局部鍍敷裝置及局部鍍敷方法
【專利摘要】本發(fā)明提供局部鍍敷裝置，該局部鍍敷裝置利用鼓夾具連續(xù)進(jìn)給縱長的金屬構(gòu)件，進(jìn)行點鍍敷，其中存在如下問題：由金屬構(gòu)件的引導(dǎo)孔的間距和鼓夾具的定位銷的間距之差導(dǎo)致金屬構(gòu)件和鼓夾具的密合性劣化，鍍敷膜厚分布產(chǎn)生偏差。該局部鍍敷裝置包括：鼓夾具（1），其在外周部配置有多個定位銷（6），金屬構(gòu)件（11）卡合于定位銷（6）而沿著外周部被輸送；旋轉(zhuǎn)軸（2），其將鼓夾具（1）支承成能夠旋轉(zhuǎn)；噴流部（8），其用于向金屬構(gòu)件（11）供給鍍敷液；以及制動單元（15），其安裝在旋轉(zhuǎn)軸（2）上，用于使鼓夾具（1）的圓周速度減速。此外，本發(fā)明提供鍍敷裝置、局部鍍敷方法，其中，在鼓夾具（1）的搬入側(cè)的第1區(qū)域中不對金屬構(gòu)件（11）進(jìn)行鍍敷處理，在搬出側(cè)的第2區(qū)域中對金屬構(gòu)件（11）實施鍍敷處理。
【專利說明】局部鍍敷裝置及局部鍍敷方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種用于對銅(Cu)或者Cu合金、鐵(Fe)或者Fe合金等的金屬構(gòu)件局部地實施鍍敷的局部鍍敷裝置，涉及一種能夠降低鍍敷膜厚的偏差的局部鍍敷裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]作為對縱長的金屬構(gòu)件實施局部鍍敷的局部鍍敷裝置，公知有采用圓筒狀的夾具(鼓夾具)的局部鍍敷裝置。圖10是表示以往的局部鍍敷裝置200的鼓夾具201部分的概略的俯視圖。
[0003]采用鼓夾具的鍍敷裝置200是指這樣的裝置:在鼓夾具201的外周面上卷繞作為被鍍敷物的縱長的金屬構(gòu)件202，一邊使金屬構(gòu)件202移動、一邊自鼓夾具201的中心附近經(jīng)由設(shè)于鼓夾具的外周面的開口部(未圖示)像虛線箭頭那樣將鍍敷液供給到金屬構(gòu)件202表面，以連續(xù)進(jìn)給方式實施鍍敷。由于利用鼓夾具掩蔽除開口部之外的部分，因此鍍敷不會析出，由此能夠?qū)饘贅?gòu)件局部地實施鍍敷。這樣的鍍敷方法被稱作點鍍敷。
[0004]在這樣的局部鍍敷裝置中，在鼓夾具201的外周面設(shè)有多個定位銷203，將該定位銷203與設(shè)于金屬構(gòu)件202的引導(dǎo)孔(未圖示)卡合，使金屬構(gòu)件202以規(guī)定的速度移動，從而使鼓夾具201旋轉(zhuǎn)。定位銷203在此大概表示了 7個，但實際上例如設(shè)有8個以上(下同)。
[0005]鼓夾具201以能夠以旋轉(zhuǎn)軸204為中心轉(zhuǎn)動的方式支承于旋轉(zhuǎn)軸204，在不施加用于驅(qū)動鼓夾具201的外力的情況下，該鼓夾具201以與金屬構(gòu)件202的移動速度相等的圓周速度像細(xì)箭頭那樣旋轉(zhuǎn)。
[0006]另一方面，也公知有如下局部鍍敷裝置:將鼓夾具的內(nèi)周面按壓于伴隨著金屬構(gòu)件移動而旋轉(zhuǎn)的鼓夾具，調(diào)整該按壓力`而使鼓夾具的圓周速度發(fā)生變化(例如參照專利文獻(xiàn)I)。
[0007]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0008]專利文獻(xiàn)
[0009]專利文獻(xiàn)1:日本特開2009 - 242859號公報
【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]發(fā)明要解決的問題
[0011]在使用圖10所示的以往的局部鍍敷裝置進(jìn)行了鍍敷處理的情況下，產(chǎn)生鍍敷品的鍍敷膜厚分布的偏差變明顯的問題。
[0012]圖11是說明圖10的局部鍍敷裝置200的鼓夾具201與金屬構(gòu)件202的關(guān)系的圖，圖11的(A)、(B)是俯視圖，圖11的(C)是圖11的(B)的展開俯視圖，圖11的(D)是圖11的(C)的虛線圓圈部分的放大圖。
[0013]首先，在圖11的(A)、(B)中，是說明鼓夾具201的定位銷203和與該定位銷203卡合的金屬構(gòu)件202的引導(dǎo)孔的位置關(guān)系的圖。金屬構(gòu)件202是長度為寬度的例如10倍以上的縱長的構(gòu)件，圖中的進(jìn)深方向作為寬度表示，圖中的左右方向作為長度表示，但在此以能夠識別引導(dǎo)孔hi~hio的形狀的俯視(能夠在金屬構(gòu)件202的主視中視覺識別的狀態(tài))表示該引導(dǎo)孔hi~hlO，表示定位銷分別在哪個位置卡合于該引導(dǎo)孔hi~hlO。另外，在以下的說明中，在不必區(qū)分各個引導(dǎo)孔的情況下，將其統(tǒng)稱為引導(dǎo)孔h。
[0014]金屬構(gòu)件202像上述那樣是縱長且厚度為例如0.8mm以下左右的較薄的平板狀。鼓夾具201的定位銷203相互間的分開距離(間距)pl’和金屬構(gòu)件202的引導(dǎo)孔h相互間的分開距離(間距)p2’以這些分開距離一致的方式設(shè)計。但是，引導(dǎo)孔h和定位銷203之間需要規(guī)定的間隙，鼓夾具201有時也是圓筒狀的，從加工精度的方面來看，事實上是無法使定位銷203和引導(dǎo)孔h完全一致的。
[0015]也就是說，由于在使兩者完全一致的情況下所容許的定位銷203相互間的間距p1'和引導(dǎo)孔h相互間的間距ρ2’的每I個間距的差值(以下稱作引導(dǎo)孔和定位銷的間距差)都在鼓夾具201的加工精度的界限以下，因此無法在該間距差內(nèi)制作夾具。此外，由于鼓夾具I在鍍敷加工過程中由于鍍敷液的溫度而膨脹，因此需要在設(shè)計階段考慮這一點，更加無法將間距差納入在容許范圍內(nèi)。
[0016]例如，由于鼓夾具201在設(shè)計上是將間距ρ1' =間距ρ2’作為標(biāo)準(zhǔn)以土公差進(jìn)行制作的，因此，結(jié)果存在間距ρ1' <間距ρ2’的情況、間距ρ1' >間距ρ2的情況。
[0017]出于這些原因，存在如下問題:鼓夾具引導(dǎo)孔和定位銷之間產(chǎn)生間距差，通過使該間距差在制造工序中反復(fù)累積和消除，鍍敷膜厚分布不均勻。
[0018]參照圖11的(Α)，金屬構(gòu)件202像箭頭那樣從進(jìn)入點I側(cè)朝向排出點O側(cè)行進(jìn)。在此，在被鍍敷處理的金屬構(gòu)件202的從頂端到排出點O的距離為LI的狀態(tài)下，在鼓夾具201的定位銷203的間距ρ1'稍稍小于金屬構(gòu)件202的引導(dǎo)孔h的間距p2’的情況(結(jié)果為ρ1' <ρ2’的情況)下，定位銷203像圖示那樣分別卡合于金屬構(gòu)件202的引導(dǎo)孔hi~h7。
