìn)行電解處理，該處理槽具有容納電解液并浸漬所述基材的長(zhǎng)條形的處理槽本體、向處理槽本體供給電解液的電解液供給部、以及從處理槽本體排出電解液的溢出部，所述處理槽本體的底部的內(nèi)表面沿著浸漬在該處理槽本體中的基材的周面彎曲成圓弧狀，所述電解液供給部沿著處理槽本體的長(zhǎng)度方向設(shè)置在處理槽本體的一個(gè)側(cè)面的上方，所述溢出部沿著處理槽本體的長(zhǎng)度方向設(shè)置在處理槽本體的另一個(gè)側(cè)面的上部。此外，本實(shí)用新型的電解處理裝置在電解液中對(duì)圓柱狀基材進(jìn)行電解處理，該電解處理裝置具有處理槽和電極板，所述處理槽具有容納電解液并浸漬所述基材的長(zhǎng)條形的處理槽本體、向處理槽本體供給電解液的電解液供給部、以及從處理槽本體排出電解液的溢出部，所述電極板以?shī)A著浸漬在所述處理槽本體中的基材的狀態(tài)配置，所述處理槽本體的底部的內(nèi)表面沿著浸漬在該處理槽本體中的基材的周面彎曲成圓弧狀，所述電解液供給部沿著處理槽本體的長(zhǎng)度方向設(shè)置在處理槽本體的一個(gè)側(cè)面的上方，所述溢出部沿著處理槽本體的長(zhǎng)度方向設(shè)置在處理槽本體的另一個(gè)側(cè)面的上部。這里，所述電極板最好沿著所述處理槽本體的底部的內(nèi)表面形狀彎曲。另外，最好還具有使該基材以所述基材的中心軸為旋轉(zhuǎn)中心旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)單元。此外，所述旋轉(zhuǎn)單元最好使所述基材在與從電解液供給部供給的電解液向溢出部流動(dòng)的方向相反的方向上旋轉(zhuǎn)。實(shí)用新型的效果本實(shí)用新型的處理槽是一種適用于電解處理裝置的處理槽，該電解處理裝置即便在處理長(zhǎng)條形基材的情況下，也能夠防止電解液的滯留，而且還能夠抑制電解液的使用量。此外，本實(shí)用新型的電解處理裝置即使在處理長(zhǎng)條形基材的情況下，也能夠防止電解液的滯留，而且還能夠抑制電解液的使用量。
圖1是表示本實(shí)用新型處理槽一例的側(cè)視圖。圖2是沿圖1的1-1’線的截面圖。圖3是溢出部的其它實(shí)施例的側(cè)視圖。圖4是表示本實(shí)用新型電解處理裝置一實(shí)施例的截面圖。圖5 (a)是沿圖4的11_11’線的截面圖；圖5(b)是表示圖4所示的電解處理裝置所具有的處理槽和電極板的立體圖。圖6是表示陽極氧化鋁的細(xì)孔的形成過程的截面圖。圖7是表示已有的處理裝置的一例的圖，(a)是側(cè)視圖，(b)是沿圖(a)的 IIi-Iir線的截面圖。圖8是對(duì)使用本實(shí)用新型的處理槽和長(zhǎng)方體形狀的處理槽進(jìn)行電解處理時(shí)的電解液溫度進(jìn)行比較的圖表，是表示在處理槽壁面附近的多個(gè)點(diǎn)處上升的最大溫度的圖表。圖9是對(duì)使用本實(shí)用新型的處理槽和長(zhǎng)方體形狀的處理槽進(jìn)行電解處理時(shí)的電解液溫度的圖表，是表示在基材表面長(zhǎng)度方向的多個(gè)點(diǎn)處的最大溫度差的圖表。符號(hào)說明1...電解處理裝置；10...處理槽；11...處理槽本體；11a...底部；11a’ ...內(nèi)表面；11b，11c...側(cè)面；12...電解液供給部；13...溢出部；20...電極板；30...旋轉(zhuǎn)單元；A...基材；A’ ...周面(外周面)；L...電解液。
具體實(shí)施方式
下面，根據(jù)附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)地說明。[處理槽]本實(shí)用新型的處理槽是一種用于在電解液中對(duì)圓柱狀基材進(jìn)行電解處理的處理槽。圖1是表示本實(shí)施方式的處理槽10—例的圖，是從后述的電解液供給部側(cè)投影的側(cè)視圖。圖2是沿圖1的1-1’線的截面圖。此外，圖2中添加了容納圖1所示的處理槽10的外槽40。此外，在本實(shí)用新型中，作為電解處理對(duì)象的基材的形狀為圓柱形，其可以是圖1、 2所示的中空狀(圓筒狀)，也可以是非中空狀。圖1、2所示的處理槽10構(gòu)成為具有容納電解液L并浸漬中空?qǐng)A柱狀的基材A的長(zhǎng)條形的處理槽本體11、向處理槽本體11供給電解液L的電解液供給部12、以及從處理槽本體11排出電解液L的溢出部13。如圖2所示，所述處理槽10被收納在外槽40中。<處理槽本體>處理槽本體11容納電解液L，基材A浸漬在該電解液L中。所述處理槽本體11的底部Ila的內(nèi)表面11a’沿著浸漬在該處理槽本體11中的基材A的周面(外周面)A’彎曲成圓弧狀。底部Ila的內(nèi)表面11a’彎曲成圓弧狀，使得由后述的電解液供給部12供給的電解液L可以向溢出部13流暢地流動(dòng)。此外，本實(shí)用新型中的“圓弧狀”并不僅限于正圓形。底部Ila的內(nèi)表面11a’的形狀優(yōu)選為半圓形、半橢圓形等沒有轉(zhuǎn)折點(diǎn)、平滑地沿著一方向彎曲的形狀，其中尤為優(yōu)選半圓形。