專利名稱：復合型鍍鉻添加劑的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及鍍鉻技術領域，尤其涉及的是一種復合型鍍鉻添加劑。
背景技術：
鍍鉻 工藝中，第一催化劑為氟離子或氟硅酸等，電流效率高，鍍層細致光亮，但對陽極和鍍層基體都有腐蝕，這樣溶液中雜質積累速度快，工藝難以控制，鍍槽容易老化報廢。改以鏈烷基磺酸或其鹽，最早被米蘭的Politecnico適用于鍍鉻工藝上，鍍層光亮，結晶細致，但腐蝕陽極和光亮范圍窄，深度能力欠佳，霍爾槽試片9cm，尤其使用鏈烷磺酸鹽，鍍層防腐能力下降。中國專利CN89105414.6、CN87102034公開的稀土添加劑，都是低溫低濃度鍍鉻工藝，但應用到標準電鍍液中，很難控制工藝參數。以碘等鹵素為添加劑，電流效率提高，因為碘釋放劑對鍍層基體有活化作用，但高電流區(qū)鍍層結合力差，外觀暗灰，呈半光亮，光亮范圍窄。以羧酸和碘綜合利用為添加劑，又存在鍍層脆，易崩裂的問題。

發(fā)明內容
本發(fā)明針對現(xiàn)有技術的不足，提供一種復合型鍍鉻添加劑。為了實現(xiàn)本發(fā)明目的，本發(fā)明提供一種復合型鍍鉻添加劑，包括有機物和無機物， 所述有機物采用:烷鏈磺酸和/或烷鏈二磺酸，用量為1-20份；或
含氮有機化合物，用量為0.01-0.1份；
所述無機物采用:輕型稀土氟化物，用量為0.001-0.01份，和/或 VA族元素氧化物、氫氧化物或硫酸鹽中之一，用量為0.01-0.1份。其中，所述份為重量份，比如本領域技術人員熟知的重量計量單位:克、公斤、兩等等。所述烷鏈磺酸和/或烷鏈二磺酸為甲基磺酸、氨烷磺酸、二甲基磺酸、氨基磺酸、吡啶磺酸中的一種或多種。其用量為1-20份，優(yōu)選為2-6份。如果小于2份，效果不明顯；大于6份，鍍層晶核晶體生長過快，晶體堆積過快使鍍層粗糙。所述烷鏈磺酸和/或烷鏈二磺酸的作用:提高陰極極化來提高電流效率，使鉻金屬單質晶核沉積在陰極表面速度加快，這樣電鍍效率升高，結晶細致致密，鍍層光亮度高，耐蝕性強，質量穩(wěn)定。本發(fā)明不使用有機烷鏈磺酸或烷鏈二磺酸或甲烷磺酸或氨烷磺酸或二甲基磺酸或氨基磺酸或吡啶磺酸或甲酸的鈉鹽和鉀鹽，雖然以上物質的酸類和鹽類都可以提高電鍍過程中陰極極化反應，但鈉離子或鉀離子在電鍍溶液中積累到一定程度，就會直接影響鍍層的致密度，從而影響電鍍工件使用的耐蝕性等性能。所述含氮有機化合物為氨基酸、異煙酸、苯三唑、三氮唑，甘氨酸、吡啶中的一種或多種。其優(yōu)選用量為0.05-0.08份。含量低，則與烷鏈磺酸和/或烷鏈二磺酸的協(xié)同作用不明顯，抑制陽極腐蝕效果不佳；含量高，鍍層外觀暗灰。
所述含氮有機化合物在一定程度也提高陰極的電流效率，并降低電鍍溶液的界面張力；除此之外，還和烷鏈磺酸和/或烷鏈二磺酸進行配合，更有效抑制溶液強酸強氧化體系中對陽極的侵蝕。所述輕型稀土氟化物為鑭、鈰、鐠或釹的氟化物，優(yōu)選為氟化鑭，氟化鈰，氟化釹等。其用量優(yōu)選為0.001-0.005份，如果含量控制得太高，鍍層脆性會大。

本發(fā)明使用一定含量的氟離子，一方面提高陰極極化，另一方面也提高鍍液對工件表面的活化能力，這樣提高鍍層和陰極上需要電鍍基體的結合力。而使用輕型稀土，在鍍鉻工藝上，稀土具有的整平能力特性。電鍍電解過程中稀土能在陰極上組成一個陽離子層，當六價鉻向陰極移動并到達陰極表面時，需要克服稀土離子正點場的作用力，和稀土離子層的機械阻力。電流密度越大的地方阻力越大，電流密度越小的地方阻力越小，這樣需要電鍍的工件基體表面形狀復雜情況下，電流密度大的區(qū)域鍍層沉積速度相對減慢，電流密度小的區(qū)域鍍層沉積速度相對加快，所以本發(fā)明充分利用稀土金屬做為鍍鉻的整平性。所述VA族元素為砷、碲或鉍，所述VA族元素氧化物、氫氧化物或硫酸鹽優(yōu)選為氧化砷、氧化鉍、氧化碲或硫酸砷等。