[0019]隨著從鼓夾具201的排出點O側(cè)向鼓夾具的進(jìn)入點I側(cè)行進(jìn)，定位銷203向金屬構(gòu)件202的引導(dǎo)孔hi的行進(jìn)方向的前方側(cè)(金屬構(gòu)件202的排出點O側(cè))偏間距差的量并卡合于該引導(dǎo)孔hi。另一方面，在金屬構(gòu)件202從進(jìn)入點I側(cè)向排出點O側(cè)像箭頭那樣移動時，利用與金屬構(gòu)件202的摩擦力，鼓夾具201以旋轉(zhuǎn)軸204為中心旋轉(zhuǎn)。也就是說，在這種情況下，鼓夾具201沿著金屬構(gòu)件202的移動方向以與金屬構(gòu)件202的移動速度v2’相等的圓周速度vl’旋轉(zhuǎn)。
[0020]參照圖11的(B)，金屬構(gòu)件202進(jìn)一步行進(jìn)，在從金屬構(gòu)件11的頂端到排出點O的距離為L2 (LI < L2)的情況下，例如金屬構(gòu)件202的引導(dǎo)孔h4卡合于排出點O側(cè)的端部的定位銷203，引導(dǎo)孔h8~hlO重新與定位銷203卡合。
[0021]但是，即使像圖11的(B)那樣引導(dǎo)孔hi~h3脫離鼓夾具201，鼓夾具201也利用其與金屬構(gòu)件202的摩擦力而旋轉(zhuǎn)，因此，該鼓夾具201以與金屬構(gòu)件202的移動速度v2’相等的圓周速度vl’旋轉(zhuǎn)，維持圖11的(A)所示的各定位銷與引導(dǎo)孔的位置關(guān)系。而且，在引導(dǎo)孔h8中，累積從引導(dǎo)孔h4到引導(dǎo)孔h8的各個間距差(以下將其稱作累積間距差)。
[0022]因此，像圖11的(C)、(D)那樣，例如在引導(dǎo)孔h8中，超過引導(dǎo)孔h8和定位銷203之間的間隙而定位銷203接觸于引導(dǎo)孔h8的端部，金屬構(gòu)件202自鼓夾具201稍稍分開(參照圖11的(D))。[0023]也就是說，在因引導(dǎo)孔h和定位銷203的累積間距差而使兩者接觸，金屬構(gòu)件202自鼓夾具201分開時，引起鍍敷膜厚分布的局部地降低。而且，存在通過間距差反復(fù)累積和消除而在I個金屬構(gòu)件中鍍敷膜厚的偏差變大的問題。
[0024]對于這一點，鍍敷部(點)的面積也產(chǎn)生影響。也就是說，在即使是使用圖10所示的局部鍍敷裝置、也就是采用連續(xù)進(jìn)給方式的局部鍍敷裝置的鍍敷處理，也能夠在一定程度地確保鍍敷部的面積的情況下，鍍敷膜厚的偏差不會成為問題。
[0025]但是，近年來，隨著各種電子設(shè)備、這些部件的小型化，對鍍敷加工品的鍍敷部(點)的面積進(jìn)行了狹小化(例如5_X5_以下)，與此相伴，顯著地出現(xiàn)鍍敷膜厚不均勻的問題。
[0026]為了解決該問題，一般考慮消除金屬構(gòu)件202的引導(dǎo)孔h和鼓夾具201的定位銷203的間距差。
[0027]例如，在專利文獻(xiàn)I中，公開了一種將橡膠輥按壓于鼓夾具(圓筒狀鼓)、調(diào)整該按壓力來調(diào)整鼓夾具的圓周速度的技術(shù)。
[0028]但是，獨立地控制金屬構(gòu)件的移動速度和鼓夾具的圓周速度是非常困難的。
[0029]具體地講，在專利文獻(xiàn)I所述的技術(shù)中，將橡膠輥按壓于利用馬達(dá)以恒定速度旋轉(zhuǎn)的鼓夾具，按壓橡膠輥，控制該力的強(qiáng)弱來控制鼓圓周速度。
[0030]例如作為一般的數(shù)值，假定金屬構(gòu)件202的長度為2000m、引導(dǎo)孔h和定位銷203之間的間隙為0.5mm、金屬構(gòu)件的移動速度為2m / min時，鼓夾具201的圓周速度所容許的誤差為 0.5 μ m / min。
[0031]因而，需要以納入到該范圍內(nèi)的方式獨立地控制利用馬達(dá)旋轉(zhuǎn)的鼓夾具的圓周速度，因此，例如需要監(jiān)視間隙來進(jìn)行反饋的部件等。具體地講，在專利文獻(xiàn)I中，利用激光、圖像處理等以納入到間隙的容許范圍內(nèi)的方式進(jìn)`行監(jiān)視，反饋該結(jié)果來控制圓周速度。
[0032]但是，在需要這樣的反饋部件的構(gòu)造的情況下，存在不僅控制變復(fù)雜、而且設(shè)備成本增加等問題。
[0033]用于解決問題的方案
[0034]本發(fā)明即是鑒于該課題而完成的，第I，通過提供如下的局部鍍敷裝置來解決上述課題，該局部鍍敷裝置包括:鼓夾具，其在外周部配置有多個定位銷，金屬構(gòu)件卡合于上述定位銷而沿著上述外周部被輸送；旋轉(zhuǎn)軸，其將該鼓夾具支承成能夠旋轉(zhuǎn)；噴流部，其用于向上述金屬構(gòu)件供給鍍敷液；以及制動單元，其安裝在上述旋轉(zhuǎn)軸上，用于使上述鼓夾具的圓周速度減速。
[0035]這樣，本發(fā)明以定位銷的間距稍稍小于金屬構(gòu)件的引導(dǎo)孔的間距的方式制作鼓夾具，在支承該鼓夾具的旋轉(zhuǎn)軸上設(shè)置用于使鼓夾具減速的制動單元，消除金屬構(gòu)件的引導(dǎo)孔和鼓夾具的定位銷之間的累積間距差。制動單元使鼓夾具相對于金屬構(gòu)件在引導(dǎo)孔和定位銷之間的間隙內(nèi)相對地向相反的方向移動(滑動)，由此消除累積間距差。
[0036]第2，通過如下的局部鍍敷方法來解決上述課題，其是對沿著局部鍍敷裝置的鼓夾具的外周部輸送的金屬構(gòu)件實施局部鍍敷的方法，其中，上述外周部的一部分是與上述金屬構(gòu)件接觸的接觸區(qū)域，在該接觸區(qū)域的距上述金屬構(gòu)件的進(jìn)入側(cè)端部規(guī)定距離的第I區(qū)域的范圍內(nèi)，不對上述金屬構(gòu)件實施鍍敷，在從該第I區(qū)域的端部到上述金屬構(gòu)件的排出側(cè)端部的第2區(qū)域的范圍內(nèi)對上述金屬構(gòu)件實施鍍敷。[0037]這樣，本發(fā)明通過僅在接觸區(qū)域的后半部分實施鍍敷來減小鍍敷膜厚的偏差。
[0038]發(fā)明的效果
[0039]采用本發(fā)明的局部鍍敷裝置，第1，能夠提供采用減小鍍敷品的膜厚分布偏差的鼓夾具的連續(xù)進(jìn)給方式的局部鍍敷裝置。
[0040]局部鍍敷裝置在將鼓夾具支承成能夠旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)軸上設(shè)有制動單元，通過對旋轉(zhuǎn)軸付與載荷而使鼓夾具的圓周速度相對于金屬構(gòu)件的移動速度降低。由此，能夠隨時消除在鍍敷處理過程中產(chǎn)生的金屬構(gòu)件的引導(dǎo)孔和鼓夾具的定位銷的累積間距差，減小鍍敷膜
厚的偏差。