底部Ila的內(nèi)表面11a’的形狀為半圓形時(shí)， 由電解液供給部12供給的電解液L可以在底部Ila的內(nèi)表面11a’上保持更加流暢的流動(dòng)的狀態(tài)而流向溢出部13。關(guān)于處理槽本體11的材質(zhì)，只要是不易被電解液L腐蝕的材質(zhì)即可，沒有特殊限制，例如可以為不銹鋼、聚氯乙烯(PVC)等。關(guān)于處理槽本體11的大小，只要是可以容納基材A的大小即可，沒有特殊限制，例如如圖2所示，其大小為當(dāng)將基材A配置在處理槽本體11內(nèi)時(shí)，在基材A的外周面A’與底部Ila的內(nèi)表面11a’之間形成有間隙S。具體地說，從基材A的中心軸P到底部Ila的內(nèi)表面11a’的距離D最好為基材A的半徑(r)的1. 25 2倍。此外，在底部Ila的內(nèi)表面11a’的形狀為半圓形的情況下，最好在處理槽本體11 內(nèi)將基材A配置成使該半圓的直徑上的中心與基材A的中心軸P重疊。另外，如上所述，在對(duì)基材進(jìn)行陽極氧化而在該基材的周面形成細(xì)孔的情況下，由于細(xì)孔的深度容易受到電解液、基材表面(外周面)的溫度不均勻的影響，所以需要減輕溫度不均勻的程度。電解液、基材表面的溫度不均勻主要是因?yàn)殡娊庖涸谔幚聿蹆?nèi)滯留而產(chǎn)生的，基材與處理槽內(nèi)表面的間隔窄小則可能會(huì)發(fā)生溫度不均勻。這是因?yàn)?，進(jìn)行陽極氧化時(shí)會(huì)發(fā)熱，使得處理槽容易被加熱，處理槽附近的基材表面被上述處理槽的熱量直接且不均勻地加熱，因而發(fā)生溫度不均勻?？梢哉J(rèn)為，基材與處理槽的內(nèi)表面的距離越近，這種情況越容易發(fā)生。然而，只要從基材A的中心軸P到底部Ila的內(nèi)表面11a’的距離D為基材A的半徑(r)的1. 25倍以上，基材A的外周面A’與底部Ila的內(nèi)表面11a’之間就會(huì)形成充分的間隙。由此，因?yàn)槲挥诨腁與處理槽本體11之間的電解液L能夠充分地起到緩沖部件的作用，所以，即使處理槽本體11被陽極氧化時(shí)的發(fā)熱加熱，也能夠抑制基材A被處理槽本體 11直接加熱的情況。因此，可以更為有效地防止基材A的外周面A’的溫度不均勻，可以在基材外周面上形成深度不齊整受到抑制的細(xì)孔。此外，距離D最好在基材A的半徑(r)的2倍以下。即使距離D超過基材A的半徑(r)的2倍，防止溫度不均勻的效果也已經(jīng)達(dá)到最大程度，不但如此，還使得處理槽本體 11變得較為大型，因此會(huì)使電解液L的使用量增加。<電解液供給部>圖中示例的電解液供給部12由供給管12a、以及與該供給管12a連接的長(zhǎng)條形的排出部12b構(gòu)成。電解液通過泵(圖中省略示出)等被送入供給管12a內(nèi)，充滿供給管12a內(nèi)部的電解液從排出口 121a排出到排出部12b。排出口 121a可以沿著供給管12a的長(zhǎng)度方向連續(xù)地(縫隙狀)形成，也可以沿著供給管12a的長(zhǎng)度方向斷續(xù)地形成。排出部12b的頂端浸漬在處理槽本體11所容納的電解液L中，電解液L從排出部
612b的排出口 121b供給到處理槽本體11。排出口 121b可以沿著排出部12b的長(zhǎng)度方向連續(xù)地形成，也可以沿著排出部12b 的長(zhǎng)度方向斷續(xù)地形成。如果構(gòu)成為為了使從排出部12b排出的電解液相對(duì)于處理槽本體11的長(zhǎng)度方向保持均勻流動(dòng)的狀態(tài)，而使電解液供給部?jī)?nèi)保持正壓，則可以形成相對(duì)于寬度方向的均勻的流動(dòng)。為了保持正壓，將供給管1 的排出口 121a的面積設(shè)置成比排出部12b的排出口 121b的開口面積大即可。關(guān)于供給管12a以及排出部12b的材質(zhì)，只要不易被電解液L腐蝕即可，沒有特殊限制，例如可以為不銹鋼、聚氯乙烯(PVC)等?！匆绯霾俊狄绯霾?3將從處理槽本體11溢出的電解液L排出到處理槽本體11外，其沿著處理槽本體11的長(zhǎng)度方向設(shè)置在處理槽本體11的另一個(gè)側(cè)面Ilc的上部。圖中示例的溢出部13通過使處理槽本體11的一個(gè)側(cè)面lib與另一個(gè)側(cè)面Ilc的高度不同而形成，具體地說，形成為另一個(gè)側(cè)面Ilc比一個(gè)側(cè)面lib低。<作用效果>如上所述的本實(shí)用新型的處理槽10從處理槽本體11的一個(gè)側(cè)面的lib的上方供給電解液L，并將電解液從另一個(gè)側(cè)面Ilc的上部排出。這時(shí)，由于處理槽本體11的底部 Ila的內(nèi)表面11a’彎曲成圓弧狀，所以電解液L不會(huì)出現(xiàn)滯留，可以流暢地流向溢出部13。此外，向電解液供給部12送入電解液L時(shí)使用泵(圖中省略示出)等，電解液L 由于重力而被從電解液供給部12送出。