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      一種流鍍設(shè)備外殼體的制作方法

      文檔序號:10456478閱讀:460來源:國知局
      一種流鍍設(shè)備外殼體的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001 ]本實用新型屬于流鍍設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種流鍍設(shè)備外殼體。
      【背景技術(shù)】
      [0002]流鍍是將一定數(shù)量的小零件置于專用滾筒內(nèi)、在滾動狀態(tài)下以間接導電的方式使零件表面沉積上各種金屬或合金鍍層、以達到表面防護裝飾及各種功能性目的的一種電鍍加工方式。典型的流鍍過程是這樣的:將經(jīng)過鍍前處理的小零件裝進滾筒內(nèi),零件靠自身的重力作用將滾筒內(nèi)的陰極導電裝置緊緊壓住,以保證零件受鍍時所需的電流能夠順利地傳輸。然后,滾筒以一定的速度按一定的方向旋轉(zhuǎn),零件在滾筒內(nèi)受到旋轉(zhuǎn)作用后不停地翻滾、跌落,同時,主金屬離子受到電場作用后在零件表面還原為金屬鍍層,滾筒外新鮮溶液連續(xù)不斷地通過滾筒壁板上無數(shù)的小孔補充到滾筒內(nèi)。目前,市場上的大多數(shù)流鍍設(shè)備都是全敞開式的,這樣既不利于對廢氣的處理,也不利于廠區(qū)環(huán)境的控制,另外,對于鍍好的小批量的鍍件,如果迅速轉(zhuǎn)移會造成鍍液隨著鍍件滴落,對廠區(qū)環(huán)境和設(shè)備產(chǎn)生不利影響。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]為了解決上述技術(shù)問題,本實用新型提供一種既有利于對電鍍廢氣進行處理,也有利于對廠區(qū)環(huán)境進行控制,亦可減少鍍液隨鍍件滴落的流鍍設(shè)備外殼體,包括金屬底座,其特征在于:還包括PPR殼體、鍍室,所述金屬底座設(shè)于該PPR殼體底部,所述鍍室設(shè)于該PPR殼體內(nèi)部,所述PPR殼體上部設(shè)有連接板,所述連接板上部PPR支撐護板,所述PPR支撐護板上部設(shè)有PPR護蓋,所述PPR支撐護板內(nèi)設(shè)有送件口,所述鍍室內(nèi)設(shè)有鍍筒,所述PPR殼體外部一側(cè)設(shè)有待鍍件槽,所述PPR殼體外部另一側(cè)設(shè)有已鍍件槽,所述已鍍件槽底部一側(cè)設(shè)有凸起,所述已鍍件槽底部設(shè)有鍍液流通孔,所述PPR殼體底部一側(cè)設(shè)有鍍液流通管,所述金屬底座一側(cè)設(shè)有鍍液收集槽,所述PPR殼體前部設(shè)有加強筋板,所述加強筋板之間設(shè)有筋板槽。
      [0004]所述金屬底座底部到所述連接板頂部的距離為90cm-140cmo
      [0005]本實用新型的有益效果為:
      [0006]1、本實用新型造型美觀,結(jié)構(gòu)緊湊,整體為半封閉式結(jié)構(gòu),不僅對流鍍所產(chǎn)生的廢氣較易處理,同時也大大降低了流鍍廢氣及揮發(fā)物的排放,從而改善了廠區(qū)及周邊的環(huán)境。
      [0007]2、本實用新型分別設(shè)有待鍍件槽和已鍍件槽,其中已鍍件槽中設(shè)有鍍液流通孔,不僅可以分類放置將要進行電鍍的鍍件,也可將已鍍好的鍍件所粘的鍍液進行空干,從而避免了鍍件所粘的鍍液對其他設(shè)備及周邊所產(chǎn)生的不利影響。
      【附圖說明】
      [0008]圖1是本實用新型的主視圖;
      [0009]圖2是本實用新型的前視圖。
      【具體實施方式】
      [0010]以下結(jié)合附圖對本實用新型做進一步描述:
      [0011]圖中:1-金屬底座,2-PPR殼體,3-待鍍件槽,4-連接板,5_鍍室,6-PPR支撐護板,7-PPR護蓋,8-鍍筒,9-送件口,10-鍍液流通孔,11-已鍍件槽,12-凸起,13-鍍液流通管,14-鍍液收集槽,15-筋板槽,16-加強筋板。