其優(yōu)選用量為0.01-0.05份，含量小，導致抑制陽極腐蝕效果不佳。優(yōu)選采用其與含氮有機化合物相互配伍，有效地抑制溶液強酸強氧化體系中對陽極的侵蝕。本發(fā)明復合型鍍鉻添加劑的制備方法簡單，將各成分按配比進行混合而成。本發(fā)明復合型鍍鉻添加劑加入到鍍鉻鍍液中，濃度一般可控制在l_20g/鍍鉻鍍液，優(yōu)選為1-6 g/L鍍鉻鍍液。本發(fā)明復合型鍍鉻添加劑在標準鍍鉻溶液中的用量為，對于有機物:烷鏈磺酸和/或燒鏈二磺酸用量為l_20g/L標準鍍鉻鍍液,優(yōu)選為2-6 g/L標準鍍鉻鍍液；或含氮有機化合物用量為0.01-0.lg/L標準鍍鉻鍍液，優(yōu)選為0.05-0.08 g/L標準鍍鉻鍍液；對于無機物:輕型稀土氟化物用量為0.001-0.01 g/L標準鍍鉻鍍液，優(yōu)選為0.001-0.005 g/L標準鍍鉻鍍液，和/或VA族元素氧化物或氫氧化物或硫酸鹽的用量為0.01-0.lg/L標準鍍鉻鍍液，優(yōu)選為0.01-0.05 g/L標準鍍鉻鍍液。所述標準鍍鉻鍍液中含有150-400克/升鉻酐和1.5-4克/升的硫酸，工作溫度30-75°C，電流密度 15-100A/dm2。優(yōu)選的是，所述標準鍍鉻鍍液中含有250克/升鉻酐和2.3-2.7克/升的硫酸，工作溫度50-70°C，電流密度15-100A/dm2。優(yōu)選的是，所述標準鍍鉻鍍液中含有300克/升鉻酐和3克/升的硫酸，工作溫度40-60。。。 本發(fā)明復合型鍍鉻添加劑，烷鏈磺酸和烷鏈二磺酸一種或兩種，提高電流效率，鍍層沉積結晶細致，光亮度好。無機輕型稀土氟化物，提高電流效率，鍍層沉積結晶細致，對低電流區(qū)有活化作用，對基體表面氧化層有活化作用，從而提高均鍍能力和深度能力。使用VA族元素氧化物，抑制陽極腐蝕，提高電極極化電流，復配前兩種，工件和陽極表面不會造成腐蝕和鈍化。將本發(fā)明復合型鍍鉻添加劑加于標準鍍鉻溶液中，不僅電流效率高，鍍層光亮度好，工藝光亮范圍寬，深鍍能力好，而且鍍層硬度高，電流效率高，陽極無腐蝕，工藝光亮范圍寬，深鍍能力好，操作工藝簡單，成本低。


圖1為不含本發(fā)明實施例1所述復合型鍍鉻添加劑的鍍鉻鍍液的90°角實驗效果簡 圖2為含本發(fā)明實施例1所述復合型鍍鉻添加劑的鍍鉻鍍液的90°角實驗效果簡圖； 圖3為不含本發(fā)明實施例1所述復合型鍍鉻添加劑的鍍鉻鍍液的30°角實驗效果簡
圖4為含本發(fā)明實施例1所述復合型鍍鉻添加劑的鍍鉻鍍液的30°角實驗效果簡圖。
具體實施例方式下面用實施例進一步描述本發(fā)明，有利于對本發(fā)明及其優(yōu)點、效果更好的了解，但所述實施例僅用于說明本發(fā)明而不是限制本發(fā)明。表征本發(fā)明復合型鍍鉻添加劑的性能參數如下: 1.光亮度:復合型鍍鉻添加劑可提高鍍層表面光潔度，鍍層結晶的越細致和生長的速度越快，光亮度越好。使用目測法:
一級(鏡面光亮)能清晰見到五官和眉毛。二級(光亮)能清晰見到五官，但眉毛發(fā)糊。三級(半光亮)稍微有亮度，只能看見五官輪廓。四級(無光亮)基本無光澤，僅僅看見五官輪廓。2.硬度:復合型鍍鉻添加劑可增強鍍層硬度，鍍層硬度決定使用時的耐磨度。 使用顯微硬度計測得維氏硬度。3.沉積厚度:復合型鍍鉻添加劑可提高電流效率，鍍層沉積速度快，節(jié)省生產成本。采用陽極溶解庫侖法的電解測厚儀。4.深鍍能力:復合型鍍鉻添加劑可提高鍍液深鍍能力和分散能力。米用試片角度實驗:霍爾槽試片IOOmmX50mmm,中間彎折成90°和30°角實驗，
5.陽極損耗:陽極損耗決定復合型鍍鉻添加劑質量好差，陽極損耗程度直接影響生產成本。采用稱量陽極鍍前和鍍后重量，計算差數。實施例1
按如下重量配制復合型鍍鉻添加劑:
甲基二磺酸:4克 甲基磺酸: I克 氨基磺酸: I克 氟化鑭: 0.06克 氧化砷: 0.1克