因此，本實(shí)用新型的處理槽10與如圖8所示以往的處理槽70的情況、即利用泵73使電解液L’從設(shè)置于該處理槽70的下部的供給管71向處理槽70的上方(即與重力相反的方向)排出的情況相比，不易受到泵的壓力的影響。因此，即使電解處理的基材A變長(zhǎng)、處理槽本體11的長(zhǎng)度方向的長(zhǎng)度以及電解液供給部12變長(zhǎng)，在電解液供給部12的兩端從泵接收到的電解液的壓力差也較小。因此，使用本實(shí)用新型的處理槽10，可以防止電解液L在處理槽本體11內(nèi)部分滯留的情況，所以可以均勻地對(duì)基材A的外周面A’進(jìn)行電解處理。特別是，在對(duì)鋁基材進(jìn)行陽極氧化處理時(shí)，抑制電解液、基材表面的溫度不均勻較為重要，使用本實(shí)用新型的處理槽10，處理槽本體11內(nèi)的電解液L不易出現(xiàn)滯留部，所以不易發(fā)生溫度不均勻。由此，可以抑制形成于基材A的外周面A’的細(xì)孔的深度不齊整。此外，因?yàn)楸緦?shí)用新型的處理槽10的處理槽本體11的底部Ila的內(nèi)表面11a’彎曲成圓弧狀，所以與圖8所示的長(zhǎng)方體形狀的處理槽70相比，容積能夠變小。由此，電解液的使用量也能得到抑制。此外，使用本實(shí)用新型的處理槽10，電解液L在處理槽本體11內(nèi)流暢地流動(dòng)，所以無需設(shè)置多孔板等調(diào)整流動(dòng)的部件。<其它實(shí)施方式>本實(shí)用新型的處理槽不限于圖1、2所示的處理槽10。例如圖1、2所示的處理槽10 的電解液供給部12只要是能夠在長(zhǎng)度方向上均勻?qū)嵤┕┙o的形狀即可，可以為管狀構(gòu)造。此外，在圖1、2所示的處理槽10中，溢出部13通過使另一個(gè)側(cè)面Ilc比一個(gè)側(cè)面 lib低而形成，然而，例如如圖3所示，也可以在另一個(gè)側(cè)面Ilc設(shè)置沿處理槽本體11的長(zhǎng)度方向延伸的孔13’，將其作為溢出部13。不過，這種情況下，最好在比浸漬于處理槽本體 11的基材A高的位置上設(shè)置孔13’?？?3’可以為圖3所示的連續(xù)型，也可以為斷續(xù)型。此外，在圖3中，僅示出處理槽本體11、孔13 ’、以及基材A，省略了電解液供給部。[電解處理裝置]本實(shí)用新型的電解處理裝置是一種在電解液中對(duì)圓柱狀基材進(jìn)行電解處理的裝置。圖4是表示本實(shí)施方式的電解處理裝置1的一例的側(cè)截面圖，圖5(a)是沿圖4的 11-11’線的截面圖，圖5(b)是圖4所示的電解處理裝置所具有的處理槽10和電極板20的立體圖。本例的電解處理裝置1具有盛滿電解液L的處理槽10 ；電極板20，該電極板20 被配置成夾著浸漬基材A，該基材A浸漬于所述處理槽10的處理槽本體11 ；使基材A以基材A的中心軸為旋轉(zhuǎn)中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)單元30 ；外槽40，該外槽40容納處理槽10，用來接收從處理槽10溢出的電解液L ；臨時(shí)儲(chǔ)存電解液L的儲(chǔ)存槽50 ；使由外槽40接收的電解液L向儲(chǔ)存槽50流下的流下流路41 ；將儲(chǔ)存槽50的電解液L送回到處理槽10的電解供給部12的返回流路51 ；以及設(shè)置在返回流路51中途的泵52。下面，以使用本實(shí)用新型的電解處理裝置1作為陽極氧化處理裝置的情況為例， 進(jìn)行具體地說明。電解處理裝置1具有如上所述的本實(shí)用新型的處理槽10，如圖5 (a)、(b)所示，電極板20呈沿該處理槽10的處理槽本體11的底部Ila的內(nèi)表面11a’的形狀彎曲的形狀。 通過使電極板20呈彎曲的形狀，使得電解液L的流動(dòng)不易受到妨礙，所以電解液L不會(huì)滯留，可以更流暢地向溢出部13移動(dòng)。此外，圖5(a)中省略了外槽40。此外，圖5 (b)中僅示出處理槽10的處理槽本體 11、溢出部13、電極板20以及基材A，省略了電解處理裝置1的其它構(gòu)成部件。如圖5(b)所示，處理槽本體11的端面lid、lie呈U字型。因此，在端面IlcUlle 上安裝與其形狀相適應(yīng)的密封部件(圖中省略示出)，從而避免電解液從端面IlcUlle泄漏。此外，如圖4、圖5 (a)所示，在端面lid、lie的下部側(cè)設(shè)有作為旋轉(zhuǎn)單元30的支撐軸31，該支撐軸31在水平方向上沿軸向支撐基材A。如圖4、圖5(a)所示，在處理槽本體11的端面IlcUlle上分別設(shè)有一對(duì)在水平方向上并列的支撐軸31，各支撐軸31貫穿處理槽本體11的端面lld、lle，被支撐為可以相對(duì)于所述處理槽本體11的端面IlcUlle旋轉(zhuǎn)。在各支撐軸31的處理槽本體11內(nèi)的端部插有由樹脂材料構(gòu)成的圓筒狀的彈性部件32，基材A的兩端部的外周面搭載在各彈性部件32上，并且該基材A支撐在支撐軸31 上。