專利名稱：鍍膜玻璃的除膜工藝及設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及除去玻璃鍍膜生產(chǎn)中出現(xiàn)的鍍膜質(zhì)量不合格的鍍膜基片上的鍍膜膜層的工藝方法及其設(shè)備。
隨著玻璃鍍膜技術(shù)的興起，鍍膜玻璃的應(yīng)用領(lǐng)域越來越廣，對鍍膜質(zhì)量的要求也越來越高，在鍍膜玻璃的生產(chǎn)中出現(xiàn)廢品在所難免，在這些廢品的鍍膜玻璃基片上，由于這層膜層的存在，既不能被用來重新鍍膜，也不能將其回窯重新熔制玻璃基片而被利用。目前，通常的處理辦法是將其砸碎后，埋入地下。而除去這層質(zhì)量不合格的膜層后，再在其玻璃基片上進行重新鍍膜的除膜工藝及設(shè)備，目前在國內(nèi)外尚未見有文獻記載與報導(dǎo)，在國內(nèi)尚未見有人使用過。
本發(fā)明的任務(wù)是提供一種成本低廉、操作簡單、除膜質(zhì)量可靠的鍍膜玻璃除膜工藝方法及其設(shè)備。
目前，各種鍍膜玻璃的膜層材料大體有單質(zhì)膜、反應(yīng)膜和復(fù)合膜三種。本發(fā)明采作下列方法對鍍膜質(zhì)量不合格的鍍膜玻璃基片進行除膜將鍍有不同膜層材料的膜層的玻璃基片浸入不同的酸溶液或堿溶液或鹽溶液中，然后加熱煮沸一定時間，即可除去膜層。例如將鍍有Cu單質(zhì)膜的玻璃基片浸入18%的硝酸溶液中，加熱煮沸40分鐘，即可除去膜層;將鍍有CrO2反應(yīng)膜的玻璃基片浸入18%的氫氧化鈉溶液中，加熱煮沸32分鐘，即可除去膜層;將鍍有Cr單質(zhì)膜的玻璃基片浸入18%的硝酸鈉溶液中，加熱煮沸20分鐘，即可除去膜層。
將鍍有不同膜層材料的膜層的玻璃基片，浸泡在酸性溶液或者堿性溶液中，其膜層就可開始脫落，長時間浸泡，直至膜層全部脫掉。例如將鍍有Cu單質(zhì)膜的玻璃基片浸泡在酸性溶液中24小時，膜層逐漸脫落，直至膜層全部脫掉;將鍍有CrO2反應(yīng)膜的玻璃基片浸泡在堿性(PH＞8.4)溶液中47小時，膜層逐漸脫落，直至膜層全部脫掉。
一種除掉玻璃基片上(鍍膜層質(zhì)量不合格的)鍍膜膜層的工藝方法，是將帶有鍍膜膜層的玻璃基片放入酸溶液中，或者放入堿溶液中，或者放入鹽溶液中，以鍍膜膜層接觸陽極，并接通直流電流。于是玻璃基片上的鍍膜膜層被全部除掉。再經(jīng)清洗、風(fēng)干后，玻璃基片恢復(fù)到原來狀態(tài)。除去鍍膜膜層的玻璃基片完全符合重新進行鍍膜的質(zhì)量要求。
一種除掉玻璃基片(鍍膜層質(zhì)量不合格的)鍍膜膜層的專用設(shè)備，主要是由提升機構(gòu)、介質(zhì)槽和電源組成，提升機構(gòu)位于介質(zhì)槽上方，介質(zhì)槽用以盛裝介質(zhì)溶液。所謂介質(zhì)溶液是指酸溶液，或者堿溶液，或者鹽溶液。介質(zhì)槽可增設(shè)包括槽隔板的介質(zhì)溶液循環(huán)系統(tǒng);還可增設(shè)超聲波換能器。以得到更佳的除膜效果。
本發(fā)明的優(yōu)點在于鍍膜玻璃質(zhì)量不合格的玻璃基片全部可以回收利用，從而產(chǎn)生很好的經(jīng)濟效益和社會效益，而且效率高、成本低、操作簡便。


圖1除膜設(shè)備示意圖最佳實施例除膜設(shè)備由提升機構(gòu)(1)、介質(zhì)槽(2)和控制電源(3)組成。提升機構(gòu)(1)位于介質(zhì)槽(2)的上方?？刂齐娫?3)為介質(zhì)槽電源(18)、提升機構(gòu)(1)的電機和介質(zhì)溶液循環(huán)系統(tǒng)電機(1)的電源。提升機構(gòu)(1)由支承架(01)、鏈條(02)、鏈輪(03)、柱桿(04)、導(dǎo)向架(05)、支架(06)和托板(16)組成。介質(zhì)槽(2)由槽體(14)、蓋板(07)、陽極(15)和陰極(16)組成。附加的介質(zhì)溶液循環(huán)系統(tǒng)由槽隔板(08)、電機(10)、葉片泵(11)、過濾器(12)、單向閥(09)和壓力表(13)組成。以及附加的超聲波換能器(19)。
將濃度為22%的NaCl溶液加入介質(zhì)槽(2)內(nèi)，并在其中加入少許，例如10克的KMnO4。溶液介質(zhì)溫度為25℃，啟動介質(zhì)溶液循環(huán)系統(tǒng)，使其流量為100L/min。將欲除膜的玻璃基片(20)(其膜層材料為Cu單質(zhì)膜)在提升機構(gòu)(1)上加固好后，向下以0.5m/min的速度置于介質(zhì)溶液中。并應(yīng)接通介質(zhì)槽電源(18)，其直流電壓為30V，直流電流為3A。當(dāng)玻璃基片(20)運動到最后位置時，除膜工作即已完成。除膜后的玻璃基片(20)還要進行沖洗和熱風(fēng)烘干，然后就可重新進行鍍膜。
權(quán)利要求
1.一種除掉玻璃基片上鍍膜膜層的工藝方法，其特征是將帶有鍍膜膜層的玻璃基片放入酸溶液中、或者放入堿溶液中、或者放入鹽溶液中，以鍍膜膜層接觸陽極，并接通直流電流。即可將玻璃基片上的鍍膜膜層除掉。
2.一種除掉玻璃基片上鍍膜膜層的設(shè)備，其特征是同提升機構(gòu)、介質(zhì)槽和電源組成，提升機構(gòu)位于介質(zhì)槽的上方。
全文摘要
在玻璃鍍膜生產(chǎn)中的廢品的玻璃基片上，由于這層鍍膜的存在既不能來重新鍍膜，也不能回窯重新熔制玻璃基片，只好全部丟棄。本發(fā)明提供一種除膜工藝和設(shè)備將帶有鍍膜膜層的玻璃基片放入酸溶液、堿溶液或鹽溶液中，以鍍膜膜層為陽極，并接通直流電流，即可除去玻璃基片的鍍膜膜層；除膜設(shè)備由提升機構(gòu)、介質(zhì)槽和電源組成，提升機構(gòu)位于介質(zhì)槽的上方。除膜后再經(jīng)過清洗、風(fēng)干，玻璃基片就可重新進行鍍膜。
文檔編號C25F5/00GK1078506SQ92106180
公開日1993年11月17日 申請日期1992年5月14日 優(yōu)先權(quán)日1992年5月14日
發(fā)明者高霽, 王毓民 申請人:高霽, 王毓民