[0041]制動單元對旋轉(zhuǎn)軸付與的載荷維持在比鼓夾具相對于抵接的金屬構(gòu)件的行進(jìn)方向相對地向相反的方向移動(滑動)的力大、使金屬構(gòu)件產(chǎn)生變形的力以下。
[0042]由此，能夠隨時消除(不累積)對I個縱長的金屬構(gòu)件進(jìn)行處理時產(chǎn)生的引導(dǎo)孔和定位銷的累積間距差，相對于所有的引導(dǎo)孔將對應(yīng)的定位銷納入到該間隙內(nèi)。
[0043]本實施方式的鼓夾具并不是其自身進(jìn)行旋轉(zhuǎn)控制，而是隨著金屬構(gòu)件的移動而旋轉(zhuǎn)，利用制動單元使其速度減速。也就是說，僅是將制動單元對旋轉(zhuǎn)軸付與的載荷維持在規(guī)定的范圍內(nèi)，不另外設(shè)置反饋部件、間隙的監(jiān)視部件，就能夠在整個金屬構(gòu)件中使引導(dǎo)孔和定位銷可靠地卡合，因此不需要控制鼓夾具的圓周速度，并且也能夠簡便且低成本地實現(xiàn)設(shè)備。
[0044]并且，通過將鼓夾具的定位銷的間距設(shè)計得小于金屬構(gòu)件的引導(dǎo)孔的間距，在鍍敷處理時利用制動單元使鼓夾具的圓周速度相對于金屬構(gòu)件的移動速度減速，在金屬構(gòu)件向鼓夾具進(jìn)入時定位銷位于比引導(dǎo)孔的中央靠行進(jìn)方向前方(排出側(cè))的位置，在自鼓夾具排出時定位銷處于比引導(dǎo)孔的中 央靠行進(jìn)方向后方(進(jìn)入側(cè))的位置，因此能夠減小進(jìn)入時及排出時的卡住。
[0045]第2，對于鼓夾具和金屬構(gòu)件接觸的接觸區(qū)域，通過做成在金屬構(gòu)件的進(jìn)入側(cè)的第I區(qū)域的范圍內(nèi)不對金屬構(gòu)件實施鍍敷、在金屬構(gòu)件的排出側(cè)的第2區(qū)域的范圍內(nèi)對金屬構(gòu)件實施鍍敷的構(gòu)造，能夠謀求膜厚分布的進(jìn)一步均勻化。
[0046]由于在兩者接觸的接觸區(qū)域的前半部分(第I區(qū)域)顯著地發(fā)生膜厚減小，因此，防止在該前半部分中進(jìn)行鍍敷處理，僅在從中間到后半部分(第2區(qū)域)中進(jìn)行鍍敷處理。即，通過僅在第2區(qū)域設(shè)置對電極(陽極)、或者采用僅在第2區(qū)域噴出鍍敷液這樣的噴流部，能夠使膜厚分布進(jìn)一步均勻化。
[0047]第3，采用本發(fā)明的局部鍍敷方法，由于在鼓夾具的前半部分(第I區(qū)域)不對金屬構(gòu)件實施鍍敷，僅在第2部分實施鍍敷，因此，與在整個接觸區(qū)域中實施鍍敷的鍍敷方法相比較能夠減小鍍敷膜厚分布的偏差。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0048]圖1是說明本發(fā)明的第I實施方式的局部鍍敷裝置的(A)俯視圖、(B)剖視圖。
[0049]圖2是說明本發(fā)明的第I實施方式的局部鍍敷裝置的(A)俯視圖、(B)側(cè)視圖、(C)首1J視圖。
[0050]圖3是說明本發(fā)明的第 I實施方式的局部鍍敷裝置的(A)俯視圖、(B)展開俯視圖、(C)放大俯視圖、(D)放大俯視圖。[0051]圖4是對利用本發(fā)明的第I實施方式的局部鍍敷裝置產(chǎn)生的鍍敷膜厚偏差和以往構(gòu)造的情況進(jìn)行比較的(A)特性圖、(B)比較表。
[0052]圖5是說明本發(fā)明的第2實施方式的局部鍍敷裝置的(A)俯視圖、(B)表示利用鼓夾具輸送金屬構(gòu)件的狀態(tài)的俯視概略圖。
[0053]圖6是說明本發(fā)明的第2實施方式的局部鍍敷裝置的立體圖。
[0054]圖7是說明本發(fā)明的第I實施方式的局部鍍敷裝置的(A)俯視圖、(B)展開俯視圖、及說明本發(fā)明的第2實施方式的局部鍍敷裝置的(C)俯視圖。
[0055]圖8是對利用本發(fā)明的第2實施方式的局部鍍敷裝置產(chǎn)生的鍍敷膜厚偏差和利用第I實施方式的局部鍍敷裝置產(chǎn)生的鍍敷膜厚偏差進(jìn)行比較的(A)特性圖、(B)比較表。
[0056]圖9是說明本發(fā)明的第3實施方式的局部鍍敷裝置的俯視圖。
[0057]圖10是說明以往構(gòu)造的俯視圖。
[0058]圖11是說明以往構(gòu)造的(A)俯視圖、(B)俯視圖、(C)展開俯視圖、(D)放大俯視圖。
【具體實施方式】
[0059]參照圖1~圖9說明本發(fā)明的實施方式。首先，參照圖1~圖4說明本發(fā)明的第I實施方式。
[0060]圖1是用于說明第I實施方式的局部鍍敷裝置10的構(gòu)造的概要圖，圖1的(A)是俯視圖，也透視了下層(內(nèi)部)的結(jié)構(gòu)。圖1的(B)是圖1的(A)中的a— a剖視圖。
[0061]參照圖1，局部鍍敷裝置10具有`鼓夾具1、旋轉(zhuǎn)軸2、噴流部8、制動單元15。
[0062]鼓夾具I是在其外周部密合作為被鍍敷材料的金屬構(gòu)件(在此未圖示)并沿著外周部進(jìn)行輸送的夾具。鼓夾具I能夠以旋轉(zhuǎn)軸2為中心旋轉(zhuǎn)，但不存在用于使鼓夾具I自身旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動部件。也就是說，通過使金屬構(gòu)件以規(guī)定速度移動，而該鼓夾具I沿著金屬構(gòu)件的行進(jìn)方向例如向圖1的(A)的箭頭方向以規(guī)定的圓周速度vl旋轉(zhuǎn)。鼓夾具I的鼓徑(直徑)Φ例如優(yōu)選為200mm~500mm。在鼓徑Φ小于200mm的情況下,雖也取決于金屬構(gòu)件的厚度，但卷繞該金屬構(gòu)件變困難、或者鍍敷時間變短，所謂的線速度下降，因此有可能導(dǎo)致生產(chǎn)率變差等。此外，在鼓徑Φ大于500_時，有可能產(chǎn)生局部鍍敷裝置的制造(加工)變困難，鼓夾具I的偏芯影響變大、初期成本增加等問題。在鼓夾具I的外周部配置有多個互相以均等的距離(間距)分開的定位銷(在此未圖示)。
[0063]旋轉(zhuǎn)軸2利用支柱7支承，固定在基板21。旋轉(zhuǎn)軸2的一端(在圖1的(B)中是上端)固定在鼓夾具I上，將鼓夾具I支承成能夠旋轉(zhuǎn)。此外，在旋轉(zhuǎn)軸2的另一端(在圖1的(B)中是下端)安裝有制動單元15。
[0064]制動單元15安裝在基板21下方的、旋轉(zhuǎn)軸2的下端部，對鼓夾具I付與規(guī)定的載荷。由此，鍍敷處理中的鼓夾具I的圓周速度vl相對于金屬構(gòu)件的移動速度被減速。
[0065]制動單元15從外側(cè)(外周)按壓旋轉(zhuǎn)軸2而對旋轉(zhuǎn)軸2付與載荷，采用能夠在低載荷區(qū)域中對按壓力的參數(shù)進(jìn)行線形控制的制動方式。按壓力的參數(shù)例如是指空氣壓力。
