一種釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍工藝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍工藝，通過在每片釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品上捆上一圈綁帶，綁帶的材料為耐酸堿、耐高溫和抗壓的非導(dǎo)電性材料，綁帶的寬度為1～3mm，綁帶與釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品之間的空隙為2～20mm，綁帶沿釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的內(nèi)側(cè)面、上端面、外側(cè)面和下端面圍繞一圈，滾筒內(nèi)的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品之間由于綁帶的阻隔作用，兩片釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的各端面之間不會貼合，電鍍液從兩者端面之間由于綁帶而形成的間隙內(nèi)進(jìn)入將兩片釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品分開，釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品表面形成均勻的電鍍層；優(yōu)點是滾筒電鍍可以達(dá)到200片/滾筒，大大提高了生產(chǎn)效率，由于克服了貼片現(xiàn)象，產(chǎn)品的合格率也顯著提高，合格率可達(dá)98％以上。
【專利說明】一種釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍工藝

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種電鍍工藝，尤其是涉及一種釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍工藝。

【背景技術(shù)】
[0002]釹鐵硼產(chǎn)品由于其優(yōu)越的磁性能而廣泛的應(yīng)用于電子和電機等領(lǐng)域。釹鐵硼環(huán)形產(chǎn)品是目前常用的一種釹鐵硼產(chǎn)品，隨著科技的發(fā)展，釹鐵硼環(huán)形產(chǎn)品的尺寸逐步向小型化和輕薄化發(fā)展。目前，外徑(直徑)為30?140mm，內(nèi)徑(直徑)為5?100mm，厚度為0.3?2mm的釹鐵硼環(huán)形產(chǎn)品被稱為釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品。
[0003]為了提高釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的防腐性能，通常需要對其進(jìn)行電鍍處理?，F(xiàn)有的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍工藝主要兩種:第一種是滾筒式電鍍工藝，該滾筒式電鍍工藝是將釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品裝入電鍍用滾筒中，然后將滾筒放入電鍍槽內(nèi)滾動，滾筒透水性良好，電鍍槽內(nèi)的電鍍液進(jìn)入滾筒實現(xiàn)釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍；第二種是懸掛式電鍍工藝，該懸掛式電鍍工藝是將釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品懸掛在掛具的掛鉤上，然后將掛具放入電鍍槽內(nèi)使釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品被電鍍液淹沒，通過上下或左右晃動掛具來實現(xiàn)釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍。
[0004]滾筒式電鍍工藝一次性電鍍產(chǎn)品數(shù)量可達(dá)200片，生產(chǎn)效率較高，但是由于釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品厚度薄且光潔度高，滾筒內(nèi)的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品由于鍍液的張力而容易相互吸附，產(chǎn)生貼片現(xiàn)象，因而吸附在一起的兩片釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的吸附面無法形成鍍層而造成報廢，電鍍合格率僅在40%左右。懸掛式電鍍工藝雖然不會產(chǎn)生貼片現(xiàn)象，但是掛具的裝載量小，一次性電鍍產(chǎn)品數(shù)量僅為30?50片，生產(chǎn)效率較低，并且由于釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品比較輕薄，在電鍍液浮力作用和掛具晃動作用下，部分釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品在電鍍過程中會脫離掛鉤而出現(xiàn)斷電現(xiàn)象，由此導(dǎo)致電鍍層與釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品基體之間的結(jié)合力不良，合格率也不高。