將上述各成分進行混合，得本實施例復合型鍍鉻添加劑。鍍鉻鍍液中含有150克/升鉻酐和1.5克/升的硫酸，上述復合型鍍鉻添加劑加入量為3克/升鍍鉻鍍液，工作工藝范圍:溫度30°C，電流密度15A/dm2，S陽極:S陰極3
2: I (陰、陽極面積比)，時間I小時。經試驗，結果可見:整個試片鍍層光亮細致，光潔度呈現(xiàn)鏡面光亮度，鍍層硬度高，維氏硬度900HV。角度實驗中90°和30°角的試片均有鍍層，如圖2、4所示，厚度31 μ m。電流效率25%，，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:34.44克，陽極重量損耗:0.12克。而僅采用上述鍍鉻鍍液(鍍鉻鍍液中含有150克/升鉻酐和1.5克/升的硫酸，工作工藝范圍:溫度30°C，電流密度15A/dm2，Sp0ft:Srae^ 2: 1，電鍍時間為I小時的傳統(tǒng)鍍液)，光潔度差，呈現(xiàn)半光亮，硬度650HV，直角試驗中90°離中間角線15mm沒有鍍層，30°角試片角線處20mm沒有鍍層，如圖1、3所示；厚度6 μ m，電流效率12%，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:34.22克，陽極重量損耗:0.34克。實施例2
按如下重量配制復合型鍍鉻添加劑:
燒基橫酸:4克 甘氨酸: 0.08克 三氮唑: 0.01克 氟化鈰: 0.04克 氧化秘: 0.05克
將上述各成分進行混合，得本實施例復合型鍍鉻添加劑。鍍鉻鍍液，鍍鉻溶液中含有300克/升鉻酐和3.2克/升的硫酸，上述復合型鍍鉻添加劑4.18克/升鍍鉻鍍液，工作工藝范圍:溫度68°C，電流密度50A/dm2，電鍍時間I小時。經試驗，結果可見:整個試片鍍層光亮細致，光潔度呈現(xiàn)鏡面光亮度，鍍層硬度高，維氏硬度1110HV。角度實驗中90°和30°角的試片均有鍍層，厚度55 μ m。電流效率30%，，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:34.39克，陽極重量損耗:0.17克。而僅采用上述鍍鉻鍍液，光潔度差，呈現(xiàn)半光亮，硬度790HV，直角試驗中90°中間有5mm沒有鍍層，30°角的試片中間交匯處有IOmm沒有鍍層；厚度27 μ m,電流效率15%，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:34.17克，陽極重量損耗:0.39克。比較例I
采用普通傳統(tǒng)標準液電鍍鍍鉻，標準鍍鉻溶液:鉻酐(CrO3) 250g/L，硫酸(H2SO4) 2.6g/L，不加添加劑，電流密度30A/dm2，溫度55°C，時間Ih。鍍后檢測，光潔度差，呈現(xiàn)半光亮，硬度710HV，直角實驗有單側Icm不上鍍層，厚度15 μ m，電流效率14%，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:34.32克，陽極重量損耗:
0.24 克。結論:鍍層光亮度一般，陽極損耗小，電流效率低。比較例2 有機物添加劑 有機物添加劑組分為:
甲基磺酸: 3.3克 甲基二磺酸:2.5克。鍍鉻鍍液:鉻酐(CrO3) 250g/L，硫酸(H2SO4) 2.6g/L，添加劑5.8克/升鍍鉻鍍液，電流密度30A/dm2，溫度55°C，時間Ih。鍍后檢測，光潔度呈現(xiàn)鏡面光亮，硬度950HV，角度實驗中90°角全部有鍍層，30°角的試片離角線5mm處沒有鍍層，厚度27 μ m,電流效率28%，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:30.16克，陽極重量損耗:4.4克。結論:鍍層光亮度好，陽極損耗嚴重。實施例3
按如下重量配制復合型鍍鉻添加劑:
甲基磺酸: 5.8克 氟化鑭0.006克