[0066]制動單元15更具體地講采用利用空氣壓力進(jìn)行制動的盤制動方式。而且，例如利用壓縮機(jī)和調(diào)節(jié)器使空氣壓力恒定而控制載荷，在I個金屬構(gòu)件的鍍敷處理過程中維持大致恒定的載荷。[0067]對于載荷而言，根據(jù)金屬構(gòu)件的材質(zhì)、板厚、寬度、金屬構(gòu)件的張力(金屬構(gòu)件在鍍敷處理流水線內(nèi)被拉拽的力)、鼓夾具I的鼓徑Φ及重量、金屬構(gòu)件向鼓夾具I的卷繞角度等使送到制動單元15的空氣壓力發(fā)生變化，選擇適當(dāng)?shù)闹怠?br> [0068]例如，在金屬構(gòu)件的板厚較薄、或者在材質(zhì)上引導(dǎo)孔h易于變形的情況下，減小載荷。此外，在材質(zhì)上為與鼓夾具I的摩擦力較大(難以滑動)的金屬構(gòu)件的情況、金屬構(gòu)件的張力較大且與鼓夾具I的摩擦力變大等的情況下，增大載荷。
[0069]另外，制動單元15只要是能夠在低載荷區(qū)域中對按壓力的參數(shù)進(jìn)行線形控制的方式，就不限定于該例子。
[0070]噴流部8用于經(jīng)由鼓夾具I向金屬構(gòu)件供給鍍敷液(用陰影表示)。鍍敷液貯存在處理槽23外的供給罐(未圖示)中，自此利用泵等(均未圖示)經(jīng)由配管25像上箭頭那樣吸起到噴流部8中。在鍍敷液供給罐上裝備有加熱器、溫度傳感器及調(diào)節(jié)器等，用于將鍍敷液的溫度保持恒定。此外，泵包括用于控制流量的變換器，用于控制流量。此外，噴流部8將噴出到金屬構(gòu)件的鍍敷液像下箭頭那樣經(jīng)由配管25回收到供給罐。
[0071]在噴流部8的外周設(shè)有防液堤24，鼓夾具I以覆蓋噴流部8的方式配置在防液堤24的內(nèi)周部上。支承輥4用于支承卷繞在鼓夾具I上的金屬構(gòu)件的移動。
[0072]在噴流部8的鍍敷液的噴出口設(shè)有對電極(陽極)9。噴流部8在圖1的(A)的俯視中設(shè)置為例如大致半圓形狀，陽極9也沿著噴流部8的形狀設(shè)置為大致半圓形狀。
[0073]參照圖2進(jìn)一步說明鼓夾具I。圖2的(A)是表示在圖1的(A)所示的鼓夾具I上卷饒有金屬構(gòu)件11的狀態(tài)的俯視概略圖，圖2的(B)是從圖2的(A)中的S方向的視點看到的側(cè)視圖，圖2的(C)是表示圖2的(A)中的b — b線截面的一部分的圖。
[0074]鼓夾具I在其外周部以均等的分開距離(間距pi)配置有多個定位銷6。在此表示大概，定位銷6配置有7個，但實際上在鼓夾具I的外周部配置有例如8個以上。
[0075]金屬構(gòu)件11卡合于定位銷6，沿著鼓夾具I的外周部從進(jìn)入點I朝向排出點O像箭頭那樣被輸送。本實施方式的鼓夾具I隨著金屬構(gòu)件11的移動而旋轉(zhuǎn)。
[0076]自設(shè)于鼓夾具I內(nèi)側(cè)的噴流部8像虛線箭頭那樣向金屬構(gòu)件11供給鍍敷液。
[0077]參照圖2的(B)，在鼓夾具I的外周面設(shè)有定位銷6。定位銷6在圓周方向上排列有多個。此外，在金屬構(gòu)件11中也與定位銷6對應(yīng)地設(shè)有多個引導(dǎo)孔h。引導(dǎo)孔h以均等的分開距離(間距P2)分開。
[0078]通過使金屬構(gòu)件11的引導(dǎo)孔h卡合于定位銷6，將金屬構(gòu)件11向箭頭的方向拉拽，金屬構(gòu)件11密合于鼓夾具I的外周部的一部分，利用其摩擦力使鼓夾具I旋轉(zhuǎn)。
[0079]在本實施方式中，將金屬構(gòu)件11以寬度W方向(圖2 (B)Y方向)為垂直(上下)的狀態(tài)沿著鼓夾具I的外周部輸送。寬度W方向是指與縱長的金屬構(gòu)件11的長度方向(X方向)正交的方向。
[0080]鼓夾具I其自身的旋轉(zhuǎn)并不是利用馬達(dá)等驅(qū)動部件來控制的，而是通過金屬構(gòu)件11移動而沿著金屬構(gòu)件11的行進(jìn)方向(在與金屬構(gòu)件11抵接的面中的相同方向)旋轉(zhuǎn)，但利用制動單元15使其平均的圓周速度Vl相對于金屬構(gòu)件的移動速度V2減速(參照圖1的(A))。詳細(xì)地講，制動單元15對旋轉(zhuǎn)軸2付與比相抵接的金屬構(gòu)件11和鼓夾具I向相反方向移動(滑動)的力大且使金屬構(gòu)件11產(chǎn)生變形的力以下的載荷。
[0081]由此，能夠在不付與載荷的狀態(tài)下使以與金屬構(gòu)件11的移動速度相等的圓周速度旋轉(zhuǎn)的鼓夾具I減速。通過將制動單元15的載荷的下限設(shè)在上述范圍內(nèi)，在金屬構(gòu)件11和鼓夾具I滑動的同時，鼓夾具I比金屬構(gòu)件11旋轉(zhuǎn)地慢一些，金屬構(gòu)件11和鼓夾具I的行進(jìn)方向相對地向相反朝向移動(滑動)。
[0082]作為一例子，在利用4kgf的張力使板厚為0.2mm、寬度為30mm的Cu (銅)合金材料的金屬構(gòu)件11移動的情況下，將制動單元15的載荷設(shè)為4kgf左右。此時，假定引導(dǎo)孔h的間距P2為IOmm /間距、每I個間距的引導(dǎo)孔h和定位銷6的間距差例如為0.003mm時，鼓夾具I的平均速度vl相對于金屬構(gòu)件v2的移動速度減速0.03%。
[0083]在鼓夾具I的外周部設(shè)有沿著圓筒的圓周方向排列的多個開口部3。鼓夾具I的材質(zhì)是熱膨張較少的樹脂，例如是耐熱性氯乙烯樹脂、聚苯硫醚(polyphenylene sulfide ；PPS)樹脂、聚醚醚酮(polyetheretherketone ；PEEK)樹脂等。
[0084]參照圖2的(C)，像虛線箭頭那樣從噴流部8的噴出口(狹縫部8S)經(jīng)由設(shè)于鼓夾具I的開口部3向金屬構(gòu)件11供給鍍敷液。在鼓夾具I的內(nèi)部以與金屬構(gòu)件11相對的方式設(shè)有對電極(陽極)9。對電極9例如以板狀設(shè)于狹縫部8S的上下。對該對電極9和金屬構(gòu)件11之間施加電壓，借助鍍敷液產(chǎn)生電流。
[0085]通過向鍍敷液通電，在金屬構(gòu)件11上生成鍍膜12。即，在金屬構(gòu)件11上形成有開口部3的形狀、在長度方向上例如排成一列、利用點鍍敷生成的鍍膜12。鍍膜12是例如5mm以下四方形的面積的例如鍍金(Au)，也可以在點鍍敷Au之前，對金屬構(gòu)件11實施鎳(Ni)或者Ni合金、Cu或者Cu合金等的基底鍍敷(參照圖2的(B))。
[0086]在本實施方式中，鼓夾具I和由鍍膜形成的掩模成為一體。也就是說，在像箭頭那樣從噴流部8經(jīng)由開 口部3向金屬構(gòu)件11噴出鍍敷液時，除開口部3之外的區(qū)域被鼓夾具I所覆蓋，開口部3周圍的鼓夾具I的一部分成為由鍍膜形成的掩模。
