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      一種金剛砂回收裝置的制作方法

      文檔序號(hào):11224590閱讀:453來源:國知局
      一種金剛砂回收裝置的制造方法

      本發(fā)明涉及金鋼線生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種金剛砂回收裝置。



      背景技術(shù):

      金屬絲表面電鍍金剛石磨料制成的金鋼線是線切割技術(shù)領(lǐng)域使用非常普遍的線鋸材料,其切割效率高、切縫小、可同時(shí)切割多片產(chǎn)品并且環(huán)保。工業(yè)上許多硬質(zhì)材料都是用切割鋼線或者更高質(zhì)量的金鋼線來切割的,比如光伏領(lǐng)域的多晶硅切片,單晶硅,晶棒。

      在金鋼線生產(chǎn)過程中需要經(jīng)過放線、堿洗、酸洗、預(yù)鍍、上砂、加固、加厚、烘干等多道工序,各工序之間緊密銜接,上砂工序是在金屬絲表面蒸鍍一層金鋼砂,將金鋼砂附著在金屬絲表面,上砂過程中部分金鋼砂未能完全附著在金屬絲表面造成上砂不均,在進(jìn)行加固工序前以及最后烘干工序之后都需要將金屬絲或者金鋼線表面附著不牢的金鋼砂去除,同時(shí)完成對(duì)金鋼砂的回收利用,由于金鋼砂顆粒度小,無法通過普通過濾裝置(如過濾網(wǎng))將其過濾。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題,提供一種金剛砂回收裝置。

      本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題采用以下的技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)。

      一種金剛砂回收裝置,包括蓄水槽,所述蓄水槽一對(duì)邊靠近上端位于同一高度處分別設(shè)置進(jìn)線口、出線口,蓄水槽內(nèi)設(shè)置第一環(huán)形隔板,所述第一環(huán)形隔板與蓄水槽底部連接將蓄水槽分割成兩個(gè)獨(dú)立的空間,第一環(huán)形隔板中心與蓄水槽中心重合,第一環(huán)形隔板高度低于蓄水槽底部離進(jìn)線口下端高度,第一環(huán)形隔板朝向進(jìn)線口一面靠近上端設(shè)置第一進(jìn)水口,蓄水槽底部中心位置設(shè)置通孔。

      進(jìn)一步,所述蓄水槽位于第一環(huán)形隔板內(nèi)設(shè)置第二環(huán)形隔板,所述第二環(huán)形隔板與蓄水槽底部連接將第一環(huán)形隔板分割成兩個(gè)獨(dú)立的空間,第二環(huán)形隔板中心與蓄水槽中心重合,第二環(huán)形隔板高度低于第一環(huán)形隔板底部離第一進(jìn)水口下端高度,第二環(huán)形隔板朝向出線口一面靠近上端設(shè)置第二進(jìn)水口。

      進(jìn)一步,所述蓄水槽位于第二環(huán)形隔板內(nèi)設(shè)置第三環(huán)形隔板,所述第三環(huán)形隔板與蓄水槽底部連接將第二環(huán)形隔板分割成兩個(gè)獨(dú)立的空間,第三環(huán)形隔板中心與蓄水槽中心重合,第三環(huán)形隔板高度低于第二環(huán)形隔板底部離第二進(jìn)水口下端高度,第三環(huán)形隔板朝向進(jìn)線口一面靠近上端設(shè)置第三進(jìn)水口。

      進(jìn)一步,所述蓄水槽靠近出線口一端設(shè)置前隔板,所述前隔板靠近上端設(shè)置前出水口,前隔板高度低于蓄水槽底部離進(jìn)線口下端高度,高于第一環(huán)形隔板底部離第一進(jìn)水口下端高度。

      優(yōu)選的,所述蓄水槽為圓形蓄水槽或者矩形蓄水槽,蓄水槽上端開口并設(shè)置蓋體。

      本發(fā)明的有益效果為:通過在蓄水槽內(nèi)設(shè)置環(huán)形隔板,將蓄水槽分割成獨(dú)立的空間,在水流動(dòng)過程中混雜的金鋼砂慢慢沉淀在蓄水槽底部,最終水通過蓄水槽底部的通孔流出,在將金鋼線上附著不牢的金鋼砂除去的同時(shí)將水與金鋼砂相分離,充分利用了在有限空間的情況下,通過水的逐步流動(dòng)將金鋼砂沉淀分離;本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,造價(jià)低,占用面積小,使用方便。

      附圖說明

      圖1為本發(fā)明俯視圖;

      圖2為圖1沿a-a面剖視圖。

      具體實(shí)施方式

      為了使本發(fā)明實(shí)現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白了解,下面結(jié)合具體圖示,進(jìn)一步闡述本發(fā)明。

      如圖1-2所示,一種金剛砂回收裝置,包括蓄水槽1,蓄水槽1上端開口并設(shè)置蓋體,蓄水槽1一對(duì)邊靠近上端分別設(shè)置進(jìn)線口3、出線口2,蓄水槽1內(nèi)設(shè)置第一環(huán)形隔板5,第一環(huán)形隔板5與蓄水槽1底部連接從而將蓄水槽1分割成兩個(gè)獨(dú)立的空間,第一環(huán)形隔板5中心與蓄水槽1中心重合,第一環(huán)形隔板5高度低于蓄水槽1底部離進(jìn)線口3下端高度,第一環(huán)形隔板5朝向進(jìn)線口3一面靠近上端設(shè)置第一進(jìn)水口7,蓄水槽1底部中心位置設(shè)置通孔12。

      使用該金剛砂回收裝置時(shí),金鋼線從進(jìn)線口3進(jìn)入蓄水槽1,從出線口2離開蓄水槽1,在出線口2處使用與金鋼線運(yùn)動(dòng)方向相反的水沖洗金鋼線,將吸附在金鋼線上的金鋼砂沖洗掉并隨水流進(jìn)入蓄水槽1內(nèi),在蓄水槽1內(nèi)沿著第一環(huán)形隔板5外圍流動(dòng),并通過第一進(jìn)水口7進(jìn)入第一環(huán)形隔板5形成的空間內(nèi),通過位于蓄水槽1底部的通孔12流出蓄水槽1,清洗水在蓄水槽1內(nèi)流動(dòng)過程中,金鋼砂慢慢發(fā)生沉淀,從而將水中的金鋼砂分離。

      進(jìn)一步,在蓄水槽1位于第一環(huán)形隔板5內(nèi)設(shè)置第二環(huán)形隔板6,第二環(huán)形隔板6與蓄水槽1底部連接從而將第一環(huán)形隔板5分割成兩個(gè)獨(dú)立的空間,第二環(huán)形隔板6中心與蓄水槽1中心重合,第二環(huán)形隔板6高度低于第一環(huán)形隔板5底部離第一進(jìn)水口7下端高度,第二環(huán)形隔板6朝向出線口2一面靠近上端設(shè)置第二進(jìn)水口10。

      更進(jìn)一步,在蓄水槽1位于第二環(huán)形隔板6內(nèi)設(shè)置第三環(huán)形隔板11,第三環(huán)形隔板11與蓄水槽1底部連接從而將第二環(huán)形隔板6分割成兩個(gè)獨(dú)立的空間,第三環(huán)形隔板11中心與蓄水槽1中心重合,第三環(huán)形隔板11高度低于第二環(huán)形隔板6底部離第二進(jìn)水口10下端高度,第三環(huán)形隔板11朝向進(jìn)線口3一面靠近上端設(shè)置第三進(jìn)水口8。

      更進(jìn)一步,蓄水槽1靠近出線口2一端設(shè)置前隔板4,前隔板4靠近上端設(shè)置前出水口9,前隔板4高度低于蓄水槽1底部離進(jìn)線口3下端高度,高于第一環(huán)形隔板5底部離第一進(jìn)水口7下端高度。

      蓄水槽1為圓形蓄水槽或者矩形蓄水槽。

      以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理、主要特征和本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解,本發(fā)明不受上述實(shí)施例的限制,上述實(shí)施例和說明書中描述的僅為本發(fā)明的優(yōu)選例,并不用來限制本發(fā)明,在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下,本發(fā)明還會(huì)有各種變化和改進(jìn),這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本發(fā)明范圍內(nèi)。本發(fā)明要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。



      技術(shù)特征:

      技術(shù)總結(jié)
      一種金剛砂回收裝置,包括蓄水槽,所述蓄水槽一對(duì)邊靠近上端位于同一高度處分別設(shè)置進(jìn)線口、出線口,蓄水槽內(nèi)設(shè)置第一環(huán)形隔板,所述第一環(huán)形隔板與蓄水槽底部連接將蓄水槽分割成兩個(gè)獨(dú)立的空間,第一環(huán)形隔板中心與蓄水槽中心重合,第一環(huán)形隔板高度低于蓄水槽底部離進(jìn)線口下端高度,第一環(huán)形隔板朝向進(jìn)線口一面靠近上端設(shè)置第一進(jìn)水口,蓄水槽底部中心位置設(shè)置通孔。通過在蓄水槽內(nèi)設(shè)置環(huán)形隔板,在將金鋼線上附著不牢的金鋼砂除去的同時(shí)將水與金鋼砂相分離,充分利用了在有限空間的情況下,通過水的逐步流動(dòng)將金鋼砂沉淀分離;本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,造價(jià)低,占用面積小,使用方便。

      技術(shù)研發(fā)人員:姜傳芳;周小波;虞雪榮;楊再明;王偉;劉智韜
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:安徽卡爾森新材料科技有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:2017.04.17
      技術(shù)公布日:2017.09.08
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