鍍鉻鍍液:鉻酐(Cr03)250g/L，硫酸(H2S04)2.6g/L，上述復合型鍍鉻添加劑5.5克/升鍍鉻鍍液，電流密度30A/dm2，溫度58°C，時間Ih。鍍后檢測，光潔度呈現(xiàn)鏡面光亮，硬度1280HV，角度實驗中90°和30°角的試片均有鍍層，厚度33 μ m,電流效率31%，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:29.85克，陽極重量損耗:4.71克。實施例4
按如下重量配制復合型鍍鉻添加劑:
甲基二磺酸:6克 氧化秘0.05克
氟化鑭0.006克
鍍鉻鍍液:鉻酐(Cr03)250g/L，硫酸(H2S04)2.6g/L，上述復合型鍍鉻添加劑5.2克/升鍍鉻鍍液，電流密度30A/dm2，溫度58°C，時間Ih。鍍后檢測，光潔度呈現(xiàn)鏡面光亮，硬度960HV，角度實驗中90°和30°角的試片均有鍍層，厚度31 μ m，電流效率30%，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:31.31克，陽極重量損耗:3.25克。實施例5
按如下重量配制復合型鍍鉻添加劑:
甲基磺酸: 2.2克 甲基二磺酸:3.5克 吡啶磺酸0.06克
氟化鈰0.006克
鍍鉻鍍液:鉻酐(Cr03)250g/L，硫酸(H2S04)2.6g/L，上述復合型鍍鉻添加劑5.3克/升鍍鉻鍍液，電流密度30A/dm2，溫度58°C，時間Ih。鍍后檢測，光潔度呈現(xiàn)鏡面光亮，硬度950HV，角度實驗中90°和30°角的試片均有鍍層，厚度30 μ m,電流效率30%，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:31.46克，陽極重量損耗:3.1克。對比例3
按如下重量配制復合型鍍鉻添加劑:
甲基二磺酸:5.8克 吡啶磺酸 0.03克氧化秘1.1克
鍍鉻鍍液:鉻酐(Cr03)250g/L，硫酸(H2S04)2.6g/L，上述復合型鍍鉻添加劑5.5克/升鍍鉻鍍液，電流密度30A/dm2，溫度55°C，時間lh。鍍后檢測，光潔度差，呈現(xiàn)半光亮，硬度800HV，角度實驗中90°和30°角的試片均有鍍層，厚度25 μ m,電流效率23%，高電流密度區(qū)有輕微燒焦，燒焦為灰色鍍層，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:34.41克，陽極重量損耗:0.15克。結論:陽極損耗輕，鍍層不好。對比例4
按如下重量配制復合型鍍鉻添加劑:
甲基磺酸: 5.8克 異煙酸0.1克
氧化秘0.02克
鍍鉻鍍液:鉻酐(Cr03)250g/L，硫酸(H2S04)2.6g/L，上述復合型鍍鉻添加劑5.5克/升鍍鉻鍍液，電流密度30A/dm2，溫度55°C，時間lh。鍍后檢測，光潔度差，呈現(xiàn)半光亮，硬度840HV，角度實驗中90°和30°角的試片均有鍍層，厚度23 μ m,電流效率22 %，高電流密度區(qū)有輕微燒焦，燒焦為灰色鍍層，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:34.46克，陽極重量損耗:0.1克。結論:陽極損耗輕，鍍層不好。實施例6
按如下重量配制復合型鍍鉻添加劑:
甲基橫酸: 4克 氨基磺酸: 0.1克 氟化鑭: 0.008克 氧化砷: 0.1克
鍍鉻鍍液:鉻酐(Cr03)250g/L，硫酸(H2S04)2.6g/L，上述復合型鍍鉻添加劑5.5克/升鍍鉻鍍液，電流密度30A/dm2，溫度60°C，時間Ih。鍍后檢測，整個試片光潔度呈現(xiàn)鏡面光亮度，硬度1020HV，角度實驗中90°和30°角的試片均有鍍層，厚度33 μ m，電流效率32%，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:34.48克，陽極重量損耗:0.08克。結論:陽極損耗輕，鍍層好，速度快，硬度高。實施例7