[0005]鑒此，提供一種生產(chǎn)效率較高，且合格率較高的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍工藝具有重要意義。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種生產(chǎn)效率較高，合格率較高的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍工藝。
[0007]本發(fā)明解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案為:一種釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍工藝，包括以下步驟:
[0008]①釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品進(jìn)行首次電鍍前處理；
[0009]②將電鍍前處理后的每片釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品上捆上一圈綁帶，所述的綁帶的材料為耐酸堿、耐高溫和抗壓的非導(dǎo)電性材料，所述的綁帶的寬度為I?3mm，所述的綁帶與釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品之間的空隙為2?20mm，所述的綁帶沿釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的內(nèi)側(cè)面、上端面、外側(cè)面和下端面圍繞一圈后打結(jié)；
[0010]③將捆好綁帶的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品放入電鍍用滾筒中；
[0011]④將裝入滾筒內(nèi)的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品進(jìn)行再次電鍍前處理:將滾筒依次放入除油槽內(nèi)進(jìn)行除油處理、除銹槽內(nèi)進(jìn)行除銹處理和活化槽內(nèi)進(jìn)行活化處理；
[0012]⑤將滾筒放入第一電鍍池內(nèi)進(jìn)行首次電鍍鎳處理，鍍層厚度為2?6um ;
[0013]⑥將滾筒放入第二電鍍池內(nèi)進(jìn)行電鍍銅處理，鍍層厚度為2?1um ；
[0014]⑦將滾筒放入第三電鍍池內(nèi)進(jìn)行再次電鍍鎳處理，鍍層厚度為2?10um。
[0015]所述的非導(dǎo)電性材料為聚丙烯材料或者聚酰胺材料。該材料可使綁帶具有良好的耐酸、腐蝕和絕緣性，不易老化、承受力強，可在操作溫度為_20°C到+80°C內(nèi)長時間工作，在電鍍過程中使用壽命長，可以反復(fù)使用，減少材料浪費和環(huán)境污染。
[0016]所述的首次電鍍鎳處理過程中使用的電鍍?nèi)芤簽榱蛩徭嚾芤海龅牧蛩徭嚾芤河闪蛩徭?、氯化鎳、硼酸和水混合而成，其中硫酸鎳的濃度?00?400g/L，氯化鎳的濃度為20?70g/L，硼酸的濃度為20?70g/L，所述的硫酸鎳溶液的PH為3.5?5.0，溫度在40?60°C。該工藝作為預(yù)鍍工藝，可以使釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品基體與預(yù)鍍層和預(yù)鍍之后的銅鍍層之間具有良好的結(jié)合力。
[0017]所述的電鍍銅處理過程中使用的電鍍?nèi)芤簽榻沽姿徙~溶液，所述的焦磷酸銅溶液由焦磷酸鉀、焦磷酸銅和水混合而成，其中焦磷酸鉀的濃度為200?400g/L，焦磷酸銅的濃度為20?70g/L，所述的焦磷酸銅溶液的PH為7.5?9.0，溫度在30?50°C。該工藝中采用的焦磷酸銅溶液成分簡單、鍍液穩(wěn)定、電流效率高、均鍍能力和深度能力好，且其鍍層結(jié)晶細(xì)致，對提高鍍層的耐腐蝕性能有較好的效果。
[0018]所述的再次電鍍鎳處理過程中使用的電鍍?nèi)芤簽榱蛩徭嚾芤海龅牧蛩徭嚾芤河闪蛩徭?、氯化鎳、硼酸和水混合而成，其中硫酸鎳的濃度?50?350g/L，氯化鎳的濃度為20?70g/L，硼酸的濃度為20?70g/L，所述的硫酸鎳溶液的PH為3.5?5.0，溫度在40?60°C。該工藝中得到的鍍層具有光澤的外觀，且硬度高。
