專利名稱:自動紅外噴霧控制器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及一種電子控制設(shè)備,尤其是一種自動紅外噴霧控制器。
背景技術(shù):
煤礦粉塵主要存在于采煤、掘進(jìn)、運(yùn)輸?shù)茸鳂I(yè)場所,是粉塵濃度最高的場所。隨著采煤機(jī)械化程度的提高,產(chǎn)塵量也在增大。煤礦粉塵濃度高容易引起火災(zāi)和爆炸,造成安全事故。另外,粉塵對礦工身體健康危害很大,使礦工患上職業(yè)塵肺病。傳統(tǒng)的噴霧降塵方法是采用人工控制或固定模式液控來實(shí)現(xiàn),該方法無法根據(jù)現(xiàn)場實(shí)際情況及時噴霧,降塵效果不好,耗水量大,影響作業(yè)環(huán)境。
發(fā)明內(nèi)容為改變上述傳統(tǒng)噴霧降塵設(shè)備無法根據(jù)現(xiàn)場實(shí)際情況及時噴霧,降塵效果不好, 耗水量大的缺點(diǎn),本實(shí)用新型提供一種自動紅外噴霧控制器。本實(shí)用新型包括主控模塊、紅外定位模塊、電磁閥驅(qū)動模塊、LED照明模塊,其特征在于,主控模塊分別與紅外定位模塊、電磁閥驅(qū)動模塊、LED照明模塊連接,主控模塊通過紅外定位模塊檢測需要進(jìn)行噴霧降塵的位置,通過驅(qū)動電磁閥驅(qū)動模塊進(jìn)行噴霧降塵的開關(guān)控制,通過LED照明模塊實(shí)現(xiàn)礦井下的噴霧狀態(tài)下照明。本實(shí)用新型的有益效果是,采用自動紅外檢測和定位的噴霧降塵模式,提高了設(shè)備的靈活性,具有較高的實(shí)用價值、經(jīng)濟(jì)價值。
圖1是本實(shí)用新型的原理框圖;圖2是本實(shí)用新型的電結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施方式
如圖1所示,本實(shí)用新型包括主控模塊1、紅外定位模塊2、電磁閥驅(qū)動模塊3、LED 照明模塊4,其特征在于主控模塊1分別與紅外定位模塊2、電磁閥驅(qū)動模塊3、LED照明模塊4連接,主控模塊1通過紅外定位模塊2檢測需要進(jìn)行噴霧降塵的位置,通過驅(qū)動電磁閥驅(qū)動模塊3進(jìn)行噴霧降塵的開關(guān)控制,通過LED照明模塊4實(shí)現(xiàn)礦井下的噴霧狀態(tài)下照明。如圖2所示,主控模塊1的控制器選用AVR系列高性能、低功耗的8位AVR微控制器ATmega88。它具有先進(jìn)的RISC結(jié)構(gòu)和8 KB系統(tǒng)內(nèi)可編程的Flash,數(shù)據(jù)吞吐率高達(dá)1 MIPS/ MH ζ,可以緩解系統(tǒng)功耗和處理速度之間的矛盾;工作溫度范圍比較寬, 完全滿足井下環(huán)境要求;控制器電路具有地址設(shè)定和噴霧模式設(shè)定模塊。紅外定位信號發(fā)射電路當(dāng)采煤機(jī)運(yùn)行時,通過安裝在采煤機(jī)上的紅外定位裝置發(fā)射紅外定位信號,控制器上的接收部分接收到信號后即可確定采煤機(jī)的位置。接收到采煤機(jī)信號的控制器作為主控制器,控制位于采煤工作面下風(fēng)向的控制器實(shí)施噴霧降塵作業(yè)。紅外定位電路選用了 Si licon Labs公司的C8051F330單片機(jī)、紅外發(fā)射二極管和一體化接收頭,功耗低,工作穩(wěn)定且信號方向性好。礦井下的照明情況關(guān)系到煤礦的安全生產(chǎn),LED燈屬節(jié)能、隔爆兼本安型,。照明電路選擇1 W的大功率LED,采用降壓型恒流驅(qū)動電路驅(qū)動。驅(qū)動芯片SD42524效率高,可達(dá)96%以上,在輸入/輸出電壓變化時全電壓范圍輸出電流變化控制在 1%之內(nèi);內(nèi)置溫度保護(hù)電路、限流電路、PWM調(diào)光電路。SD42524采用電流模式控制,能提供快速的瞬態(tài)響應(yīng),且環(huán)路穩(wěn)定性設(shè)計(jì)簡單。
權(quán)利要求1. 一種自動紅外噴霧控制器,包括主控模塊(1)、紅外定位模塊(2)、電磁閥驅(qū)動模塊 (3 )、LED照明模塊(4 ),其特征在于,主控模塊(1)分別與紅外定位模塊(2 )、電磁閥驅(qū)動模塊(3)、LED照明模塊(4)連接。
專利摘要一種自動紅外噴霧控制器,包括主控模塊、紅外定位模塊、電磁閥驅(qū)動模塊、LED照明模塊,其特征在于,主控模塊分別與紅外定位模塊、電磁閥驅(qū)動模塊、LED照明模塊連接,主控模塊通過紅外定位模塊檢測需要進(jìn)行噴霧降塵的位置,通過驅(qū)動電磁閥驅(qū)動模塊進(jìn)行噴霧降塵的開關(guān)控制,通過LED照明模塊實(shí)現(xiàn)礦井下的噴霧狀態(tài)下照明。
文檔編號E21F5/04GK202205046SQ20112029224
公開日2012年4月25日 申請日期2011年8月12日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月12日
發(fā)明者李超 申請人:李超