專利名稱：氧化鋁電解槽裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于電解鋁領(lǐng)域，具體涉及一種氧化鋁電解槽裝置。
背景技術(shù)：
氧化鋁電解槽大型化的方法有兩個(gè)，其一是增大陽極尺寸(主要是增加長度)；其二是增加陽極的數(shù)量。特別是隨著陽極長度增大，傳統(tǒng)中間點(diǎn)式加料電解槽爐膛寬度也增大，進(jìn)而使電解槽中部與電解槽邊部的電解質(zhì)中氧化鋁和氟化鋁濃度差增大，并且這個(gè)氧化鋁和氟化鋁濃度差隨極距的降低而增加。眾所周知，電解質(zhì)中區(qū)域性氧化鋁和氟化鋁濃度差將導(dǎo)致其區(qū)域性導(dǎo)電率偏差，而電解質(zhì)導(dǎo)電率偏差，將致使電解槽陰陽極之間的電流分布波動(dòng)增大，這就限制了超大型電解槽極距的降低。幾十年的生產(chǎn)實(shí)踐與試驗(yàn)證明，小容 量電解槽比大容量電解槽更能獲得好的生產(chǎn)指標(biāo)，就是基于陽極加長后，陰陽極之間電解質(zhì)內(nèi)的氧化鋁和氟化鋁濃度偏差增大造成臨界極距增大。因此，為了能夠降低超大型電解槽的臨界極距，達(dá)到節(jié)能目標(biāo)，本技術(shù)實(shí)用新型改變傳統(tǒng)電解槽中間點(diǎn)式下料點(diǎn)的配置，采用多排下料配置技術(shù)，以減少電解槽極距間氧化鋁和氟化鋁濃度差，達(dá)到降低超大型鋁電解槽的臨界極距的目的。500kA槽、600kA槽和700kA級(jí)電解槽分別是是當(dāng)今國際上系列正在運(yùn)行的、正在研發(fā)和未來發(fā)展的大容量氧化鋁電解槽，因其過長的陽極尺寸，致使極距間氧化鋁和氟化鋁濃度存在差異，導(dǎo)致電解質(zhì)導(dǎo)電率過大差異而使電流分布不穩(wěn)定，限制了臨界極距的進(jìn)一步下降。解決氧化鋁和氟化鋁濃度差成為關(guān)鍵。本實(shí)用新型專利涉及到一種電解槽的裝置，該技術(shù)的實(shí)施可減少陽極底掌下的氧化鋁和氟化鋁濃度差，可降低電解槽的臨界極距，以達(dá)到節(jié)能的目的。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題現(xiàn)有超大型氧化鋁電解槽存在電解質(zhì)中區(qū)域性氧化鋁和氟化鋁濃度差將導(dǎo)致其區(qū)域性導(dǎo)電率偏差，而電解質(zhì)導(dǎo)電率偏差，將致使電解槽陰陽極之間的電流分布波動(dòng)增大，本實(shí)用新型提供一種鋁電解槽裝置，采用配置多排下料以減少電解槽極距間氧化鋁和氟化鋁濃度差，達(dá)到降低超大型鋁電解槽的臨界極距的目的。本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案氧化鋁電解槽裝置，包括電解槽和陽極炭塊，陽極炭塊沿X軸對稱布置在電解槽內(nèi)，每列陽極炭塊構(gòu)成陽極炭塊組，陽極炭塊組之間有陽極間隔，電解槽內(nèi)均勻設(shè)置2個(gè)以上陽極間隔，陽極間隔內(nèi)沿X軸方向?qū)ΨQ設(shè)置2 3個(gè)下料點(diǎn)，這些10(T250mm寬度的陽極間隔對氧化鋁及氟化鋁的擴(kuò)散提供了便利。所述的氧化鋁電解槽裝置，陽極間隔設(shè)置61個(gè)。所述的氧化鋁電解槽裝置，陽極間隔的間距為10(T250mm。本實(shí)用新型達(dá)到的有益效果改變傳統(tǒng)氧化鋁電解槽中間點(diǎn)式下料點(diǎn)的配置，由于電解槽爐膛寬度增大，進(jìn)而使電解槽中部與電解槽邊部的電解質(zhì)中氧化鋁和氟化鋁濃度差增大，并且這個(gè)氧化鋁和氟化鋁濃度差隨極距的降低而增加，電解質(zhì)中區(qū)域性氧化鋁和氟化鋁濃度差將導(dǎo)致其區(qū)域性導(dǎo)電率偏差，而電解質(zhì)導(dǎo)電率偏差，將致使電解槽陰陽極之間的電流分布波動(dòng)增大，這就限制了超大型電解槽極距的降低，本實(shí)用新型采用多排下料配置技術(shù)，以減少電解槽極距間氧化鋁和氟化鋁濃度差，達(dá)到降低超大型鋁電解槽的臨界極距。

圖I為本實(shí)用新型實(shí)施例I中氧化鋁電解槽裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例2中氧化鋁電解槽裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例3中氧化鋁電解槽裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例4中氧化鋁電解槽裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例5中氧化鋁電解槽裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例6中氧化鋁電解槽裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例I氧化鋁電解槽裝置，500kA級(jí)電解槽配置48個(gè)陽極炭塊1，電解槽4沿X軸線方向上，上下兩側(cè)分別設(shè)置24個(gè)陽極炭塊1，上下2陽極炭塊I構(gòu)成一個(gè)陽極炭塊組5，即有24組陽極炭塊組5，24個(gè)陽極炭塊組5之間有間距為180mm的陽極間隔2，整個(gè)電解槽4均勻設(shè)置6個(gè)陽極間隔2，在6個(gè)陽極間隔2的空間內(nèi)，第二個(gè)陽極間隔和第五個(gè)陽極間隔設(shè)置有3個(gè)下料點(diǎn)，靠近電解槽的兩側(cè)的下料點(diǎn)為加入氧化鋁原料，中間的下料點(diǎn)為氟化鋁加料點(diǎn)；其余4個(gè)陽極間隔2設(shè)置有2個(gè)下料點(diǎn)，這些下料點(diǎn)都為下料氧化鋁設(shè)置。實(shí)施例2氧化鋁電解槽裝置，500kA級(jí)電解槽配置48個(gè)陽極炭塊1，電解槽4沿X軸線方向上，上下兩側(cè)分別設(shè)置24個(gè)陽極炭塊1，I列4個(gè)陽極炭塊I構(gòu)成一組陽極炭塊組5，即有12組陽極炭塊組5，12組陽極炭塊組5之間有間距為180mm的陽極間隔2，電解槽4內(nèi)均勻設(shè)置6個(gè)陽極間隔2，6個(gè)陽極間隔2的空間內(nèi)，第二個(gè)陽極間隔和第五個(gè)陽極間隔設(shè)置有3個(gè)下料點(diǎn)，靠近電解槽的兩側(cè)的下料點(diǎn)為加入氧化鋁原料，中間的下料點(diǎn)為氟化鋁加料點(diǎn)；其余4個(gè)陽極間隔2設(shè)置有2個(gè)下料點(diǎn)，這些下料點(diǎn)都為加入氧化鋁原料。實(shí)施例3氧化鋁電解槽裝置，600kA級(jí)電解槽配置56個(gè)陽極炭塊1，電解槽4沿X軸線方向上，上下兩側(cè)分別設(shè)置28個(gè)陽極炭塊1，每列2個(gè)陽極炭塊I構(gòu)成I組陽極炭塊5，即有28組陽極炭塊組5，陽極炭塊組5之間有間距為180mm的陽極間隔2，電解槽4內(nèi)均勻設(shè)置7個(gè)陽極間隔2，在7個(gè)陽極間隔2的空間內(nèi)，第二個(gè)、第四個(gè)和第六個(gè)陽極間2設(shè)置有3個(gè)下料點(diǎn)，其中靠近電解槽的兩側(cè)的下料點(diǎn)為加入氧化鋁原料，中間的下料點(diǎn)為氟化鋁加料點(diǎn)；其余4個(gè)陽極間隔2設(shè)置有2個(gè)下料點(diǎn)，這4個(gè)下料點(diǎn)都為加入氧化鋁原料。實(shí)施例4氧化鋁電解槽裝置，600kA級(jí)電解槽配置56個(gè)陽極炭塊1，電解槽4沿X軸線方向上，上下兩側(cè)分別設(shè)置28個(gè)陽極炭塊1，每列4個(gè)陽極炭塊I構(gòu)成I組陽極炭塊5，即有14組陽極炭塊組5，陽極炭塊組5之間有間距為180mm的陽極間隔2，電解槽4內(nèi)均勻設(shè)置7個(gè)陽極間隔2，7個(gè)陽極間隔2的空間內(nèi)，第二個(gè)、第四個(gè)和第六個(gè)陽極間隔2設(shè)置有3個(gè)下料點(diǎn)，其中靠近電解槽的兩側(cè)的下料點(diǎn)為加入氧化鋁原料，中間的下料點(diǎn)為氟化鋁加料點(diǎn)；其余4個(gè)陽極間隔2設(shè)置有2個(gè)下料點(diǎn)，這4個(gè)下料點(diǎn)都為加入氧化鋁原料。實(shí)施例5氧化鋁電解槽裝置，700kA級(jí)電解槽配置64個(gè)陽極1，電解槽4沿X軸線方向上，上下兩側(cè)分別設(shè)置32個(gè)陽極1，每列2個(gè)陽極炭塊I構(gòu)成I組陽極炭塊5，即有32組陽極
炭塊組5，陽極炭塊組5之間有8個(gè)間距為180mm的陽極間隔2，電解槽4內(nèi)均勻設(shè)置8個(gè)陽極間隔2，在8個(gè)陽極間隔2的空間內(nèi)，其中第三個(gè)、第六個(gè)陽極間隔2設(shè)置有3個(gè)下料點(diǎn)，其中靠近電解槽的兩側(cè)的下料點(diǎn)為加入氧化鋁原料，中間的下料點(diǎn)為氟化鋁加料點(diǎn)；其余6個(gè)陽極間隔2設(shè)置有2個(gè)下料點(diǎn)，這些下料點(diǎn)都為下料氧化鋁設(shè)置。實(shí)施例6氧化鋁電解槽裝置，700kA級(jí)電解槽配置64個(gè)陽極I，電解槽4沿X軸線方向上，上下兩側(cè)分別設(shè)置32個(gè)陽極1，每列4個(gè)陽極炭塊I構(gòu)成I組陽極炭塊5，即有16組陽極炭塊組5，陽極炭塊組5之間有8個(gè)間距為180mm的陽極間隔2，電解槽4內(nèi)均勻設(shè)置8個(gè)陽極間隔2，在8個(gè)陽極間隔2的空間內(nèi)，第三個(gè)、第六個(gè)陽極間隔2設(shè)置有3個(gè)下料點(diǎn)，其中靠近電解槽的兩側(cè)的下料點(diǎn)為加入氧化鋁原料，中間的下料點(diǎn)為氟化鋁加料點(diǎn)；其余6個(gè)陽極間隔2設(shè)置有2個(gè)下料點(diǎn)，這些下料點(diǎn)都為下料氧化鋁設(shè)置。
權(quán)利要求1.一種氧化鋁電解槽裝置，包括電解槽(4)和陽極炭塊(1)，陽極炭塊(I)沿X軸對稱布置在電解槽(4)內(nèi)，其特征在于每列陽極炭塊(I)構(gòu)成陽極炭塊組(5)，陽極炭塊組(5)之間有陽極間隔⑵，電解槽(4)內(nèi)均勻設(shè)置2個(gè)以上陽極間隔(2)，陽極間隔⑵內(nèi)沿X軸方向?qū)ΨQ設(shè)置2 3個(gè)下料點(diǎn)(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種氧化鋁電解槽裝置，其特征在于陽極間隔(2)設(shè)置6 8 個(gè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的一種氧化鋁電解槽裝置，其特征在于所述的陽極間隔(2)的間距為 10(T250mm。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種氧化鋁電解槽裝置，包括電解槽(4)和陽極炭塊(1)，陽極炭塊(1)沿X軸對稱布置在電解槽(4)內(nèi)，每列陽極炭塊(1)構(gòu)成陽極炭塊組(5)，陽極炭塊組(5)之間有陽極間隔(2)，電解槽(4)內(nèi)均勻設(shè)置2個(gè)以上陽極間隔(2)，陽極間隔(2)內(nèi)沿X軸方向?qū)ΨQ設(shè)置2~3個(gè)下料點(diǎn)(3)。本實(shí)用新型的鋁電解槽下料點(diǎn)裝置改變了傳統(tǒng)電解槽中間點(diǎn)式下料點(diǎn)的配置，采用多排下料配置技術(shù)，以減少電解槽極距間氧化鋁和氟化鋁濃度差，達(dá)到降低超大型鋁電解槽的臨界極距。
文檔編號(hào)C25C3/08GK202465897SQ201220030749
公開日2012年10月3日 申請日期2012年1月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月31日
發(fā)明者陳才榮 申請人:貴陽鋁鎂設(shè)計(jì)研究院有限公司