各支撐軸31與例如電動(dòng)機(jī)等的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部(圖中省略示出)連接，通過該旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部使各驅(qū)動(dòng)軸31向同一方向旋轉(zhuǎn)，由此使得該電解處理裝置1中與彈性部件32接觸的基材 A旋轉(zhuǎn)。特別地，如圖5 (a)所示，旋轉(zhuǎn)單元30最好使基材A在與電解液L流向溢出部13 的方向相反的方向上旋轉(zhuǎn)，所述電解液L為從處理槽10的電解液供給部12供給到處理槽本體11的電解液L。因?yàn)殡娊庖篖的流動(dòng)方向與基材A的旋轉(zhuǎn)方向相反，所以基材A表面附近的電解液L相對(duì)于基材A的流動(dòng)相對(duì)較快，可以有效地移動(dòng)電解處理時(shí)由基材A產(chǎn)生的熱量。電解液L的流動(dòng)方向與基材A的旋轉(zhuǎn)方向相同的情況下，由于基材A的表面附近的電解液L的流動(dòng)相對(duì)較慢，在無速度的狀態(tài)下熱量的移動(dòng)較差，因而會(huì)導(dǎo)致處理槽10整體中的電解液溫度上升。在支撐軸31的上部，在水平方向上沿著軸向的通電用軸33貫穿安裝于端面lid、 lie上的密封部件14，該通電用軸33還貫穿外槽40而向外側(cè)露出。通電用軸33由具有導(dǎo)電性的材料構(gòu)成，分別被安裝于端面IlcUlle的密封部件支撐并可以自由旋轉(zhuǎn)。此外，通電用軸33不必全部由具有導(dǎo)電性的材料構(gòu)成，只要能夠通過后述的通電部件34向基材10施加電流即可。具體地說，可以構(gòu)成為利用絕緣物質(zhì)包覆通電用軸33的外部，也可以在與安裝于端面IlcUlle的密封部件接觸的部位設(shè)置耐磨損性優(yōu)良的鍍層等。在各通電用軸33的處理槽本體11內(nèi)的端部，一體設(shè)置有圓盤狀的通電部件34。 通電部件34與中空?qǐng)A柱狀的基材A的兩端面面接觸。這里，以?shī)A著基材A的狀態(tài)配置的電極板20、以及通電用軸33與電源21電連接，可以施加電流。通電部件34設(shè)置為可以利用氣筒等進(jìn)行前進(jìn)后退運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)部(圖中省略示出) 在通電用軸33或基材A的軸向上進(jìn)行前進(jìn)后退運(yùn)動(dòng)。將基材A設(shè)置在支撐軸31上以后， 從基材A的軸向的兩側(cè)使通電部件34與基材A的兩端面接觸，由此可以實(shí)施通電。此外， 在圖4所示的例子中，在基材A的兩端面設(shè)有通電部件34，然而，也可以構(gòu)成為僅在基材A 的一個(gè)端面設(shè)置通電部件34，將另一端面作為推壓部件。此外，通電部件34不需嚴(yán)格地在基材A的端面上與基材A接觸，也可以構(gòu)成為在基材A的內(nèi)周面等其它位置上與基材A接觸。因?yàn)橥娪幂S33貫穿處理槽10以及外槽40并進(jìn)行前進(jìn)后退運(yùn)動(dòng)，所以在通電用軸33與處理槽10之間、以及通電用軸33與外槽40之間設(shè)置有滑動(dòng)軸承35，所述滑動(dòng)軸承 35將通電用軸33支撐成可以旋轉(zhuǎn)并可以在軸向上移動(dòng)。圖中示例的基材A的兩端部的內(nèi)徑側(cè)角部被倒角，基材A的兩端面的一部分形成有錐面a，另一方面，通電部件34的外徑側(cè)角部被倒角，形成有與基材A的錐面a面接觸的錐面34a，二者最好設(shè)定為斜度相同。通過使基材A的錐面a與通電部件34的錐面3 面接觸，使得兩者可以緊密地電接觸，而且，當(dāng)基材A或者通電部件34側(cè)旋轉(zhuǎn)時(shí)，通過使兩者接觸的阻力可以傳遞旋轉(zhuǎn)，可以使兩者同步旋轉(zhuǎn)。通過做成這種構(gòu)造，使得接觸面積增大，并且旋轉(zhuǎn)時(shí)的滑動(dòng)影響以及磨損影響也得以減輕，因此能夠供給穩(wěn)定的電流。此外，因?yàn)檫B接有通電部件34的通電用軸33與基材A同步旋轉(zhuǎn)，所以，通電用軸 33與電源21通過可旋轉(zhuǎn)供電的連接器(圖中省略示出)電接觸(連接)?？尚D(zhuǎn)供電的連接器可以為旋轉(zhuǎn)連接器、集電環(huán)等，優(yōu)選旋轉(zhuǎn)時(shí)電流穩(wěn)定性較好的旋轉(zhuǎn)連接器。此外，也可以設(shè)置為通電部件34僅與基材A的一端面面接觸而實(shí)施通電。外槽40容納處理槽10，如圖2、4所示，處理槽10內(nèi)的電解液L從溢出部13排出， 流到外槽40。由外槽40接收的電解液L通過流下流路41流到儲(chǔ)存槽50中。儲(chǔ)存槽50設(shè)有電解液L的調(diào)溫單元53，在儲(chǔ)存槽50內(nèi)被調(diào)溫了的電解液L利用泵52經(jīng)由返回流路51從處理槽10的電解液供給部12回到處理槽本體11。此外，設(shè)置于儲(chǔ)存槽50的調(diào)溫單元53可以為以水、油等為熱介質(zhì)的熱交換器、電加熱器等?！