[0019]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點在于通過在每片釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品上捆上一圈綁帶，綁帶的材料為耐酸堿、耐高溫和抗壓的非導(dǎo)電性材料，綁帶的寬度為I?3mm，綁帶與釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品之間的空隙為2?20mm，綁帶沿釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的內(nèi)側(cè)面、上端面、外側(cè)面和下端面圍繞一圈，在滾筒滾動電鍍的過程中，位于滾筒內(nèi)的各片釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品之間由于綁帶的阻隔作用，彼此相鄰且靠近的兩片釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的各端面之間不會貼合，不會產(chǎn)生貼片現(xiàn)象，電鍍液從兩者端面之間由于綁帶而形成的間隙內(nèi)進(jìn)入將兩片釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品分開，由此在滾筒的滾動翻轉(zhuǎn)電鍍過程中，各片釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品各個端面依次形成均勻的電鍍鎳內(nèi)層、電鍍銅中間層和電鍍鎳外層，滾筒電鍍可以達(dá)到200片/滾筒，大大提高了生產(chǎn)效率，由于克服了貼片現(xiàn)象，產(chǎn)品的合格率也顯著提高，合格率可達(dá)98%以上。

【具體實施方式】
[0020]以下結(jié)合實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0021]實施例一:一種釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍工藝，包括以下步驟:
[0022]①釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品進(jìn)行首次電鍍前處理，首次電鍍前處理依次包括:除油、超聲波清洗和吹干固化；釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的外徑(直徑)50mm，內(nèi)徑(直徑)為20mm，厚度為0.6mm ；
[0023]②將電鍍處理后的每片釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品上捆上一圈綁帶，綁帶的材料為耐酸堿、耐高溫和抗壓的非導(dǎo)電性材料，綁帶的寬度為1_，綁帶與釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品之間的空隙為2mm，綁帶沿釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的內(nèi)側(cè)面、上端面、外側(cè)面和下端面圍繞一圈后打結(jié)；
[0024]③將捆好綁帶的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品放入電鍍用滾筒中；
[0025]④將裝入滾筒內(nèi)的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品進(jìn)行再次電鍍前處理:將滾筒依次放入除油槽內(nèi)進(jìn)行除油處理、除銹槽內(nèi)進(jìn)行除銹處理和活化槽內(nèi)進(jìn)行活化處理；
[0026]⑤將滾筒放入第一電鍍池內(nèi)進(jìn)行首次電鍍鎳處理，鍍層厚度為3um ;
[0027]⑥將滾筒放入第二電鍍池內(nèi)進(jìn)行電鍍銅處理，鍍層厚度為3um ；
[0028]⑦將滾筒放入第三電鍍池內(nèi)進(jìn)行再次電鍍鎳處理，鍍層厚度為6um。
[0029]本實施例中，非導(dǎo)電性材料為聚丙烯材料。
[0030]本實施例中，首次電鍍鎳處理過程中使用的電鍍?nèi)芤簽榱蛩徭嚾芤?，所述的硫酸鎳溶液由硫酸鎳、氯化鎳、硼酸和水混合而成，其中硫酸鎳的濃度?80g/l，氯化鎳的濃度為30g/l，硼酸的濃度為40g/l，所述的硫酸鎳溶液的PH為4.6，溫度為40°C。
[0031]本實施例中，電鍍銅處理過程中使用的電鍍?nèi)芤簽榻沽姿徙~溶液，所述的溶液由焦磷酸鉀、焦磷酸銅和水混合而成，其中焦磷酸鉀的濃度為200g/L，焦磷酸銅的濃度為30g/L，所述的焦磷酸銅溶液的PH為7.5，溫度在40°C。
[0032]本實施例中，再次電鍍鎳處理過程中使用的電鍍?nèi)芤簽榱蛩徭嚾芤?，所述的硫酸鎳溶液由硫酸鎳、氯化鎳、硼酸和水混合而成，其中硫酸鎳的濃度?80g/l，氯化鎳的濃度為35g/l，硼酸的濃度為65g/l，所述的硫酸鎳溶液的PH為3.6，溫度為50°C。
[0033]將采用本實施例的電鍍工藝得到的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品在3倍放大鏡下進(jìn)行外觀檢測，產(chǎn)品無漏鍍、氧化腐蝕現(xiàn)象，一次合格率達(dá)到99.5%,0.5%的不合格品為黃斑等其他電鍍不良。
[0034]實施例二:一種釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍工藝，包括以下步驟:
[0035]①釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品進(jìn)行首次電鍍前處理，首次電鍍前處理依次包括:除油、超聲波清洗和吹干固化；釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的外徑(直徑)80mm，內(nèi)徑(直徑)為30mm，厚度為0.8mm ；
[0036]②將電鍍處理后的每片釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品上捆上一圈綁帶，綁帶的材料為耐酸堿、耐高溫和抗壓的非導(dǎo)電性材料，綁帶的寬度為1.5_，綁帶與釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品之間的空隙為2_，綁帶沿釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的內(nèi)側(cè)面、上端面、外側(cè)面和下端面圍繞一圈后打結(jié)；
[0037]③將捆好綁帶的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品放入電鍍用滾筒中；
[0038]④將裝入滾筒內(nèi)的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品進(jìn)行再次電鍍前處理:將滾筒依次放入除油槽內(nèi)進(jìn)行除油處理、除銹槽內(nèi)進(jìn)行除銹處理和活化槽內(nèi)進(jìn)行活化處理；
[0039]⑤將滾筒放入第一電鍍池內(nèi)進(jìn)行首次電鍍鎳處理，鍍層厚度為3um ；
[0040]⑥將滾筒放入第二電鍍池內(nèi)進(jìn)行電鍍銅處理，鍍層厚度為5um ；
[0041]⑦將滾筒放入第三電鍍池內(nèi)進(jìn)行再次電鍍鎳處理，鍍層厚度為6um。
[0042]本實施例中，非導(dǎo)電性材料為聚酰胺材料。
[0043]本實施例中，首次電鍍鎳處理過程中使用的電鍍?nèi)芤簽榱蛩徭嚾芤?，所述的硫酸鎳溶液由硫酸鎳、氯化鎳、硼酸和水混合而成，其中硫酸鎳的濃度?50g/l，氯化鎳的濃度為35g/l，硼酸的濃度為35g/l，所述的硫酸鎳溶液的PH為4.6，溫度為40°C。
[0044]本實施例中，電鍍銅處理過程中使用的電鍍?nèi)芤簽榻沽姿徙~溶液，所述的溶液由焦磷酸鉀、焦磷酸銅和水混合而成，其中焦磷酸鉀的濃度為230g/L，焦磷酸銅的濃度為35g/L，所述的焦磷酸銅溶液的PH為7.8，溫度在40°C。
[0045]本實施例中，再次電鍍鎳處理過程中使用的電鍍?nèi)芤簽榱蛩徭嚾芤海龅牧蛩徭嚾芤河闪蛩徭?、氯化鎳、硼酸和水混合而成，其中硫酸鎳的濃度?00g/l，氯化鎳的濃度為35g/l，硼酸的濃度為60g/l，所述的硫酸鎳溶液的PH為3.6，溫度為50°C。
[0046]將采用本實施例的電鍍工藝得到的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品在3倍放大鏡下進(jìn)行外觀檢測，產(chǎn)品無漏鍍、氧化腐蝕現(xiàn)象，一次合格率達(dá)到99%，1%的不合格品為黃斑等其他電鍍不良。
[0047]實施例三:一種釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍工藝，包括以下步驟:
[0048]①釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品進(jìn)行首次電鍍前處理，首次電鍍前處理依次包括:除油、超聲波清洗和吹干固化；釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的外徑(直徑)100_，內(nèi)徑(直徑)為60_，厚度為1.2mm ；
[0049]②將電鍍處理后的每片釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品上捆上一圈綁帶，綁帶的材料為耐酸堿、耐高溫和抗壓的非導(dǎo)電性材料，綁帶的寬度為2_，綁帶與釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品之間的空隙為5mm，綁帶沿釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的內(nèi)側(cè)面、上端面、外側(cè)面和下端面圍繞一圈后打結(jié)；
[0050]③將捆好綁帶的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品放入電鍍用滾筒中；
[0051]④將裝入滾筒內(nèi)的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品進(jìn)行再次電鍍前處理:將滾筒依次放入除油槽內(nèi)進(jìn)行除油處理、除銹槽內(nèi)進(jìn)行除銹處理和活化槽內(nèi)進(jìn)行活化處理；
[0052]⑤將滾筒放入第一電鍍池內(nèi)進(jìn)行首次電鍍鎳處理，鍍層厚度為4um ；
[0053]⑥將滾筒放入第二電鍍池內(nèi)進(jìn)行電鍍銅處理，鍍層厚度為6um ；
[0054]⑦將滾筒放入第三電鍍池內(nèi)進(jìn)行再次電鍍鎳處理，鍍層厚度為7um。
[0055]本實施例中，非導(dǎo)電性材料為聚酰胺材料。
[0056]本實施例中，首次電鍍鎳處理過程中使用的電鍍?nèi)芤簽榱蛩徭嚾芤?，所述的硫酸鎳溶液由硫酸鎳、氯化鎳、硼酸和水混合而成，其中硫酸鎳的濃度?00g/l，氯化鎳的濃度為35g/l，硼酸的濃度為35g/l，所述的硫酸鎳溶液的PH為4.4，溫度為40°C。
[0057]本實施例中，電鍍銅處理過程中使用的電鍍?nèi)芤簽榻沽姿徙~溶液，所述的溶液由焦磷酸鉀、焦磷酸銅和水混合而成，其中焦磷酸鉀的濃度為230g/L，焦磷酸銅的濃度為35g/L，所述的焦磷酸銅溶液的PH為7.8，溫度在40°C。
[0058]本實施例中，再次電鍍鎳處理過程中使用的電鍍?nèi)芤簽榱蛩徭嚾芤海龅牧蛩徭嚾芤河闪蛩徭?、氯化鎳、硼酸和水混合而成，其中硫酸鎳的濃度?00g/l，氯化鎳的濃度為35g/l，硼酸的濃度為60g/l，所述的硫酸鎳溶液的PH為3.6，溫度為50°C。
[0059]將采用本實施例的電鍍工藝得到的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品在3倍放大鏡下進(jìn)行外觀檢測，產(chǎn)品無漏鍍、氧化腐蝕現(xiàn)象，一次合格率達(dá)到98.5%, 1.5%的不合格品為黃斑等其他電鍍不良。
【權(quán)利要求】
1.一種釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍工藝，其特征在于包括以下步驟: ①將釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品進(jìn)行首次電鍍前處理； ②將電鍍處理后的每片釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品上捆上一圈綁帶，所述的綁帶的材料為耐酸堿、耐高溫和抗壓的非導(dǎo)電性材料，所述的綁帶的寬度為I?3mm，所述的綁帶與釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品之間的空隙為2?20mm，所述的綁帶沿釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的內(nèi)側(cè)面、上端面、外側(cè)面和下端面圍繞一圈后打結(jié)； ③將捆好綁帶的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品放入電鍍用滾筒中； ④將裝入滾筒內(nèi)的釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品進(jìn)行再次電鍍前處理:將滾筒依次放入除油槽內(nèi)進(jìn)行除油處理、除銹槽內(nèi)進(jìn)行除銹處理和活化槽內(nèi)進(jìn)行活化處理； ⑤將滾筒放入第一電鍍池內(nèi)進(jìn)行首次電鍍鎳處理，鍍層厚度為2?6um; ⑥將滾筒放入第二電鍍池內(nèi)進(jìn)行電鍍銅處理，鍍層厚度為2?1um; ⑦將滾筒放入第三電鍍池內(nèi)進(jìn)行再次電鍍鎳處理，鍍層厚度為2?10um。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍工藝，其特征在于所述的非導(dǎo)電性材料為聚丙烯材料或者聚酰胺材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍工藝，其特征在于所述的首次電鍍鎳處理過程中使用的電鍍?nèi)芤簽榱蛩徭嚾芤?，所述的硫酸鎳溶液由硫酸鎳、氯化鎳、硼酸和水混合而成，其中硫酸鎳的濃度?00?400g/L，氯化鎳的濃度為20?70g/L，硼酸的濃度為20?70g/L，所述的硫酸鎳溶液的PH為3.5?5.0，溫度在40?60°C。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍工藝，其特征在于所述的電鍍銅處理過程中使用的電鍍?nèi)芤簽榻沽姿徙~溶液，所述的焦磷酸銅溶液由焦磷酸鉀、焦磷酸銅和水混合而成，其中焦磷酸鉀的濃度為200?400g/L，焦磷酸銅的濃度為20?70g/L，所述的焦磷酸銅溶液的PH為7.5?9.0，溫度在30?50°C。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種釹鐵硼薄片環(huán)形產(chǎn)品的電鍍工藝，其特征在于所述的再次電鍍鎳處理過程中使用的電鍍?nèi)芤簽榱蛩徭嚾芤海龅牧蛩徭嚾芤河闪蛩徭?、氯化鎳、硼酸和水混合而成，其中硫酸鎳的濃度?50?350g/L，氯化鎳的濃度為20?70g/L，硼酸的濃度為20?70g/L，所述的硫酸鎳溶液的PH為3.5?5.0，溫度在40?60°C。
【文檔編號】C25D7/04GK104480506SQ201410734542
【公開日】2015年4月1日 申請日期:2014年12月5日 優(yōu)先權(quán)日:2014年12月5日
【發(fā)明者】曹立斌, 陳國 , 胡克, 余衍煉 申請人:寧波韻升股份有限公司, 寧波韻升磁體元件技術(shù)有限公司, 寧波韻升特種金屬材料有限公司