按如下重量配制復合型鍍鉻添加劑:
甲基二磺酸:6克 甘氨酸: 0.06克 三氮唑: 0.02克 氟化鈰: 0.006克 氧化秘: 0.05克
鍍鉻鍍液:鉻酐(Cr03)250g/L，硫酸(H2S04)2.6g/L，上述復合型鍍鉻添加劑5.2克/升鍍鉻鍍液，電流密度30A/dm2，溫度60°C，時間Ih。
鍍后檢測，整個試片光潔度呈現(xiàn)鏡面光亮度，硬度1280HV，角度實驗中90°和30°角的試片均有鍍層，厚度32 μ m，電流效率31%，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:34.5克，陽極重量損耗:0.06克。結論:陽極損耗輕，鍍層好，速度快，硬度高。實施例8
按如下重量配制復合型鍍鉻添加劑:
甲基磺酸: 2.2克 三氮唑: 0.1克 氟化釹: 0.009克 氧化砷: 0.06克
鍍鉻鍍液:鉻酐(Cr03)250g/L，硫酸(H2S04)2.6g/L，上述復合型鍍鉻添加劑5.8克/升鍍鉻鍍液，電流密度30A/dm2，溫度60°C，時間Ih。鍍后檢測，整個試片光潔度呈現(xiàn)鏡面光亮度，硬度890HV，角度實驗中90°和30°角的試片均有鍍層，厚度29 μ m,電流效率29%，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:
34.5克，陽極重量損耗:0.06克。實施例9
按如下重量配制復合型鍍鉻添加劑:
甲基磺酸: 1.5克 氨基磺酸: 0.09克 氨基酸0.01
氟化釹: 0.009克 氧化砷: 0.06克
鍍鉻鍍液:鉻酐(Cr03)250g/L，硫酸(H2S04)2.6g/L，上述復合型鍍鉻添加劑5克/升鍍鉻溶液，電流密度30A/dm2，溫度60°C，時間Ih。鍍后檢測，試片光潔度呈現(xiàn)鏡面光亮度，但鏡面光亮度的電流密度范圍變窄，硬度800HV，角度實驗中，90°全有光亮鍍層，30°角的試片內角5mm處為白色鍍層，厚度19 μ m，電流效率18%，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:34.51克，陽極重量損耗:0.04克。實施例10
按如下重量配制復合型鍍鉻添加劑:
甲基二磺酸: 9.8克 吡啶0.009克
氟化釹: 0.008克 氧化秘: 0.09克
鍍鉻鍍液:鉻酐(Cr03)250g/L，硫酸(H2S04)2.6g/L，上述復合型鍍鉻添加劑5.2克/升鍍鉻鍍液，電流密度30A/dm2，溫度60°C，時間Ih。鍍后檢測，試片光潔度呈現(xiàn)鏡面光亮度，高電流密度區(qū)存在節(jié)瘤，節(jié)瘤結合力差，硬度1120HV，角度實驗中，90°和30°角均有光亮鍍層，試片邊處，也就是高電流處，存在少量毛刺，厚度33 μ m,電流效率34%，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:34.51克，陽極重量損耗:0.05克。
實施例11
按如下重量配制復合型鍍鉻添加劑:
甲基磺酸: 20克 氨基磺酸0.001克
苯丙三氮唑 0.005克 氟化鑭: 0.001克 氧化秘: 0.06克
鍍鉻鍍液:鉻酐(Cr03)250g/L，硫酸(H2S04)2.6g/L，上述復合型鍍鉻添加劑5.3克/升鍍鉻鍍液，電流密度30A/dm2，溫度60°C，時間Ih。鍍后檢測，試片光潔度呈現(xiàn)鏡面光亮度，高電流密度區(qū)存在節(jié)瘤，節(jié)瘤結合力差，硬度1120HV，角度實驗中， 90°和30°角均有光亮鍍層，試片邊處，也就是高電流處，存在少量毛刺，厚度35 μ m,電流效率36%，陽極重量鍍前:34.56克，陽極重量鍍后:34.54克，陽極重量損耗:0.02克。