[0087]另外，并不限定于此，也可以將具有開口部3的樹脂性的掩模材料卷繞在鼓夾具I的外周部。這種情況下的鼓夾具I為了能夠自噴流部8供給鍍敷液，例如在鼓夾具I的外周部沿著圓周設(shè)有狹縫，是以狹縫和開口部一致的方式在外周部設(shè)置掩模材料等的結(jié)構(gòu)。
[0088]相對于該構(gòu)造，通過像本實施方式這樣將鼓夾具I兼用于掩模，能夠防止掩模的對位偏差。
[0089]接著，參照圖3說明局部鍍敷裝置10的鍍敷處理時的金屬構(gòu)件11和鼓夾具I的關(guān)系。
[0090]首先，圖3的(A)、(B)是說明鼓夾具I的定位銷6和與該定位銷6卡合的金屬構(gòu)件11的引導(dǎo)孔h的位置關(guān)系的圖。圖3的(A)中的引導(dǎo)孔h的標(biāo)記方法像上述那樣。gp，引導(dǎo)孔h (在此是h4~hlO)實際上是以貫穿由金屬構(gòu)件11的寬度W方向上的邊和長度L方向上的邊構(gòu)成的兩個主面(表背面)的方式設(shè)置的，但在此以能夠識別引導(dǎo)孔h4~hlO的形狀的俯視(圖3的(B)的狀態(tài))表示該引導(dǎo)孔h4~hlO，表示定位銷分別卡合于該引導(dǎo)孔h4~hlO的哪個位置。此外，對于圖3的(A沖的引導(dǎo)孔h4和引導(dǎo)孔hlO也同時記載了表示與各個定位銷6之間的間隙的俯視圖(從金屬構(gòu)件11的主面看到的俯視圖)。
[0091]圖3的(B)是將圖3的(A)中的鼓夾具I和金屬構(gòu)件11展開成直線狀的俯視圖。此外，圖3的(C)、(D)分別是以圖3的(B)中的虛線表示的引導(dǎo)孔hl0、h4的放大俯視圖。
[0092]參照圖3的(A)、(B),金屬構(gòu)件11的引導(dǎo)孔h和鼓夾具I的定位銷6卡合,隨著輸送金屬構(gòu)件11，鼓夾具I旋轉(zhuǎn)。定位銷6沿著鼓夾具I的圓周突出與金屬構(gòu)件11的板厚相應(yīng)的量，定位銷6的直徑(例如1.0mm)相對于引導(dǎo)孔h的直徑(例如1.5mm)具有恒定的間隙。而且，在本實施方式中，在設(shè)計上以定位銷的間距Pl小于引導(dǎo)孔h的間距p2的方式以負(fù)公差制作鼓夾具I。
[0093]在此，表示了被鍍敷處理的金屬構(gòu)件11的從頂端到排出點O的距離為L2的狀態(tài)(即與圖11的(B)的狀態(tài)相當(dāng))的鼓夾具I和金屬構(gòu)件11的關(guān)系。
[0094]在本實施方式中，也以像圖示那樣定位銷6相對于各個引導(dǎo)孔h的位置不同的狀態(tài)卡合。
[0095]例如在圖示的狀態(tài)下，在鼓夾具I的排出點O側(cè)的端部，定位銷6以與引導(dǎo)孔h4的后方B側(cè)(進(jìn)入點I側(cè))的端部抵接的方式卡合。像已述那樣，定位銷6的間距pi被設(shè)計得比引導(dǎo)孔h的間距p2小幾μπι。其是在進(jìn)入點I側(cè)的端部可靠地卡合的值。因此，越向進(jìn)入點I側(cè)靠近，越在前方F側(cè)可靠地卡合，在進(jìn)入點I側(cè)也可靠地卡合。也就是說，此時，引導(dǎo)孔h5的端部不與定位銷6抵接。
[0096]在本實施方式中，在金屬構(gòu)件11移動且被引導(dǎo)孔h4排出的同時，利用由制動單元15對鼓夾具I施加的制動,在鼓夾具I和金屬構(gòu)件11之間滑動I個間距的間距差(數(shù)μ m)的量，直到定位銷6抵接于引導(dǎo)孔h5的端部為止。也就是說，即使金屬構(gòu)件11移動，在鼓夾具I的排出點O側(cè)的端部，也始終維持定位銷6與引導(dǎo)孔h的后方B側(cè)的端部抵接的狀態(tài)。
[0097]參照以往構(gòu)造的圖11的(B)，在不對鼓夾具201施加制動的情況下，該鼓夾具201以與金屬構(gòu)件202的移動速度相等的圓周速度旋轉(zhuǎn)。在這種情況下，即使利用金屬構(gòu)件202的移動被引導(dǎo)孔h4排出，也不會在鼓夾具201和金屬構(gòu)件202之間滑動，因此引導(dǎo)孔h5和定位銷203不接觸。也就是說，隨著金屬構(gòu)件202的移動，定位銷203漸漸在引導(dǎo)孔h的前方F側(cè)(排出點O側(cè))卡合。并且，通過金屬構(gòu)件202移動，間距差累積，在進(jìn)入點I側(cè)定位銷203接觸于引導(dǎo)孔h的前方F側(cè)，金屬構(gòu)件202會自鼓夾具201分開(圖11的(D))。
[0098]在本實施方式中，制動單`元(在此未圖示)對旋轉(zhuǎn)軸2付與載荷，由此，鼓夾具I的平均的圓周速度vl為比金屬構(gòu)件11的移動速度v2低的速度。此外，制動單元對旋轉(zhuǎn)軸2付與的載荷是比相抵接的金屬構(gòu)件11和鼓夾具I向相反方向(虛線箭頭方向)移動(滑動)的力大且使金屬構(gòu)件11產(chǎn)生變形的力以下的載荷。
[0099]由此，能夠以定位銷6和引導(dǎo)孔h之間的間隙(例如0.5mm左右)內(nèi)為限度使金屬構(gòu)件11和鼓夾具I相對地向相反的方向(虛線箭頭的方向)滑動，能夠消除兩者的累積間距差。
[0100]具體地講，以往脫離了的引導(dǎo)孔h8及引導(dǎo)孔hlO也能夠可靠地與定位銷6卡合。
[0101]這樣，在縱長的金屬構(gòu)件11的鍍敷處理過程中，能夠隨時消除引導(dǎo)孔h和定位銷6的累積間距差，不會超過兩者之間的間隙。因而，能夠減小點鍍敷的鍍敷膜厚偏差。
[0102]此外，在本實施方式中，通過使定位銷6的間距pi小于引導(dǎo)孔h的間距p2，能夠在鼓夾具I的進(jìn)入點I跟前的引導(dǎo)孔h和排出點O跟前的引導(dǎo)孔h中防止卡住(變形)。
[0103]參照圖3的(A)、(C)、(D)，在自制動單元對鼓夾具I施加載荷時，在進(jìn)入點I跟前的引導(dǎo)孔hio中，定位銷6位于比引導(dǎo)孔hlO的中央靠行進(jìn)方向前方F的位置，后方B側(cè)的間隙變大(圖3的(C))。
[0104]同樣，在排出點O跟前的引導(dǎo)孔h4中，定位銷6位于引導(dǎo)孔h4的行進(jìn)方向后方B的位置，前方A側(cè)的間隙變大(圖3的(D))。
[0105]而且，在本實施方式中，能夠從金屬構(gòu)件11的頂端到后方維持該狀態(tài)。由此，能夠防止引導(dǎo)孔h在進(jìn)入點I及排出點O處卡住。
[0106]另外，制動單元15始終對鼓夾具I付與恒定的載荷，但鼓夾具I和金屬構(gòu)件11并不限定于始終滑動。
[0107]例如，參照圖3的(A)，最靠近排出點O的引導(dǎo)孔h4在其后方與定位銷接觸，在這種情況下，如下所述成為
[0108](鼓夾具I和金屬構(gòu)件11的靜止摩擦力)+(最靠近排出點O的引導(dǎo)孔h推擠定位銷6的力)> (制動單元15的載荷)
[0109]鼓夾具I和金屬構(gòu)件11以相同的速度移動，它們不滑動。