      [0012]實施例:
      [0013]本實施例包括金屬底座1、PPR殼體2、鍍室5,金屬底座I設(shè)于該PPR殼體2底部,鍍室5設(shè)于該PPR殼體2內(nèi)部,PPR殼體2上部設(shè)有連接板4,連接板4上部PPR支撐護板6,PPR支撐護板6上部設(shè)有PPR護蓋7,PPR支撐護板6內(nèi)設(shè)有送件口 9,鍍室5內(nèi)設(shè)有鍍筒8,PPR殼體2外部一側(cè)設(shè)有待鍍件槽3,PPR殼體2外部另一側(cè)設(shè)有已鍍件槽11,已鍍件槽11底部一側(cè)設(shè)有凸起12,已鍍件槽11底部設(shè)有鍍液流通孔10,PPR殼體2底部一側(cè)設(shè)有鍍液流通管13,金屬底座I一側(cè)設(shè)有鍍液收集槽14,PPR殼體2前部設(shè)有加強筋板16,加強筋板16之間設(shè)有筋板槽15,金屬底座I底部到連接板4頂部的距離為90cm-140cm。
      [0014]利用本實用新型所述的技術(shù)方案,或本領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實用新型技術(shù)方案的啟發(fā)下,設(shè)計出類似的技術(shù)方案,而達到上述技術(shù)效果的,均是落入本實用新型的保護范圍。
      【主權(quán)項】
      1.一種流鍍設(shè)備外殼體,包括金屬底座,其特征在于:還包括PPR殼體、鍍室,所述金屬底座設(shè)于該PPR殼體底部,所述鍍室設(shè)于該PPR殼體內(nèi)部,所述PPR殼體上部設(shè)有連接板,所述連接板上部PPR支撐護板,所述PPR支撐護板上部設(shè)有PPR護蓋,所述PPR支撐護板內(nèi)設(shè)有送件口,所述鍍室內(nèi)設(shè)有鍍筒,所述PPR殼體外部一側(cè)設(shè)有待鍍件槽,所述PPR殼體外部另一側(cè)設(shè)有已鍍件槽,所述已鍍件槽底部一側(cè)設(shè)有凸起,所述已鍍件槽底部設(shè)有鍍液流通孔,所述PPR殼體底部一側(cè)設(shè)有鍍液流通管,所述金屬底座一側(cè)設(shè)有鍍液收集槽,所述PPR殼體前部設(shè)有加強筋板,所述加強筋板之間設(shè)有筋板槽。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種流鍍設(shè)備外殼體,其特征在于:所述金屬底座底部到所述連接板頂部的距離為90cm-140cmo
      【專利摘要】本實用新型屬于流鍍設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種流鍍設(shè)備外殼體,包括金屬底座,其特征在于:還包括PPR殼體、鍍室,所述金屬底座設(shè)于該PPR殼體底部,所述鍍室設(shè)于該PPR殼體內(nèi)部,所述PPR殼體上部設(shè)有連接板,所述連接板上部PPR支撐護板,所述PPR支撐護板上部設(shè)有PPR護蓋,所述PPR支撐護板內(nèi)設(shè)有送件口,所述鍍室內(nèi)設(shè)有鍍筒,所述PPR殼體外部一側(cè)設(shè)有待鍍件槽,所述PPR殼體外部另一側(cè)設(shè)有已鍍件槽,所述已鍍件槽底部一側(cè)設(shè)有凸起,所述已鍍件槽底部設(shè)有鍍液流通孔,所述PPR殼體底部一側(cè)設(shè)有鍍液流通管,所述金屬底座一側(cè)設(shè)有鍍液收集槽,所述PPR殼體前部設(shè)有加強筋板,所述加強筋板之間設(shè)有筋板槽,本實用新型外形美觀,結(jié)構(gòu)緊湊,可改善了廠區(qū)及周邊的環(huán)境。
      【IPC分類】C25D17/16
      【公開號】CN205368527
      【申請?zhí)枴緾N201620040072
      【發(fā)明人】葉樹成, 張磊磊
      【申請人】天津市成吉斯賓科技發(fā)展有限公司
      【公開日】2016年7月6日
      【申請日】2016年1月17日
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