以上所述，僅為本發(fā)明的較佳實施例，并非對本發(fā)明任何形式上和實質上的限制，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員，在不脫離本發(fā)明方法的前提下，還將可以做出若干改進和補充，這些改進和補充也應視為本發(fā)明的保護范圍。凡熟悉本專業(yè)的技術人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，當可利用以上所揭示的技術內容而做出的些許更動、修飾與演變的等同變化，均為本發(fā)明的等效實施例；同時，凡依據本發(fā)明的實質技術對上述實施例所作的任何等同變化的更動、修飾與演變，均仍屬于本發(fā)明的技術方案的范圍內。
權利要求
1.一種復合型鍍鉻添加劑，其特征在于，包括有機物和無機物， 所述有機物采用:烷鏈磺酸和/或烷鏈二磺酸，用量為1-20份；或 含氮有機化合物，用量為0.01-0.1份； 所述無機物采用:輕型稀土氟化物，用量為0.001-0.01份，和/或 VA族元素氧化物、氫氧化物或硫酸鹽中之一，用量為0.01-0.1份。
2.根據權利要求1所述復合型鍍鉻添加劑，其特征在于，所述烷鏈磺酸和/或烷鏈二磺酸為甲基磺酸、氨烷磺酸、二甲基磺酸、氨基磺酸、吡啶磺酸中的一種或多種。
3.根據權利要求1或2所述復合型鍍鉻添加劑，其特征在于，所述烷鏈磺酸和/或烷鏈二磺酸的用量為2-6份。
4.根據權利要求1所述復合型鍍鉻添加劑，其特征在于，所述含氮有機化合物為氨基酸、異煙酸、苯三唑、三氮唑，甘氨酸、吡啶中的一種或多種。
5.根據權利要求1或4所述復合型鍍鉻添加劑，其特征在于，所述含氮有機化合物用量為 0.05-0.08 份。
6.根據權利要求1所述復合型鍍鉻添加劑，其特征在于，所述輕型稀土氟化物為鑭、鈰、鐠或釹的氟化物，優(yōu)選為氟化鑭，氟化鈰，氟化釹。
7.根據權利要求1或6所述復合型鍍鉻添加劑，其特征在于，所述輕型稀土氟化物用量為 0.001-0.005 份。
8.根據權利要求1所述復合型鍍鉻添加劑，其特征在于，所述VA族元素為砷、碲或鉍，所述VA族元素氧化物、氫氧化物或硫酸鹽優(yōu)選為氧化砷、氧化鉍、氧化碲或硫酸砷。
9.根據權利要求1或8所述復合型鍍鉻添加劑，其特征在于，所述VA族元素氧化物、氫氧化物或硫酸鹽用量為0.01-0.05份。
10.一種復合型鍍鉻添加劑，其特征在于，包括有機物和無機物，所述有機物采用:烷鏈磺酸和/或烷鏈二磺酸，用量為l-20g/L標準鍍鉻鍍液；或含氮有機化合物0.01-0.1g/L ； 無機物采用:輕型稀土氟化物，輕型稀土氟化物用量為0.001-0.01 g/L標準鍍鉻鍍液，和/或VA族元素氧化物、氫氧化物、硫酸鹽之一，VA族元素氧化物或氫氧化物或硫酸鹽的用量為0.01-0.1 g/L標準鍍鉻鍍液。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種復合型鍍鉻添加劑，包括有機物和無機物，所述有機物采用烷鏈磺酸和/或烷鏈二磺酸，用量為1-20g/L標準鍍鉻液；或含氮有機化合物0.01-0.1g/L；無機物采用輕型稀土氟化物，輕型稀土氟化物用量為0.001-0.01g/L標準鍍鉻液，和/或VA族元素氧化物、氫氧化物、硫酸鹽之一，VA族元素氧化物或氫氧化物或硫酸鹽的用量為0.01-0.1g/L標準鍍鉻液。將所述有機物和無機物加于標準鍍鉻溶液中，不僅電流效率高，鍍層光亮度好，工藝光亮范圍寬，深鍍能力好，而且鍍層硬度高，電流效率高，陽極無腐蝕，工藝光亮范圍寬，深鍍能力好，操作工藝簡單，成本低。
文檔編號C25D3/10GK103215621SQ201310046888
公開日2013年7月24日 申請日期2013年2月6日 優(yōu)先權日2012年2月6日
發(fā)明者閆瑞景, 趙鑫, 閆景芳, 賈雅博, 梁鎮(zhèn)海, 范慧陽 申請人:閆瑞景