醋饔眯Ч等缟纤龅谋緦?shí)用新型的電解處理裝置1具有本實(shí)用新型的處理槽10。由此，在處理槽10的處理槽本體11內(nèi)電解液L不易滯留。此外，向電解液供給部12送入電解液L時(shí)使用泵(圖中省略示出)等，電解液L 因?yàn)橹亓Χ粡碾娊庖汗┙o部12送出。因此，本實(shí)用新型的處理槽10與如圖7所示以往的處理槽70的情況、即利用泵73使電解液L’從設(shè)置于該處理槽70的下部的供給管71向處理槽70的上方(即與重力相反的方向)排出的情況相比，不易受到泵的壓力的影響。因此，即使電解處理的基材A變長(zhǎng)、處理槽本體11的長(zhǎng)度方向的長(zhǎng)度以及電解液供給部12變長(zhǎng)，在電解液供給部12的兩端從泵接收的電解液的壓力差也較小。因此，采用本實(shí)用新型的電解處理裝置1，可以防止電解液L在處理槽10的處理槽本體11內(nèi)部分滯留的情況，所以可以均勻地對(duì)基材A的外周面進(jìn)行電解處理。特別是，在對(duì)鋁基材進(jìn)行陽極氧化處理時(shí)，抑制電解液、基材表面的溫度不均勻較為重要，采用本實(shí)用新型的處理槽10，處理槽本體11內(nèi)的電解液L不易出現(xiàn)滯留部，所以不易發(fā)生溫度不均勻。由此，可以抑制形成于基材A的外周面的細(xì)孔的深度不齊整。此外，因?yàn)楸緦?shí)用新型的電解處理裝置1的處理槽本體11的底部彎曲成圓弧狀， 所以與圖7所示的長(zhǎng)方體形狀的處理槽70相比，容積能夠變小。由此，電解液的使用量也能得到抑制。此外，采用本實(shí)用新型的電解處理裝置1，電解液L在處理槽本體11內(nèi)流暢地流動(dòng)，所以無需在處理槽10內(nèi)設(shè)置多孔板等調(diào)整流動(dòng)的部件?！从忠粚?shí)施方式〉本實(shí)用新型的電解處理裝置不限于圖4、5所示的電解處理裝置1。例如，雖然圖 4、5所示的電解處理裝置1具有支撐軸31作為使基材A旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)單元30，但也可以將與通電部件34連接的通電用軸33作為旋轉(zhuǎn)單元。在這種情況下，支撐軸31不與上述說明的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部連接，只要構(gòu)成為能夠與基材A同步旋轉(zhuǎn)即可。此外，通電部件34不必像上述那樣全部由具有導(dǎo)電性的材料構(gòu)成，只要構(gòu)成為可以使基材A與通電用軸33電連接即可。具體地說，也可以構(gòu)成為除通電部件34的錐面3 與通電用軸33電連接的部分以外的部分由絕緣物質(zhì)包覆。此外，關(guān)于錐面34a，只要能夠穩(wěn)定地電連接基材A與通電部件34，其表面的一部分也可以由導(dǎo)電性物質(zhì)以外的物質(zhì)構(gòu)成。此外，在上述實(shí)施方式中，對(duì)基材A的兩端部的內(nèi)徑側(cè)角部實(shí)施倒角，形成錐面a， 對(duì)通電部件34的外徑側(cè)角部實(shí)施倒角，形成錐面34a，然而，還可以對(duì)基材A的兩端部的外徑側(cè)角部實(shí)施倒角，對(duì)通電部件34的內(nèi)徑側(cè)角部實(shí)施倒角而形成錐面。此外，形成于各通電部件34的錐面3 不必為相同形狀，也可以為不同形狀。另外，也可以構(gòu)成為錐面3 形成在至少一個(gè)通電部件34上?！从猛尽当緦?shí)用新型的電解處理裝置可以作為陽極氧化等化成處理、電鍍等被膜處理之類的對(duì)基材表面進(jìn)行電解處理的裝置進(jìn)行使用，尤其適于作為對(duì)鋁基材進(jìn)行陽極氧化的陽極氧化處理裝置來使用。下面，對(duì)于使用本實(shí)用新型的電解處理裝置，對(duì)鋁基材進(jìn)行陽極氧化，從而制造模具的方法的一例進(jìn)行說明。首先，如圖4、圖5所示，將鋁基材作為基材A設(shè)置在支撐軸31上。這時(shí)，如圖2 所示，將基材A在支撐軸31上設(shè)置成基材A的外周面A’與處理槽本體11的底部Ila的內(nèi)表面11a’之間形成有間隙S。具體地說，最好將基材A設(shè)置為從基材A的中心軸P到底部 Ila的內(nèi)表面11a’的距離D為基材A的半徑(r)的1. 5倍。此外，在底部Ila的內(nèi)表面11a’的形狀為半圓形的情況下，最好將基材A設(shè)置為使該半圓的直徑上的中心與基材A的中心軸P重疊。然后，使用進(jìn)行前后移動(dòng)的上述驅(qū)動(dòng)部(圖中省略示出)從兩側(cè)同時(shí)驅(qū)動(dòng)通電用軸33，使通電部件34與基材A接觸。而且，可以在使通電部件34接觸基材A后向處理槽本體11供給電解液L，也可以在處理槽本體11盛有電解液L的狀態(tài)下使通電部件34與基材 A接觸。在基材A已與通電部件34接觸的狀態(tài)下驅(qū)動(dòng)上述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部(圖中省略示出)， 使支撐軸31旋轉(zhuǎn)從而使基材A旋轉(zhuǎn)。