[0110]與此相反，金屬構(gòu)件11移動，自最靠近排出點O的引導(dǎo)孔h4排出定位銷6，在下一個引導(dǎo)孔h5成為最靠近排出點O的引導(dǎo)孔的瞬間(由于在該時刻h5和定位銷不接觸)，如下所述成為
[0111](鼓夾具I和金屬構(gòu)件11的靜止摩擦力)<(制動單元15的載荷)
[0112]鼓夾具I和金屬構(gòu)件11滑動,鼓夾具I減速。
[0113]而且，在定位銷6接觸于引導(dǎo)孔h5的后方的瞬間，再次成為
[0114](鼓夾具I和金屬構(gòu)件11的靜止摩擦力)+(最靠近排出點O的引導(dǎo)孔h推擠定位銷6的力)> (制動單元15的 載荷)
[0115]的關(guān)系,鼓夾具I和金屬構(gòu)件11以相同的速度移動。
[0116]也就是說，每當(dāng)鼓夾具I和金屬構(gòu)件11以相同的速度移動而自引導(dǎo)孔h排出定位銷6時，都瞬間成為鼓夾具I減速這樣的狀態(tài)，此時，滑動一周的距離是每I個間距的間距差值。
[0117]圖4是將使用本實施方式的局部鍍敷裝置10實施鍍敷處理而得到的結(jié)果與利用圖5所示的以往構(gòu)造的局部鍍敷裝置200進(jìn)行鍍敷處理而得到的結(jié)果相比較進(jìn)行表示。
[0118]圖4的(A)中，縱軸是鍍敷(Au)膜厚[μm]，橫軸是點鍍敷(150個的I；)的連續(xù)編號。實線是利用本實施方式的局部鍍敷裝置10進(jìn)行的點鍍敷的情況，虛線是利用以往構(gòu)造(圖10)的局部鍍敷裝置200進(jìn)行的點鍍敷的情況，均是以相同的電流密度進(jìn)行鍍敷處理、測定點鍍敷的中心部的鍍敷膜厚而得到的結(jié)果。
[0119]根據(jù)該圖表也可明確，在本實施方式的局部鍍敷裝置10中，與以往比較能夠明顯地減小鍍敷膜厚的偏差。
[0120]具體地講，參照圖4的(B)的比較表，可知在鍍敷膜厚的最大值和最小值的范圍(Range)內(nèi)，能夠從以往的0.21 μ m減小到0.14 μ m。此外,就標(biāo)準(zhǔn)偏差(σ )而言,與以往的0.049相比較，本實施方式為0.022，能夠大幅度減小膜厚偏差。
[0121]接著，參照圖5~圖8說明本發(fā)明的第2實施方式。第2實施方式與第I實施方式的情況相比限制了對金屬構(gòu)件11進(jìn)行鍍敷處理的區(qū)域。另外，與第I實施方式相同的結(jié)構(gòu)要件用相同的附圖標(biāo)記表示，省略其說明。
[0122]圖5是局部鍍敷裝置20的概要圖，圖5的(A)是與圖1的(A)相當(dāng)?shù)母┮晥D，圖5的(B)是表示利用鼓夾具I輸送金屬構(gòu)件11的狀態(tài)的俯視的概略圖(與圖2的(A)相當(dāng))。
[0123]參照圖5的(Α)、(Β)，像已述那樣，金屬構(gòu)件11被沿著鼓夾具I的外周部輸送。下面，將鼓夾具I的外周的與金屬構(gòu)件11接觸的一部分稱作接觸區(qū)域RC來進(jìn)行說明。
[0124]本實施方式的接觸區(qū)域RC在鼓夾具I的俯視圖(能夠俯視鼓夾具I的直徑且鼓夾具I的形狀能夠視覺識別為大致圓形的狀態(tài))中是在鼓夾具I的整個大致半圓周上與金屬構(gòu)件11接觸的區(qū)域，是從金屬構(gòu)件11的進(jìn)入側(cè)I的兩者最初的接觸點(進(jìn)入側(cè)端部)IP到在排出側(cè)O兩者不接觸(到排出側(cè)端部0P)為止的區(qū)域。在此，以遍及整個大致半圓周的接觸區(qū)域RC為例進(jìn)行說明，但也可以是比其大的(超過半圓周的)區(qū)域。此外，由于鼓夾具I及金屬構(gòu)件11伴隨著時間的經(jīng)過而移動，因此，接觸區(qū)域RC并不是鼓夾具I及金屬構(gòu)件11的特定的(固定的)的區(qū)域，而是指成為移動(旋轉(zhuǎn))著的鼓夾具I的外周中的任一部分和金屬構(gòu)件11中的任一部分互相接觸的狀態(tài)的區(qū)域。
[0125]在本實施方式中，為了便于說明，將接觸區(qū)域RC劃分為第I區(qū)域Rl和第2區(qū)域R2。第I區(qū)域Rl是指從接觸區(qū)域RC的金屬構(gòu)件11的進(jìn)入側(cè)端部IP(接觸區(qū)域RC的開始點)到向金屬構(gòu)件11的行進(jìn)方向行進(jìn)規(guī)定距離(第I圓弧rl)的位置為止的區(qū)域，第2區(qū)域R2是從第I區(qū)域Rl的端部到金屬構(gòu)件11的排出側(cè)端部OP (接觸區(qū)域RC的終止點)為止的區(qū)域。而且，局部鍍敷裝置20做成在第I區(qū)域Rl中不對金屬構(gòu)件11實施鍍敷而在第2區(qū)域R2中對金屬構(gòu)件11實施鍍敷的構(gòu)造。
[0126]具體地講，在圖5的俯視圖(俯視)中，將噴流部82的形狀設(shè)為其圓弧小于鼓夾具I (接觸區(qū)域RC)的半圓形的圓弧r的扇形形狀,對電極92的形狀也設(shè)為同樣的扇形形狀，以兩者的圓弧沿著第2區(qū)域R2的圓弧(第2圓弧r2)的方式配置。
[0127]圖6是從圖5的(A)中的SS方向的視點看到的立體圖。
[0128]噴流部82像圖6那樣從噴出口(狹縫部8S)噴出鍍敷液。在本實施方式中，將對電極92設(shè)為扇形形狀，例如 將板狀的對電極92配置在狹縫部8S的上下。由此，能夠在第I區(qū)域Rl中不對金屬構(gòu)件11實施鍍敷，而在第2區(qū)域R2之間對金屬構(gòu)件11實施鍍敷(參照圖5的(B))。
[0129]參照圖7說明限制對金屬構(gòu)件11實施鍍敷處理的區(qū)域的理由。圖7的(A)是用于說明第I實施方式的局部鍍敷裝置10的概要的、與圖2的(A)相當(dāng)?shù)母┮晥D。圖7的(B)是圖7的(A)中的虛線圓圈部分的放大圖，圖7的(C)是說明第2實施方式的局部鍍敷裝置20的概要的俯視圖。
[0130]參照圖7的(A)，像已述那樣，在引導(dǎo)孔卡合于鼓夾具I的定位銷6的同時使金屬構(gòu)件11移動。接觸區(qū)域RC的進(jìn)入側(cè)端部IP是金屬構(gòu)件11最初接觸于鼓夾具I的部分，在該位置，從金屬構(gòu)件11朝向鼓夾具I的力為O (零)。
[0131]此時，在進(jìn)入側(cè)端部IP處，有時定位銷6接觸于引導(dǎo)孔的側(cè)壁(內(nèi)壁)，有時成為利用該摩擦力使金屬構(gòu)件11自鼓夾具I的外周面稍稍懸浮起來的狀態(tài)(定位銷6和引導(dǎo)孔接觸而定位銷6不進(jìn)入到引導(dǎo)孔的里側(cè)的狀態(tài))(參照圖7的(A)虛線圓圈、圖7的(B))。
[0132]此外，在進(jìn)入側(cè)端部IP的緊跟前，在定位銷6接觸于引導(dǎo)孔的側(cè)壁(內(nèi)壁)的情況下，在從金屬構(gòu)件11朝向鼓夾具I的力相對于兩者的摩擦力小到能夠無視的程度時，也同樣存在成為金屬構(gòu)件11自鼓夾具I的外周面懸浮起來的狀態(tài)的情況。
