專利名稱：離子膜電解單元槽的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種離子膜電解單元槽，屬于化工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
目前的氯堿行業(yè)中，一般均使用電解堿金屬氯化物的水溶液生產(chǎn)堿金屬氫氧化物。現(xiàn)有的離子膜電解單元槽一般是在陽極單元槽中插入導(dǎo)電的鈦棒或者鈦合金棒，在陰極單元槽中插入鎳棒或者鎳合金棒，但這種結(jié)構(gòu)的單元槽由于兩根導(dǎo)電棒之間有一定的距離，電流電阻較大，電流的密度較小，從而造成電極網(wǎng)上的電流分布均勻性差。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的技術(shù)問題是提出一種電流分布均勻、結(jié)構(gòu)簡單的離子膜電解單元槽。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提出的技術(shù)方案是一種離子膜電解單元槽，包括陽極、陰極和陽離子膜，所述陽 離子膜密封在陰極和陽極之間，所述陰極和陽極均呈U形，所述U形開口所在平面與陽離子膜所在平面平行。上述技術(shù)方案的改進(jìn)是所述陰極間隔設(shè)有鎳制的環(huán)扣，所述環(huán)扣形成的平面與陽離子膜平行。上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)是所述陽極間隔設(shè)有鈦制的環(huán)扣，所述環(huán)扣形成的平面與陽離子膜平行。本發(fā)明帶來的有益效果是本發(fā)明通過結(jié)構(gòu)改進(jìn)陰極和陽極的結(jié)構(gòu)，增加了陰極和陽極的接觸導(dǎo)電面積；本發(fā)明的陰極和陽極采用同陽離子膜平行的設(shè)置，電解液流體阻力小，而且電流分布均勻，有效提高了電解的效率。


下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的離子膜電解單元槽作進(jìn)一步說明。圖1是本發(fā)明實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖1中陰極的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例本實(shí)施例的離子膜電解單元槽，包括陰極1、陽極2和陽離子膜3，陽離子膜3密封在陰極I和陽極2之間，陰極I和陽極2均呈U形，其U形開口所在平面與陽離子膜3所在平面平行。本實(shí)施例還可以作如下改進(jìn)
I)如圖2所示，陰極I間隔設(shè)有鎳制的環(huán)扣1-1，環(huán)扣l-ι形成的平面與陽離子膜3平行。2)陽極2的與上述改進(jìn)I)中陰極結(jié)構(gòu)類似，陽極2間隔設(shè)有鈦制的環(huán)扣，環(huán)扣形成的平面與陽離子膜3平行。本發(fā)明的離子膜電解單元槽不局限于上述實(shí)施例所述的具體技術(shù)方案，凡采用等同替換形成的技術(shù)方案均為 本發(fā)明要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種離子膜電解單元槽，包括陽極、陰極和陽離子膜，所述陽離子膜密封在陰極和陽極之間，其特征在于所述陰極和陽極均呈U形，所述U形開口所在平面與陽離子膜所在平面平行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子膜電解單元槽，其特征在于所述陰極間隔設(shè)有鎳制的環(huán)扣，所述環(huán)扣形成的平面與陽離子膜平行。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的離子膜電解單元槽，其特征在于所述陽極間隔設(shè)有鈦制的環(huán)扣，所述環(huán)扣形成的平面與陽離子膜平行。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種離子膜電解單元槽，屬于化工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。該離子膜電解單元槽包括陽極、陰極和陽離子膜，所述陽離子膜密封在陰極和陽極之間，所述陰極和陽極均呈U形，所述U形開口所在平面與陽離子膜所在平面平行。該離子膜電解單元槽電流分布均勻，而且結(jié)構(gòu)簡單。
文檔編號C25B1/46GK103046071SQ20121053841
公開日2013年4月17日 申請日期2012年12月13日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月13日
發(fā)明者黃東, 包金祥 申請人:蘇州新區(qū)化工節(jié)能設(shè)備廠