一邊使基材A旋轉(zhuǎn)，一邊通過通電用軸33、通電部件34對(duì)作為陽極的基材A和作為陰極的電極板20施加電壓，對(duì)基材A進(jìn)行陽極氧化。在使通電部件34與基材A接觸時(shí)，用于使兩者接觸的推壓壓力優(yōu)選在0. 2MPa以上。由于旋轉(zhuǎn)時(shí)在使兩者接觸的錐面上產(chǎn)生滑動(dòng)、或未能緊密接觸，可能會(huì)影響穩(wěn)定的電流供給。但是，因?yàn)橥茐簤毫σ坏┻^大，可能導(dǎo)致基材A變形、或無法傳遞旋轉(zhuǎn)而停止等，所以應(yīng)當(dāng)根據(jù)工件的形狀以及驅(qū)動(dòng)源的規(guī)格進(jìn)行適當(dāng)?shù)倪x擇。在陽極氧化基材A期間，一邊旋轉(zhuǎn)基材A，一邊從處理槽本體11排出一部分電解液 L,同時(shí)向處理槽本體11供給等量的電解液。具體地說，在處理槽10的溢出部13使電解液 L從處理槽本體11排出到外槽40，使排出的電解液L從外槽40流到儲(chǔ)存槽50中，在儲(chǔ)存槽50中對(duì)電解液L的溫度進(jìn)行調(diào)節(jié)后，將該電解液L送回到沿著處理槽本體11的長(zhǎng)度方向設(shè)置在一個(gè)側(cè)面的上方的電解液供給部12中，從該電解液供給部12向處理槽本體11供這時(shí)，因?yàn)樘幚聿郾倔w11的底部Ila的內(nèi)表面11a’彎曲成圓弧狀，所以電解液L 形成大致均勻的流動(dòng)，電解液L不會(huì)發(fā)生滯留而能夠流暢地流向溢出部13。此外，最好使基材A在與電解液L的流動(dòng)方向相反的方向上旋轉(zhuǎn)。相對(duì)于處理槽本體11的容積，從電解液供給部12向處理槽本體11供給的電解液 L的供給量最好使處理槽本體11內(nèi)的電解液L每三分鐘的循環(huán)次數(shù)為一次以上。由此，處理槽本體11可以頻繁地進(jìn)行液體更新，有效地去除熱量、去除所產(chǎn)生的氫?；腁的轉(zhuǎn)速優(yōu)選為3rpm以上。如果基材A的轉(zhuǎn)速為3rpm以上，則可以更有效地抑制基材A周圍的電解液L的濃度、溫度的不均勻。從驅(qū)動(dòng)裝置的能力方面考慮，基材A 的轉(zhuǎn)速優(yōu)選為IOrpm以下。當(dāng)像上述那樣對(duì)基材A實(shí)施陽極氧化時(shí)，從圖6 (a)所示的狀態(tài)形成圖6(b)所示的帶細(xì)孔61的氧化皮膜62。基材A所用的鋁的純度為99%以上較好，為99. 5%以上則更好，最好為99. 8%以上。當(dāng)鋁的純度較低時(shí)，在陽極氧化時(shí)由于雜質(zhì)的偏析而形成有使可見光散射那樣大小的凹凸構(gòu)造，或者使通過陽極氧化形成的細(xì)孔61的規(guī)則性下降。電解液可以為草酸、硫酸等。使用草酸作為電解液的情況[0128]草酸的濃度優(yōu)選為0. 7M以下。草酸的濃度超過0. 7M時(shí)，會(huì)出現(xiàn)電流值過高、氧化皮膜的表面變粗糙的情況。為了得到具有細(xì)孔的陽極氧化鋁，并且該細(xì)孔具有某個(gè)規(guī)定周期且規(guī)則性較高， 需要施加與規(guī)定周期相符的化成電壓。例如，在周期為IOOnm的陽極氧化鋁的情況下，化成電壓最好為30V 60V。在未施加與規(guī)定周期相符的化成電壓的情況下，存在規(guī)則性降低的趨勢(shì)。電解液的溫度為60°C以下較佳，最好為45°C以下。電解液的溫度超過60°C時(shí)，可能會(huì)引發(fā)稱為“燒傷”的現(xiàn)象而使細(xì)孔受到損傷、或者表面熔化而導(dǎo)致細(xì)孔的規(guī)則性紊亂。使用硫酸作為電解液的情況硫酸的濃度優(yōu)選為0. 7M以下。硫酸的濃度超過0. 7M時(shí)，會(huì)出現(xiàn)電流值過高、難以維持固定電壓的情況。為了得到具有細(xì)孔的陽極氧化鋁，并且該細(xì)孔具有某個(gè)規(guī)定周期且規(guī)則性較高， 需要施加與規(guī)定周期相符的化成電壓。例如，在周期為65nm的陽極氧化鋁的情況下，化成電壓最好為25V 30V。在未施加與規(guī)定周期相符的化成電壓的情況下，存在降低規(guī)則性的趨勢(shì)。電解液的溫度為30°C以下較好，最好為20°C以下。電解液的溫度超過30°C時(shí)，可能會(huì)引發(fā)稱為“燒傷”的現(xiàn)象而致使細(xì)孔受損、或表面熔化而導(dǎo)致細(xì)孔的規(guī)則性紊亂。接著，如圖6(b)所示，在形成帶有細(xì)孔61的氧化皮膜62后，通過反復(fù)實(shí)施如下的工序來制造輥?zhàn)訝钅＞呤褂帽緦?shí)用新型的電解處理裝置1進(jìn)行陽極氧化從而形成帶有多個(gè)細(xì)孔的陽極氧化鋁的工序(陽極氧化處理)、以及擴(kuò)大該細(xì)孔孔徑的工序(細(xì)孔孔徑擴(kuò)大處理)。