[0133]在接觸區(qū)域RC的進(jìn)入側(cè)端部IP和排出側(cè)端部OP的中間點CP (在圖7的(A)中是最頂部)處，從金屬構(gòu)件11朝向鼓夾具I的力為最大。也就是說，從金屬構(gòu)件11朝向鼓夾具I的力在進(jìn)入側(cè)端部IP處為最小(O:零)，其隨著朝向中間點CP去而逐漸變大。[0134]因而，像上述那樣，在進(jìn)入側(cè)端部IP之后的第I區(qū)域Rl中，從金屬構(gòu)件11朝向鼓夾具I的力為定位銷6和引導(dǎo)孔之間的摩擦力以下，在成為金屬構(gòu)件11自鼓夾具I懸浮起來的狀態(tài)的情況下，存在該懸空的狀態(tài)持續(xù)的情況。另一方面，在鼓夾具I旋轉(zhuǎn)，直到到達(dá)中間點CP為止的期間里從金屬構(gòu)件11朝向鼓夾具I的力逐漸增加而超過引導(dǎo)孔和定位銷6的摩擦力的情況下，引導(dǎo)孔和定位銷6卡合，能夠消除金屬構(gòu)件11自鼓夾具I懸浮起來的狀態(tài)。
[0135]也就是說，在觀察整個接觸區(qū)域RC時，像圖7的(A)中的虛線圓圈那樣，在進(jìn)入側(cè)端部IP之后的前半部分(第I區(qū)域Rl)中，存在在金屬構(gòu)件11局部地自鼓夾具I懸浮起來的狀態(tài)下鼓夾具I旋轉(zhuǎn)的情況。在該狀態(tài)下，自噴流部8接受鍍敷液的供給而被實施鍍敷時，產(chǎn)生鍍敷膜厚的偏差，存在金屬構(gòu)件11整體的鍍敷膜厚分布不均勻的問題。
[0136]因此，像圖7的(C)那樣，在第2實施方式的局部鍍敷裝置20中，從金屬構(gòu)件11朝向鼓夾具I的力超過定位銷6與引導(dǎo)孔的摩擦力，利用成為金屬構(gòu)件11自鼓夾具I不懸浮起來的狀態(tài)的第2區(qū)域R2進(jìn)行鍍敷處理，從而能夠謀求鍍敷膜厚分布的均勻化。
[0137]在此，進(jìn)一步說明第I區(qū)域Rl及第2區(qū)域R2。
[0138]作為視覺上的定義，第I區(qū)域Rl是沿著鼓夾具I的外周形成第I圓弧rl (粗虛線)的區(qū)域，第2區(qū)域R2是沿著鼓夾具I的外周形成第2圓弧r2 (粗實線)的區(qū)域。而且，第I圓弧rl的長度小于第2圓弧r2的長度。
[0139]列舉一例子更具體地進(jìn)行說明，第I圓弧rl的長度設(shè)為整個接觸區(qū)域RC的圓弧r的4分之I (rl = r / 4)至3分之I (rl = r / 3)。第I區(qū)域Rl是從進(jìn)入側(cè)端部IP朝向金屬構(gòu)件11的行進(jìn)方向形成第I圓弧rl的區(qū)域。
[0140]而且，僅在第2區(qū)域R2中設(shè)置噴流部8及對電極(陽極)9。也就是說，分別以沿著第2區(qū)域R2的第2圓弧r2形成圓弧的方式形成為俯視圖(俯視)的扇形形狀。由此，金屬構(gòu)件11僅在接觸區(qū)域RC中的第2區(qū)域R2`中被實施鍍敷處理，能夠謀求鍍敷膜厚的均勻化。
[0141]圖8將使用圖6所示的第2實施方式的局部鍍敷裝置20實施鍍敷處理而得到的結(jié)果與使用圖1所示的第I實施方式的局部鍍敷裝置10進(jìn)行鍍敷處理而得到的結(jié)果相比較進(jìn)行表示。第I實施方式的局部鍍敷裝置10的結(jié)果與圖4所示的情況是同樣的。另外，第2實施方式的局部鍍敷裝置20以第I圓弧rl的長度為接觸區(qū)域RC整體的圓弧r的3分之I的方式形成第I區(qū)域R1，在第2區(qū)域R2中設(shè)有扇形形狀的噴流部82和對電極92。
[0142]圖8的(A)中，縱軸是鍍敷(Au)膜厚[μm]，橫軸是點鍍敷(150個的I；)的連續(xù)編號。Λ記號的標(biāo)記是利用第2實施方式的局部鍍敷裝置20進(jìn)行的點鍍敷的情況，〇記號的標(biāo)記是利用第I實施方式的局部鍍敷裝置10 (圖1)進(jìn)行的點鍍敷的情況，是測定點鍍敷的中心部的鍍敷膜厚而得到的結(jié)果。
[0143]根據(jù)該圖表也可明確，在第2實施方式的局部鍍敷裝置20中，與第I實施方式的局部鍍敷裝置10比較明顯能夠減小鍍敷膜厚的偏差。
[0144]具體地講，參照圖8的(B)的比較表，可知在鍍敷膜厚的最大值和最小值的范圍(Range)內(nèi)，能夠從第I實施方式的0.14 μπι減小到0.03 μ m。此外,就標(biāo)準(zhǔn)偏差(σ )而言，與第I實施方式的0.022相比較，第2實施方式為0.006，能夠大幅度減小膜厚偏差。
[0145]另外，就平均膜厚(Ave)的目標(biāo)值而言，相對于第I實施方式的局部鍍敷裝置10為0.5 μ m，第2實施方式的局部鍍敷裝置20為0.45 μ m。
[0146]圖9是表示本發(fā)明的第3實施方式的局部鍍敷裝置30的圖，是與圖1的(A)相當(dāng)?shù)母┮晥D。與第1、第2實施方式相同的結(jié)構(gòu)要件用相同的附圖標(biāo)記表示，省略其說明。
[0147]金屬構(gòu)件11只要在第2區(qū)域R中被實施鍍敷處理即可。即，也可以是噴流部8與第I實施方式同樣設(shè)為俯視的大致半圓形狀，僅將對電極92設(shè)為扇形形狀。在這種情況下，即使在第I區(qū)域Rl中從噴流部8供給鍍敷液，由于未配置對電極92，因此也不被實施鍍敷(虛線箭頭)，僅在第2區(qū)域R2中被實施鍍敷(實線箭頭)，因此，能夠獲得與第2實施方式同樣的效果。除此之外的結(jié)構(gòu)與第2實施方式是同樣的。
[0148]另外，存在第I區(qū)域Rl的第I圓弧rl的長度即使比上述的例子更短(例如rl =r / 5)也能夠謀求鍍敷膜厚分布的均勻化的情況。
[0149]在本實施方式的局部鍍敷裝置20中，通過將第I圓弧rl的長度為接觸區(qū)域RC整體的圓弧r的3分之I的區(qū)域設(shè)為第I區(qū)域Rl，能夠?qū)嵤┠ず穹植季鶆虻腻兎?參照圖7)。
[0150]另一方面，即使第I圓弧rl的長度是超過接觸區(qū)域RC的中間點CP的長度，第2區(qū)域R2的鍍敷膜厚分布也均勻。但是，在第I圓弧rl過長時(第2區(qū)域R2較小時)，能夠進(jìn)行鍍敷處理的范圍變小，因此生產(chǎn)率降低。因此，優(yōu)選的是第I區(qū)域Rl盡可能地小，在本實施方式中，將第I圓弧rl的長度為接觸區(qū)域RC整體的圓弧r的3分之I的區(qū)域設(shè)為第I區(qū)域R1。
