專利名稱：一種渦旋壓縮機(jī)軸向雙浮動(dòng)結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及壓縮機(jī)，尤其涉及渦旋壓縮機(jī)軸向雙浮動(dòng)結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的渦旋式壓縮機(jī)的軸向浮動(dòng)結(jié)構(gòu)多數(shù)為靜渦盤軸向浮動(dòng)、動(dòng)渦盤軸向浮動(dòng)(如圖I所示)及非浮動(dòng)，采用動(dòng)渦盤和靜渦盤齒頂密封圈結(jié)構(gòu)(如圖2所示)。對(duì)應(yīng)靜渦 盤軸向浮動(dòng)和動(dòng)渦盤軸向浮動(dòng)結(jié)構(gòu)的動(dòng)、靜渦盤，一般靜渦盤齒頂與動(dòng)渦盤齒底直接接觸配合，由于渦旋心部與外部溫度不同，通常對(duì)動(dòng)、靜渦盤齒高或齒底進(jìn)行修正，同時(shí)相配合的動(dòng)靜渦盤的齒高配合精度高，一般通過選配或提高加工精度的方法來實(shí)現(xiàn)，加工經(jīng)濟(jì)性不良。另外在特殊エ況有可能會(huì)造成動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的磨損，這種磨損是不可逆的，磨損后造壓縮機(jī)內(nèi)漏増大，造成壓縮機(jī)效率的降低。而對(duì)應(yīng)非浮動(dòng)，采用動(dòng)渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結(jié)構(gòu)，為了防止動(dòng)靜渦盤的咬合卡死現(xiàn)象發(fā)生，動(dòng)、靜渦盤齒頂與齒底兩處均為間隙配合，熱間隙為近百微米，這就造成渦旋泄漏増大，會(huì)造成壓縮機(jī)效率的降低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的，就是為了提供一種可以有效的減小動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的間隙，又可以降低動(dòng)靜渦盤齒高配合精度，改善渦盤的加工經(jīng)濟(jì)性的渦旋壓縮機(jī)軸向雙浮動(dòng)結(jié)構(gòu)。為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用了以下技術(shù)方案一種渦旋壓縮機(jī)軸向雙浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，其特征在于，該渦旋壓縮機(jī)采用靜渦盤軸向浮動(dòng)結(jié)構(gòu)或動(dòng)渦盤軸向浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，同時(shí)在動(dòng)渦盤和靜渦盤齒頂設(shè)置密封槽，放入密封圈，并使動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的兩處配和均為間隙配合。所述的間隙配合的間隙大于渦盤齒熱膨脹的伸長(zhǎng)量，小于非浮動(dòng)、采用動(dòng)渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結(jié)構(gòu)的動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙。所述的渦盤齒熱膨脹的伸長(zhǎng)量為10 30微米。所述的非浮動(dòng)、采用動(dòng)渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結(jié)構(gòu)的動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙為40 150微米。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明是靜渦盤軸向浮動(dòng)結(jié)構(gòu)和動(dòng)渦盤、靜渦盤齒頂密封圈結(jié)構(gòu)的組合或動(dòng)渦盤軸向浮動(dòng)結(jié)構(gòu)和動(dòng)渦盤、靜渦盤齒頂密封圈結(jié)構(gòu)的組合。通過這個(gè)結(jié)構(gòu)使動(dòng)或靜渦盤軸向浮動(dòng)，這種結(jié)構(gòu)既可以有效的減小動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的間隙，又可以降低動(dòng)靜渦盤齒高配合精度，改善渦盤的加工經(jīng)濟(jì)性。


圖I是現(xiàn)有動(dòng)盤軸向浮動(dòng)結(jié)構(gòu)剖視圖；圖2是現(xiàn)有動(dòng)渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結(jié)構(gòu)剖視圖；圖3是本發(fā)明軸向雙浮動(dòng)結(jié)構(gòu)剖視圖。
圖中1-靜渦盤、2-動(dòng)渦盤、3-背壓腔密封圏、4-支架、5-曲軸、6_齒頂密封圏、7_浮動(dòng)間隙、8-間隙。
具體實(shí)施例方式實(shí)施例I如圖3所示，一種渦旋壓縮機(jī)軸向雙浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，包括靜渦盤I、動(dòng)渦盤2、背壓腔密封圈3、支架4、曲軸5、齒頂密封圈6、齒頂密封圈9，靜渦盤I和動(dòng)渦盤2設(shè)置在支架4上，靜渦盤I位于動(dòng)渦盤2上方，靜渦盤I的齒朝下與動(dòng)渦盤2的朝上的齒相匹配，在靜渦盤I的齒頂設(shè)有齒頂密封圈6，動(dòng)渦盤2的齒頂設(shè)有齒頂密封圈9，動(dòng)渦盤2的齒頂與靜渦盤I齒底之間設(shè)有很小的間隙8 ;靜渦盤I的齒頂與動(dòng)渦盤2的齒底之間設(shè)有很小的間隙10。動(dòng)渦盤2設(shè)置在支架4上，動(dòng)渦盤2與支架4之間形成浮動(dòng)間隙7，動(dòng)渦盤2與支架4之間設(shè)有背壓腔密封圈3。