在重復(fù)實(shí)施陽極氧化處理工序和細(xì)孔孔徑擴(kuò)大處理時(shí)，首選，如圖6(c)所示，暫時(shí)去除氧化皮膜62。這里，通過將其做成陽極氧化的細(xì)孔生成點(diǎn)63可以提高細(xì)孔的規(guī)則性。去除氧化皮膜的方法可以為使其溶解在不溶解鋁而選擇性溶解氧化皮膜的溶液中進(jìn)行去除的方法。這種溶液可以為例如鉻酸/磷酸混合液等。接著，對(duì)去除了氧化皮膜的基材A再次進(jìn)行陽極氧化，如圖6 (d)所示，形成帶圓柱狀細(xì)孔61的氧化皮膜62。陽極氧化使用上述電解處理裝置1來實(shí)施。條件與形成圖6(b)所示的氧化皮膜 62時(shí)相同即可。陽極氧化的時(shí)間越長(zhǎng)，能夠得到的細(xì)孔越深。接著，如圖6(e)所示，進(jìn)行擴(kuò)大細(xì)孔61的孔徑的工序。細(xì)孔孔徑擴(kuò)大處理是一種將氧化皮膜浸漬在將其溶解的溶液中使通過陽極氧化得到的細(xì)孔孔徑擴(kuò)大的處理。這種溶液可以為例如質(zhì)量濃度5%左右的磷酸水溶液等。細(xì)孔孔徑擴(kuò)大處理的時(shí)間越長(zhǎng)，細(xì)孔孔徑越大。接著，再次進(jìn)行陽極氧化，如圖6(f)所示，進(jìn)而形成從圓柱狀細(xì)孔61的底部向下延伸的、直徑較小的圓柱狀細(xì)孔61。陽極氧化使用上述電解處理裝置1來實(shí)施。條件與上述條件相同即可。陽極氧化的時(shí)間越長(zhǎng)，能夠得到的細(xì)孔越深。接著，如上所述，反復(fù)實(shí)施細(xì)孔孔徑擴(kuò)大處理和陽極氧化處理，得到如圖6(g)所示的形成有陽極氧化鋁(鋁的多孔質(zhì)氧化皮膜(防蝕鋁))的輥?zhàn)訝钅＞?0，所述陽極氧化鋁具有形狀為直徑從開口部向深度方向連續(xù)減少的細(xì)孔61。最好最后一步處理為細(xì)孔孔徑擴(kuò)大處理。合計(jì)的重復(fù)次數(shù)為三次以上較好，最好為五次以上。重復(fù)的次數(shù)在兩次以下時(shí)，由于細(xì)孔直徑非連續(xù)性減少，所以轉(zhuǎn)印這種細(xì)孔而制成的光學(xué)薄膜的降低反射率的效果不充分。細(xì)孔61的形狀可以為近似圓錐形狀、棱錐形狀等。細(xì)孔61間的平均周期為可見光的波長(zhǎng)以下，即400nm以下。細(xì)孔61間的平均周期優(yōu)選為25nm以上。細(xì)孔61的深寬比(細(xì)孔的深度/細(xì)孔開口部的寬度)為1.5以上較好，最好為 2. 0以上。在如上所述的本實(shí)施方式的電解處理裝置1中，當(dāng)在處理槽本體11的電解液L中對(duì)作為基材A的輥?zhàn)訝钿X基材進(jìn)行陽極氧化時(shí)，從處理槽本體11的一個(gè)側(cè)面的上方供給電解液L，從另一個(gè)側(cè)面的上部將其排出。這時(shí)，由于處理槽本體11的底部的內(nèi)表面彎曲成圓弧狀，所以電解液L不會(huì)發(fā)生滯留，可以流暢地流向溢出部。由此，因?yàn)榭梢砸种齐娊庖?、基材表面的溫度不均勻，所以可以在基材A的整個(gè)外周面上實(shí)施大致均勻的陽極氧化，其結(jié)果是，可以制造細(xì)孔深度不齊整得到抑制的輥?zhàn)訝钅＞?。特別是，因?yàn)槭够腁以基材A的中心軸作為旋轉(zhuǎn)軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，可以抑制基材A周圍的電解液濃度、溫度的不均勻，所以能夠更為均勻地對(duì)基材A進(jìn)行陽極氧化，能夠制造細(xì)孔的深度不齊整進(jìn)一步得到抑制的輥?zhàn)訝钅＞?。此外，如果將基材A設(shè)置在處理槽本體11內(nèi)并使得基材A的外周面與處理槽本體的底部的內(nèi)表面之間形成有特定大小的空隙，則位于基材A與處理槽本體11間的電解液L 可以充分發(fā)揮緩沖部件的作用。其結(jié)果是，處理槽本體11即使被陽極氧化時(shí)產(chǎn)生的熱量加熱，也可以抑制基材A被處理槽本體11直接加熱。因此，可以更為有效地防止基材外周面的溫度不均勻，可以制造細(xì)孔的深度不齊整進(jìn)一步得到抑制的輥?zhàn)訝钅＞摺比較例]下面，對(duì)比較通過本實(shí)用新型的處理裝置以及長(zhǎng)方體形狀的處理槽進(jìn)行電解處理時(shí)溫度的例子進(jìn)行說明。使用中空?qǐng)A柱狀的鋁基材(純度99. 99%，長(zhǎng)度1000mm，外徑200mm，內(nèi)徑 155mm)作為基材，使用本實(shí)用新型的處理槽和長(zhǎng)方體形狀的處理槽進(jìn)行陽極氧化處理。 在圖2中，本實(shí)用新型的處理槽從中心軸P到底部Ila的內(nèi)表面11a’的距離D的距離為 400mm，長(zhǎng)方體形狀的處理槽為與圖7相同的形狀。各處理槽以循環(huán)次數(shù)為每三分鐘一次的流量進(jìn)行循環(huán)，向各處理槽供給溫度被調(diào)節(jié)為16°C的電解液。圖8、圖9是對(duì)通過各處理槽進(jìn)行陽極氧化處理時(shí)的電解液溫度進(jìn)行比較的圖表。 