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      一種含鐵金屬復(fù)合層的電路板的制作方法

      文檔序號:5281604閱讀:243來源:國知局
      一種含鐵金屬復(fù)合層的電路板的制作方法
      【專利摘要】本發(fā)明涉及一種含鐵金屬復(fù)合層的電路板。目的在于采用其他金屬與金配合,輔以極少量的添加劑解決鍍膜時金析出比例過高的問題,同時還能保有較好的導(dǎo)電性,使產(chǎn)品質(zhì)量符合要求。包括基板及鍍層,所述鍍層位于電接觸位置,所述電接觸位置被置與電鍍?nèi)芤褐性谌跛嵝原h(huán)境下電鍍,所述電鍍?nèi)芤喊ㄇ杷岣x子、金離子、螯合劑、鐵離子鹽及硼酸根離子。溶液中鐵含量為1~5g/L,硼酸根含量10~30g/L,螯合劑含量為50~100g/L,金離子的含量為鐵離子含量重量比的30%~60%。所述溶液組分包括氰酸金、EDTA-Fe、檸檬酸鐵或硫酸鐵、硼酸鐵及EDTA、硼酸。溶液中還含有有機酸,用于將pH值調(diào)制6~7之間的弱酸性。
      【專利說明】—種含鐵金屬復(fù)合層的電路板
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及一種電路板。
      【背景技術(shù)】
      [0002]在電子產(chǎn)品的制造領(lǐng)域,連接器的電接觸材料合成時,廣泛使用各種硬質(zhì)金屬。硬質(zhì)金屬電鍍液,例如金或鈷、鎳等金屬與金的合金形成的鍍膜。用金的合金電鍍的鍍膜在導(dǎo)電性、耐腐蝕性、耐磨性方面較為良好。但是,用金作為鍍膜材料存在如下問題,金在電鍍時相對比較容易析出,而且導(dǎo)電性能良好,這也是其被廣泛采用的原因,而在電鍍完成后,導(dǎo)線在焊接時,焊點附近的金上容易出現(xiàn)形成金屬氧化物膜導(dǎo)致無法很好的進行潤濕,而且,雖然金從電極電位上來說相對容易析出,有利于焊接工藝,但是作為貴金屬的角度來說,析出過多的金反而會導(dǎo)致生產(chǎn)成本過高。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]本發(fā)明的目的在于采用其他金屬與金配合,輔以極少量的添加劑解決鍍膜時金析出比例過高的問題,同時還能保有較好的導(dǎo)電性,使產(chǎn)品質(zhì)量符合要求。
      [0004]本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
      一種含鐵金屬復(fù)合層的電路板,包括基板及鍍層,所述鍍層位于電接觸位置,所述電接觸位置被置與電鍍?nèi)芤褐性谌跛嵝原h(huán)境下電鍍,所述電鍍?nèi)芤喊ㄇ杷岣x子、金離子、螯合劑、鐵離子鹽及硼酸根離子。
      [0005]進一步地,溶液中鐵含量為I~5g/L,硼酸根含量10~30g/L,螯合劑含量為50~100g/L,金尚子的含量為鐵尚子含量重量比的30%~60%。
      `[0006]進一步地,所述溶液組分包括氰酸金、EDTA-Fe、檸檬酸鐵或硫酸鐵、硼酸鐵及EDTA、硼酸。
      [0007]進一步地,溶液中還含有有機酸,用于將pH值調(diào)制6~7之間的弱酸性。
      [0008]進一步地,所述有機酸為檸檬酸。
      [0009]本發(fā)明的有益效果于【具體實施方式】部分隨實驗數(shù)據(jù)一并詳述。
      【具體實施方式】
      [0010]下面結(jié)合【具體實施方式】對本發(fā)明進行進一步闡述。
      實施例
      [0011]電鍍液中含有氰酸根離子、金離子、螯合劑、鐵或銅離子鹽及硼酸根離子,其中溶液中鐵(或銅)含量為I~5g/L,硼酸根含量10~30g/L,螯合劑含量為50~100g/L,金離子的含量為鐵(或銅)尚子含量重量比的30%~60%。
      [0012]其中配制該電鍍?nèi)芤哼x用氰酸金、EDTA-Fe、檸檬酸鐵或硫酸鐵、硼酸鐵及EDTA、檸檬酸及硼酸。[0013]溶液pH值控制在6~7之間的弱酸性。
      [0014]比較例
      采用金/鎳合金鍍膜,摩爾比Au:N1:Co=2:l:l,電鍍液為氰酸金(金離子含量3g/L)和硫酸鎳、硫酸鈷的混合電鍍?nèi)芤骸y得其混合合金膜層中實際含量摩爾比Au:N1:Co為1:0.3:0.25,其25°C常溫電導(dǎo)率為57。
      [0015]上述各例均在在pH=4,50°C的酸性環(huán)境下電鍍而成,鍍膜厚度控制在0.2微米(上下誤差20%以內(nèi))。
      [0016]下表中,前四列為電鍍?nèi)芤褐须x子含量,第五列為分析得出的實際鍍膜膜層合金中金屬含量摩爾比及電導(dǎo)率。
      【權(quán)利要求】
      1.一種含鐵金屬復(fù)合層的電路板,其特征在于:包括基板及鍍層,所述鍍層位于電接觸位置,所述電接觸位置被置與電鍍?nèi)芤褐性谌跛嵝原h(huán)境下電鍍,所述電鍍?nèi)芤喊ㄇ杷岣x子、金離子、螯合劑、鐵離子鹽及硼酸根離子。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含鐵金屬復(fù)合層的電路板,其特征在于:溶液中鐵含量為I~5g/L,硼酸根含量10~30g/L,螯合劑含量為50~100g/L,金離子的含量為鐵離子含量重量比的30%~60%。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含鐵金屬復(fù)合層的電路板,其特征在于:所述溶液組分包括氰酸金、EDTA-Fe、檸檬酸鐵或硫酸鐵、硼酸鐵及EDTA、硼酸。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含鐵金屬復(fù)合層的電路板,其特征在于:溶液中還含有有機酸,用于將PH值調(diào)制6~7之間的弱酸性。
      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的含鐵金屬復(fù)合層的電路板,其特征在于:所述有機酸為朽1檬酸。`
      【文檔編號】C25D3/56GK103668363SQ201310672800
      【公開日】2014年3月26日 申請日期:2013年12月12日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月12日
      【發(fā)明者】童華東 申請人:東莞市廣海大橡塑科技有限公司
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