專利名稱：新型電解槽的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及新型電解槽。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)有技術(shù)中，電解槽作為一種化工容器，在具有一定溫度的液相腐蝕性介質(zhì)作用下，能確保電解作用正常運(yùn)行，現(xiàn)有的電解槽具有很多優(yōu)點(diǎn)，如1、良好的耐腐蝕性；2、 具有一定的耐溫性等等。但是現(xiàn)有的電解槽不具有很好的抗沖擊性和剛度，給實(shí)際的運(yùn)用中帶來安全隱患特別是現(xiàn)有的電解槽的內(nèi)壁反應(yīng)接觸面積較小。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供新型電解槽，能夠有效解決現(xiàn)有電解槽不具有很好的抗沖擊性和剛度的問題。為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的新型電解槽，包括電解槽體、底座，所述電解槽體設(shè)置在底座上，所述電解槽體包括基板層和加強(qiáng)層，所述加強(qiáng)層包覆在基板層外。優(yōu)選的，所述加強(qiáng)層的外側(cè)設(shè)有若干根豎直的豎筋。優(yōu)選的，所述加強(qiáng)層的外側(cè)設(shè)有若干根水平的橫筋。優(yōu)選的，所述基板層內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有若干豎直的基柱。優(yōu)選的，所述基柱與基板層一體制造。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是電解槽體的側(cè)板為兩層結(jié)構(gòu)，從內(nèi)到外依次為基板層和加強(qiáng)層，增強(qiáng)了電解槽體的剛度和抗沖擊強(qiáng)度，加強(qiáng)層的外壁設(shè)有橫筋和豎筋，進(jìn)一步加強(qiáng)電解槽體的剛度和抗沖擊強(qiáng)度，基板層的內(nèi)壁上設(shè)有若干與之一體成型的基柱，增大了反應(yīng)接觸面積，電解槽體底部設(shè)有一墊體，并且墊體的橫截面積大于電解槽的底板的橫截面積，提高了整體的穩(wěn)定性。

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1的俯視圖。
具體實(shí)施方式
參閱圖1、圖2為本實(shí)用新型新型電解槽的實(shí)施例，新型電解槽，包括電解槽體、底座5，所述電解槽體設(shè)置在底座5上，所述電解槽體包括基板層1和加強(qiáng)層4，所述加強(qiáng)層4 包覆在基板層1外，所述加強(qiáng)層4的外側(cè)設(shè)有若干根豎直的豎筋22，所述加強(qiáng)層4的外側(cè)設(shè)有若干根水平的橫筋21，所述基板層1內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有若干豎直的基柱3，所述基柱3與基板層1 一體制造。電解槽體的側(cè)板為兩層結(jié)構(gòu)，從內(nèi)到外依次為基板層1和加強(qiáng)層4，加強(qiáng)層4的外
3壁設(shè)有橫筋21和豎筋22，增強(qiáng)了電解槽體的剛度和抗沖擊強(qiáng)度，基板層1設(shè)有若干與之一體成型的基柱3，增大了反應(yīng)接觸面積，電解槽體底部設(shè)有一墊體，并且墊體的橫截面積大于電解槽的底板的橫截面積，提高了整體的穩(wěn)定性。 以上所述僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施例，但本實(shí)用新型的技術(shù)特征并不局限于此，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型的領(lǐng)域內(nèi)，所作的變化或修飾皆涵蓋在本實(shí)用新型的專利范圍之中。
權(quán)利要求1.新型電解槽，包括電解槽體、底座(5)，所述電解槽體設(shè)置在底座( 上，其特征在于所述電解槽體包括基板層⑴和加強(qiáng)層G)，所述加強(qiáng)層⑷包覆在基板層⑴外。
2.如權(quán)利要求1所述的新型電解槽，其特征在于所述加強(qiáng)層(4)的外側(cè)設(shè)有若干根豎直的豎筋02)。
3.如權(quán)利要求1所述的新型電解槽，其特征在于所述加強(qiáng)層(4)的外側(cè)設(shè)有若干根水平的橫筋01)。
4.如權(quán)利要求1所述的新型電解槽，其特征在于所述基板層(1)內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有若干豎直的基柱⑶。
5.如權(quán)利要求4所述的新型電解槽，其特征在于所述基柱(3)與基板層⑴一體制造。
專利摘要本實(shí)用新型公開了新型電解槽，包括電解槽體、底座，所述電解槽體設(shè)置在底座上，所述電解槽體包括基板層和加強(qiáng)層，所述加強(qiáng)層包覆在基板層外。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是電解槽體的側(cè)板為兩層結(jié)構(gòu)，從內(nèi)到外依次為基板層和加強(qiáng)層，增強(qiáng)了電解槽體的剛度和抗沖擊強(qiáng)度。
文檔編號(hào)C25B3/08GK202064004SQ20112016298
公開日2011年12月7日 申請(qǐng)日期2011年5月17日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月17日
發(fā)明者何雪瑩, 劉衛(wèi)東 申請(qǐng)人:浙江師范大學(xué)