圖8是在整個(gè)處理槽區(qū)域中對(duì)距離處理槽壁面50mm的部位的電解液溫度進(jìn)行多點(diǎn)測(cè)量時(shí)的圖表。進(jìn)行陽極氧化處理時(shí)，處理槽內(nèi)因?yàn)橛赏妼?dǎo)致的發(fā)熱、氧化反應(yīng)的熱量等的影響而出現(xiàn)溫度上升，由圖8可以看出，本實(shí)用新型的處理槽溫度上升比較少。這是因?yàn)?，在長(zhǎng)方體形狀的處理槽中產(chǎn)生循環(huán)效率差的滯留部，滯留部蓄積有發(fā)熱時(shí)的熱量而比滯留部之外的部位溫度高。此外，圖9是表示基材表面的在基材長(zhǎng)度方向的多個(gè)點(diǎn)上的最大溫度差時(shí)的圖表。所謂基材表面的溫度差是指在基材表面產(chǎn)生的溫度不均勻，進(jìn)行陽極氧化處理時(shí)對(duì)細(xì)孔的深度不齊整產(chǎn)生影響。由圖9可以看出，本實(shí)用新型的處理槽的溫度差較小。這也是因?yàn)?，由于長(zhǎng)方體形狀的處理槽中產(chǎn)生了滯留部，所以滯留部附近的基材表面的電解液溫度也變高。此外，作為處理本比較例的基材的處理槽，長(zhǎng)方體處理槽的容積為250L，本實(shí)用新型的處理槽為130L。根據(jù)上述比較可以確認(rèn)通過本實(shí)用新型的處理槽可以防止電解液滯留，而且還可以抑制電解液的使用量。
權(quán)利要求1.一種處理槽，其用于在電解液中對(duì)圓柱狀基材進(jìn)行電解處理，該處理槽的特征在于， 具有容納電解液并浸漬所述基材的長(zhǎng)條形的處理槽本體、向處理槽本體供給電解液的電解液供給部、以及從處理槽本體排出電解液的溢出部，所述處理槽本體的底部的內(nèi)表面沿著浸漬在該處理槽本體中的基材的周面彎曲成圓弧狀，所述電解液供給部沿著處理槽本體的長(zhǎng)度方向設(shè)置在處理槽本體的一個(gè)側(cè)面的上方， 所述溢出部沿著處理槽本體的長(zhǎng)度方向設(shè)置在處理槽本體的另一個(gè)側(cè)面的上部。
2.一種電解處理裝置，其在電解液中對(duì)圓柱狀基材進(jìn)行電解處理，該電解處理裝置的特征在于，具有處理槽和電極板，所述處理槽具有容納電解液并浸漬所述基材的長(zhǎng)條形的處理槽本體、向處理槽本體供給電解液的電解液供給部、以及從處理槽本體排出電解液的溢出部，所述電極板以?shī)A著浸漬在所述處理槽本體中的基材的狀態(tài)配置，所述處理槽本體的底部的內(nèi)表面沿著浸漬在該處理槽本體中的基材的周面彎曲成圓弧狀，所述電解液供給部沿著處理槽本體的長(zhǎng)度方向設(shè)置在處理槽本體的一個(gè)側(cè)面的上方， 所述溢出部沿著處理槽本體的長(zhǎng)度方向設(shè)置在處理槽本體的另一個(gè)側(cè)面的上部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電解處理裝置，其特征在于，所述電極板沿著所述處理槽本體的底部的內(nèi)表面形狀彎曲。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的電解處理裝置，其特征在于，還具有使該基材以所述基材的中心軸為旋轉(zhuǎn)中心旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)單元。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電解處理裝置，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)單元使所述基材在與從電解液供給部供給的電解液向溢出部流動(dòng)的方向相反的方向上旋轉(zhuǎn)。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種電解處理裝置及適用于該電解處理裝置的處理槽，該電解處理裝置在處理長(zhǎng)條形基材的情況下，也能夠防止電解液的滯留，還能夠抑制電解液的使用量。該電解處理裝置具有處理槽和電極板，該處理槽具有容納電解液并浸漬圓柱狀基材的、長(zhǎng)條形的、底部的內(nèi)表面沿該基材的周面彎曲成圓弧狀的處理槽本體；向處理槽本體供給電解液的電解液供給部；以及從處理槽本體排出電解液的溢出部，電解液供給部沿著處理槽本體的長(zhǎng)度方向設(shè)置在處理槽本體的一個(gè)側(cè)面的上方，溢出部沿著處理槽本體的長(zhǎng)度方向設(shè)置在處理槽本體的另一個(gè)側(cè)面的上部，電極板以?shī)A著浸漬在處理槽本體中的基材的狀態(tài)配置。
文檔編號(hào)C25D17/00GK202047159SQ201120094928
公開日2011年11月23日 申請(qǐng)日期2011年3月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月31日
發(fā)明者星出芳彥, 釋迦郡真矢 申請(qǐng)人:三菱麗陽株式會(huì)社