本技術(shù)涉及太陽能電池片制造領(lǐng)域,具體涉及一種電鍍槽,以及具有該電鍍槽的電鍍設(shè)備。
背景技術(shù):
1、在太陽能電池片等產(chǎn)品制造的過程中會(huì)涉及電鍍工藝。在電鍍過程中,電鍍槽中的電鍍液會(huì)處于循環(huán)狀態(tài),現(xiàn)有的電鍍設(shè)備在沿電鍍槽的長度的兩端設(shè)置溢流孔,由于電池片在電鍍時(shí)需要沿電鍍槽的長度移動(dòng)一定距離,以保證鍍層的厚度,因此,電鍍槽會(huì)具有一定長度,若將溢流孔設(shè)置于電鍍槽的兩端,溢流孔與電鍍槽中部的距離過遠(yuǎn),電鍍槽中的液體量過多時(shí)將無法及時(shí)排出,另外,僅在兩端設(shè)置溢流孔會(huì)導(dǎo)致電鍍槽內(nèi)多個(gè)地方的液體量不同,從而使得致電鍍槽中的金屬離子分布不均,影響鍍層的均勻性。
2、基于此,需要提供一種新型結(jié)構(gòu)的電鍍槽,以能夠使得電鍍槽中的電鍍液量被控制在預(yù)設(shè)的范圍內(nèi)。
3、需要聲明的是,以上背景技術(shù)內(nèi)容僅用于輔助理解本專利申請的發(fā)明構(gòu)思及技術(shù)方案,其并不必然屬于本專利申請的現(xiàn)有技術(shù),在沒有明確的證據(jù)表明上述內(nèi)容在本專利申請的申請日之前已經(jīng)公開的情況下,上述背景技術(shù)不應(yīng)當(dāng)用于評價(jià)本申請的新穎性和創(chuàng)造性。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本實(shí)用新型的目的是提供一種改進(jìn)的電鍍槽。
2、為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種電鍍槽,所述電鍍槽包括具有槽腔的槽體,以及設(shè)于所述槽體上的隔板組件,所述隔板組件將所述槽腔分隔為主腔室、位于所述主腔室至少一側(cè)的第一腔室,以及位于所述主腔室下方的第二腔室,
3、所述第一腔室的上部與所述主腔室相互連通,所述第二腔室位于所述第一腔室的下方并與所述第一腔室相互連通,
4、所述電鍍槽還包括設(shè)于所述主腔室的底部并用于向所述主腔室內(nèi)供應(yīng)液體的供液口,以及與所述第二腔室相連通且用于回收液體的排液口。
5、優(yōu)選地,所述隔板組件包括至少一個(gè)隔板和一個(gè)底板,所述隔板垂直設(shè)置于所述槽體內(nèi),且與所述槽體側(cè)壁之間具有一定距離,形成第一腔室;所述底板水平設(shè)置于所述槽體內(nèi),且兩側(cè)分別與所述隔板和所述槽體連接,或分別與兩個(gè)所述隔板連接,所述底板與所述槽體底部具有一定距離,以將槽體沿豎直方向分隔成所述主腔室與所述第二腔室。
6、進(jìn)一步地,所述隔板包括沿豎直方向相接的上板部及下板部,其中,所述下板部沿豎直方向延伸,所述上板部自所述下板部的上端向上并朝遠(yuǎn)離所述主腔室的方向傾斜延伸,直至與所述槽體相接,所述上板部上開設(shè)有用于連通所述主腔室與所述第一腔室的溢流孔組。
7、優(yōu)選地,沿第一方向上,間隔地設(shè)置有多組所述的溢流孔組,每個(gè)所述溢流孔組均包括多個(gè)溢流孔,所有的所述溢流孔沿所述第一方向間隔地設(shè)置于所述上板部上。
8、優(yōu)選地,所述供液口設(shè)于所述底板上,所述電鍍槽還包括與所述供液口連通的供液管,所述供液管穿過所述第二腔室并與所述供液口相連接。
9、進(jìn)一步地,所述隔板組件包括兩個(gè)隔板和兩個(gè)底板,所述隔板垂直設(shè)置于所述槽體內(nèi),且與所述槽體側(cè)壁之間具有一定距離,形成第一腔室;
10、所述主腔室與所述第二腔室在豎直方向上具有一定距離,形成安裝空間,兩個(gè)所述底板均水平設(shè)置于所述槽體內(nèi),且兩側(cè)分別與兩個(gè)所述隔板連接,兩個(gè)所述底板之間具有一定距離,以將所述槽體從上至下依次分隔為所述主腔室、所述安裝空間和所述第二腔室;
11、所述電鍍槽還包括與所述供液口連通的供液管,所述供液管位于所述安裝空間中,且與所述供液口相連接
12、本實(shí)用新型的還提供一種改進(jìn)的電鍍槽,所述電鍍槽包括具有槽腔的槽體,以及設(shè)于所述槽體上的隔板組件,所述隔板組件將所述槽腔分隔為主腔室、位于所述主腔室相對兩側(cè)的兩個(gè)第一腔室,以及位于所述主腔室下方的第二腔室;
13、所述主腔室與所述第二腔室在豎直方向上具有一定距離,形成安裝空間,兩個(gè)所述第一腔室在第二方向上間隔地設(shè)置,且分別位于所述主腔室兩側(cè),所述第一腔室的上部與所述主腔室連通,下部穿過所述安裝空間與所述第二腔室連通;
14、所述電鍍槽還包括設(shè)于所述主腔室的底部并用于向所述主腔室內(nèi)供應(yīng)液體的供液口,以及與所述第二腔室相連通且用于回收液體的排液口,所述電鍍槽還包括供液管,所述供液管位于所述安裝空間中,且與所述供液口相連接。