[0151]這樣，本實施方式的局部鍍敷方法對沿著局部鍍敷裝置的鼓夾具I的外周部輸送的金屬構(gòu)件11實施局部鍍敷，在將鼓夾具I的外周部的一部分設(shè)為與金屬構(gòu)件11接觸的接觸區(qū)域RC的情況下，在接觸區(qū)域RC的距金屬構(gòu)件11的進(jìn)入側(cè)端部IP規(guī)定距離的第I區(qū)域Rl的范圍內(nèi)，不對金屬構(gòu)件11實施鍍敷，在從第I區(qū)域Rl的端部到金屬構(gòu)件11的排出側(cè)端部OP的第2區(qū)域R2的范圍內(nèi)對金屬構(gòu)件11實施鍍敷。
[0152]像上述那樣，膜厚分布偏差特別是在接觸區(qū)域RC的進(jìn)入側(cè)端部IP之后的前半部分(第I區(qū)域Rl)易于產(chǎn)生，這一點在以往構(gòu)造中也是同樣的。也就是說，即使是例如像上述實施方式的局部鍍敷裝置10~30那樣不具有制動單元15的局部鍍敷裝置，也存在膜厚分布在接觸區(qū)域RC的前半部分變差的傾向。
[0153]但是，采用本實施方式的局部鍍敷方法，由于在膜厚分布變差的鼓夾具I的前半部分(第I區(qū)域Rl)不對金屬構(gòu)件11實施鍍敷，僅在第2部分R2中實施鍍敷，因此，與在整個接觸區(qū)域RC中實施鍍敷的鍍敷方法相比較，能夠減小鍍敷膜厚分布的偏差。
[0154]附圖標(biāo)記說明
[0155]1、鼓夾具；2、旋轉(zhuǎn)軸；3、開口部；4、支承輥；5、帶；6、定位銷；8、82、噴流部；9、92、對電極(陽極)；10、20 、30、40、50、局部鍍敷裝置；11、金屬構(gòu)件(被鍍敷材料)；15、制動單元；h、hi~hlO、引導(dǎo)孔；RC、接觸區(qū)域；R1、第I區(qū)域；R2、第2區(qū)域；rl、第I圓??；r2、第2圓弧。
【權(quán)利要求】
1.一種局部鍍敷裝置，其中， 該局部鍍敷裝置包括: 鼓夾具，其在外周部配置有多個定位銷，金屬構(gòu)件卡合于上述定位銷而沿著上述外周部被輸送； 旋轉(zhuǎn)軸，其將該鼓夾具支承成能夠旋轉(zhuǎn)； 噴流部，其用于向上述金屬構(gòu)件供給鍍敷液；以及 制動單元，其安裝在上述旋轉(zhuǎn)軸上，用于使上述鼓夾具的圓周速度減速。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述制動單元對上述旋轉(zhuǎn)軸付與載荷，使得上述圓周速度相對于上述金屬構(gòu)件的移動速度減速。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述載荷是比相抵接的金屬構(gòu)件和鼓夾具向相反的方向移動的力大且使上述金屬構(gòu)件產(chǎn)生變形的力以下的載荷。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述制動單元利用空氣壓力對上述旋轉(zhuǎn)軸付與載荷。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中 任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述定位銷的間距小于供該定位銷卡合且在上述金屬構(gòu)件中設(shè)有多個的引導(dǎo)孔的間距。
6.根據(jù)權(quán)利要求1~5中任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述鼓夾具的上述外周部的一部分是與上述金屬構(gòu)件接觸的接觸區(qū)域，在該接觸區(qū)域的距上述金屬構(gòu)件的進(jìn)入側(cè)端部規(guī)定距離的第I區(qū)域的范圍內(nèi)不對上述金屬構(gòu)件實施鍍敷，在從該第I區(qū)域的端部到上述金屬構(gòu)件的排出側(cè)端部的第2區(qū)域的范圍內(nèi)對上述金屬構(gòu)件實施鍍敷。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述第I區(qū)域是沿著上述鼓夾具的外周形成第I圓弧的區(qū)域，上述第2區(qū)域是沿著上述鼓夾具的外周形成第2圓弧的區(qū)域，上述第I圓弧的長度小于上述第2圓弧的長度。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述第I區(qū)域是上述金屬構(gòu)件朝向上述鼓夾具方向的力為上述定位銷和上述引導(dǎo)孔之間的摩擦力以下的區(qū)域。
9.根據(jù)權(quán)利要求6~8中任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述第I區(qū)域是整個上述接觸區(qū)域的4分之I至3分之I的區(qū)域。
10.根據(jù)權(quán)利要求6~9中任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 僅在上述第2區(qū)域中設(shè)置對電極。
11.根據(jù)權(quán)利要求6~10中任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述噴流部僅向上述第2區(qū)域噴出上述鍍敷液。
12.—種局部鍍敷方法，其是對沿著局部鍍敷裝置的鼓夾具的外周部輸送的金屬構(gòu)件實施局部鍍敷的方法，其特征在于， 上述外周部的一部分是與上述金屬構(gòu)件接觸的接觸區(qū)域，在該接觸區(qū)域的距上述金屬構(gòu)件的進(jìn)入側(cè)端部規(guī)定距離的第I區(qū)域的范圍內(nèi)，不對上述金屬構(gòu)件實施鍍敷，在從該第I區(qū)域的端部到上述金屬構(gòu)件的排出側(cè)端部的第2區(qū)域的范圍內(nèi)對上述金屬構(gòu)件實施鍍敷。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的局部鍍敷方法，其特征在于，上述第I區(qū)域是沿著上述鼓夾具的外周形成第I圓弧的區(qū)域，上述第2區(qū)域分別是沿著上述鼓夾具的外周形成第2圓弧的區(qū)域，上述第I圓弧的長度小于上述第2圓弧的長度。
14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的局部鍍敷方法，其特征在于， 上述第I區(qū)域是上述金屬構(gòu)件朝向上述鼓夾具方向的力為上述定位銷和上述引導(dǎo)孔之間的摩擦力以下的區(qū)域。
15.根據(jù)權(quán)利要求12~14中任一項所述的局部鍍敷方法，其特征在于， 上述第I區(qū)域是 整個上述接觸區(qū)域的4分之I至3分之I的區(qū)域。
【文檔編號】C25D5/02GK103890239SQ201280051340
【公開日】2014年6月25日 申請日期:2012年10月18日 優(yōu)先權(quán)日:2011年10月19日
【發(fā)明者】荒井健太郎, 宮澤寬 申請人:同和金屬技術(shù)有限公司