該渦旋壓縮機(jī)采用動(dòng)渦盤軸向浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，同時(shí)在動(dòng)、靜渦盤齒頂設(shè)置密封槽，放入密封圈，并使動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的兩處配和均為間隙配合，間隙大于渦盤齒熱膨脹的伸長(zhǎng)量，小于非浮動(dòng)、采用動(dòng)渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結(jié)構(gòu)的動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙，所述的渦盤齒熱膨脹的伸長(zhǎng)量為10微米，所述的非浮動(dòng)、采用動(dòng)渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結(jié)構(gòu)的動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙為40微米，即配合間隙大于10微米，小于40微米。通過這個(gè)結(jié)構(gòu)使動(dòng)或靜渦盤軸向浮動(dòng)，這種結(jié)構(gòu)既可以有效的減小動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的間隙，又可以降低動(dòng)靜渦盤齒高配合精度，改善渦盤的加工經(jīng)濟(jì)性。實(shí)施例2參見圖3，一種渦旋壓縮機(jī)軸向雙浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，該渦旋壓縮機(jī)采用靜渦盤軸向浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，同時(shí)在動(dòng)、靜渦盤齒頂設(shè)置密封槽，放入密封圈，并使動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的兩處配和均為間隙配合，間隙大于渦盤齒熱膨脹的伸長(zhǎng)量，小于非浮動(dòng)、采用動(dòng)渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結(jié)構(gòu)的動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙，所述的渦盤齒熱膨脹的伸長(zhǎng)量為30微米，所述的非浮動(dòng)、采用動(dòng)渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結(jié)構(gòu)的動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙為 150微米，即配合間隙大于30微米，小于150微米。(其余同實(shí)施例I)。
權(quán)利要求
1.一種渦旋壓縮機(jī)軸向雙浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，其特征在于，該渦旋壓縮機(jī)采用靜渦盤軸向浮動(dòng)結(jié)構(gòu)或動(dòng)渦盤軸向浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，同時(shí)在動(dòng)渦盤和靜渦盤齒頂設(shè)置密封槽，放入密封圈，并使動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的兩處配和均為間隙配合。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的渦旋壓縮機(jī)軸向雙浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的間隙配合的間隙大于渦盤齒熱膨脹的伸長(zhǎng)量，小于非浮動(dòng)、采用動(dòng)渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結(jié)構(gòu)的動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的渦旋壓縮機(jī)軸向雙浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的渦盤齒熱膨脹的伸長(zhǎng)量為10 30微米。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的渦旋壓縮機(jī)軸向雙浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的非浮動(dòng)、采用動(dòng)渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結(jié)構(gòu)的動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙為40 150微米。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種渦旋壓縮機(jī)軸向雙浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，該渦旋壓縮機(jī)采用靜渦盤軸向浮動(dòng)結(jié)構(gòu)或動(dòng)渦盤軸向浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，同時(shí)在動(dòng)渦盤和靜渦盤齒頂設(shè)置密封槽，放入密封圈，并使動(dòng)、靜渦盤齒頂與齒底的兩處配和均為間隙配合，間隙大于渦盤齒熱膨脹的伸長(zhǎng)量，小于非浮動(dòng)、采用動(dòng)渦盤與靜渦盤齒頂密封圈結(jié)構(gòu)壓縮機(jī)的動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的配合間隙。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明可以有效的減小動(dòng)靜渦盤齒頂與齒底的泄漏，又可以降低動(dòng)靜渦盤齒高配合精度，改善渦盤的加工經(jīng)濟(jì)性。
文檔編號(hào)F04C18/02GK102678564SQ201110056558
公開日2012年9月19日 申請(qǐng)日期2011年3月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月9日
發(fā)明者宋雪峰, 楊軍, 牟英濤 申請(qǐng)人:上海日立電器有限公司