15、進(jìn)一步地,所述隔板組件包括兩個(gè)隔板和兩個(gè)底板,所述隔板垂直設(shè)置于所述槽體內(nèi),且與所述槽體側(cè)壁之間具有一定距離,形成所述第一腔室;兩個(gè)所述底板均水平設(shè)置于所述槽體內(nèi),且兩側(cè)分別與兩個(gè)所述隔板連接,兩個(gè)所述底板之間具有一定距離,以將所述槽體從上至下依次分隔為所述主腔室、所述安裝空間和所述第二腔室。
16、本實(shí)用新型的另一個(gè)目的是提供一種電鍍設(shè)備。
17、為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種電鍍設(shè)備,包括如上所述的電鍍槽,還包括用于沿第一方向傳輸所述待電鍍產(chǎn)品的傳輸設(shè)備。
18、優(yōu)選地,所述電鍍設(shè)備還包括:
19、供液裝置,所述供液裝置被配置為向所述供液口中輸送電鍍處理用液體;
20、回收裝置,所述回收裝置被配置為用于接收從所述排液口排出的液體;
21、液體循環(huán)裝置,用于將所述回收裝置內(nèi)的液體輸送至所述供液裝置中。
22、由于上述技術(shù)方案的運(yùn)用,本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn):本實(shí)用新型的電鍍槽,由供液口從底部向主腔室內(nèi)供應(yīng)液體,以確保主腔室內(nèi)液體充足,當(dāng)主腔室內(nèi)的液體過多時(shí),多余的液體能夠流入位于主腔室兩側(cè)的兩個(gè)第一腔室內(nèi),并匯流進(jìn)第二腔室中,最終自排液口排出,避免了液體自電鍍槽上方漫出,造成浪費(fèi),由于第一腔室位于主腔室兩側(cè),能夠使得液體能夠及時(shí)回流及補(bǔ)充,以保證電鍍槽內(nèi)的液面能夠保持在預(yù)設(shè)的高度,使得電鍍槽各處的液體量均等、液體內(nèi)的金屬離子均勻分布,從而能夠保證電鍍時(shí)鍍層的均勻性。另外,通過隔板組件將電鍍槽分隔成多個(gè)腔室的方式,能夠在實(shí)現(xiàn)液體循環(huán)的同時(shí)減小占用的空間。
23、電鍍設(shè)備包括電鍍槽的全部技術(shù)方案,因此也具備電鍍槽的全部技術(shù)優(yōu)點(diǎn)。
1.一種電鍍槽,其特征在于:所述電鍍槽包括具有槽腔的槽體,以及設(shè)于所述槽體上的隔板組件,所述隔板組件將所述槽腔分隔為主腔室、位于所述主腔室至少一側(cè)的第一腔室,以及位于所述主腔室下方的第二腔室,
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍槽,其特征在于:所述隔板組件包括至少一個(gè)隔板和一個(gè)底板,所述隔板垂直設(shè)置于所述槽體內(nèi),且與所述槽體側(cè)壁之間具有一定距離,形成所述的第一腔室;
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電鍍槽,其特征在于:所述隔板包括沿豎直方向相接的上板部及下板部,其中,所述下板部沿豎直方向延伸,所述上板部自所述下板部的上端向上并朝遠(yuǎn)離所述主腔室的方向傾斜延伸,直至與所述槽體相接,所述上板部上開設(shè)有用于連通所述主腔室與所述第一腔室的溢流孔組。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電鍍槽,其特征在于:沿第一方向上,間隔地設(shè)置有多組所述的溢流孔組,每個(gè)所述溢流孔組均包括多個(gè)溢流孔,所有的所述溢流孔沿所述第一方向間隔地設(shè)置于所述上板部上。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電鍍槽,其特征在于:所述供液口設(shè)于所述底板上,所述電鍍槽還包括與所述供液口連通的供液管,所述供液管穿過所述第二腔室并與所述供液口相連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍槽,其特征在于:所述隔板組件包括兩個(gè)隔板和兩個(gè)底板,所述隔板垂直設(shè)置于所述槽體內(nèi),且與所述槽體側(cè)壁之間具有一定距離,形成所述的第一腔室;
7.一種電鍍槽,其特征在于:所述電鍍槽包括具有槽腔的槽體,以及設(shè)于所述槽體上的隔板組件,所述隔板組件將所述槽腔分隔為主腔室、位于所述主腔室相對兩側(cè)的兩個(gè)第一腔室,以及位于所述主腔室下方的第二腔室;
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電鍍槽,其特征在于:所述隔板組件包括兩個(gè)隔板和兩個(gè)底板,所述隔板垂直設(shè)置于所述槽體內(nèi),且與所述槽體側(cè)壁之間具有一定距離,形成所述第一腔室;
9.一種電鍍設(shè)備,其特征在于:包括如權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的電鍍槽,還包括用于沿第一方向傳輸待電鍍產(chǎn)品的傳輸設(shè)備。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電鍍設(shè)備,其特征在于:所述電鍍設(shè)備還包括: