專利名稱：一種用于渦旋壓縮機的噴射管裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種渦旋壓縮機相關技術，尤其是涉及一種用于渦旋壓縮機的噴
射管裝置。
背景技術：
目前采用噴射技術的渦旋壓縮機類型和缺陷如下一類低壓腔型渦旋壓縮機是靜盤軸向柔性結構，因此不能通過將噴射管通過殼體直接插入靜盤的結構形式。另一類低壓腔型渦旋壓縮機采用的是將噴射管從上殼蓋穿過高壓腔插入到靜盤·的形式，該結構存在用于噴射的冷媒被高壓高溫氣體加熱的問題。高壓腔型渦旋壓縮機采用的是將噴射管通過上殼蓋直接插入靜盤的結構型式，該結構同樣存在用于噴射的冷媒被高壓高溫氣體加熱的問題。

實用新型內容本實用新型的目的就是為了克服上述現有技術存在的缺陷而提供一種結構簡單、可靠、加工成本低、密封性好的用于渦旋壓縮機的噴射管裝置。本實用新型的目的可以通過以下技術方案來實現一種用于渦旋壓縮機的噴射管裝置，所述的渦旋壓縮機包括殼體和設在殼體內的靜盤，其特征在于，所述的噴射管裝置包括噴射管本體和套管，所述的套管穿入殼體并與殼體連接，所述的噴射管本體穿過套管后插入靜盤。所述的套管與殼體焊接。所述的噴射管本體與套管釬焊連接。所述的噴射管本體與靜盤結合部位的外圓上設有至少一道密封溝槽。所述的密封溝槽為一至二道。所述的密封溝槽為O型圈密封溝槽。所述的O型圈密封溝槽中設有O型密封圈。與現有技術相比，本實用新型具有以下優(yōu)點I、噴射管本體直接穿過壓縮機殼體，插入到靜盤中，結構簡單、可靠，加工成本低；2、在噴射管本體與靜盤結合部位的外圓上加工有一到兩道O型圈溝槽，這樣通過O型密封圈實現靜盤內較高壓力的噴射管路與低壓殼體間的密封。

圖I為本實用新型的結構示意圖。
具體實施方式
[0019]
以下結合附圖和具體實施例對本實用新型進行詳細說明。實施例在采用噴液或噴汽增焓的渦旋壓縮機制冷系統(tǒng)上，需要將一定壓力和溫度的液體或汽體冷媒通過壓縮機上的噴射管裝置，向動靜渦盤形成的壓縮腔中進行噴射，以達到降低排溫的及改善性能的目的。如圖I所示，本實用新型的用于渦旋壓縮機的噴射管裝置，所述的渦旋壓縮機包括殼體5和設在殼體5內的靜盤4，所述的噴射管裝置包括噴射管本體I和套管2，所述的套管2穿入殼體5并與殼體5焊接，所述的噴射管本體I穿過套管2后插入靜盤4。所述的噴射管本體I與套管2釬焊連接。所述的噴射管本體I與靜盤4結合部位的外圓上二道O型圈密封溝槽3。所述的O圈型密封溝槽3中設有O型密封圈。這樣通過O型密封圈實現靜盤內較高壓力的噴射管 路與低壓殼體間的密封。
權利要求1.一種用于渦旋壓縮機的噴射管裝置，所述的渦旋壓縮機包括殼體和設在殼體內的靜盤，其特征在于，所述的噴射管裝置包括噴射管本體和套管，所述的套管穿入殼體并與殼體連接，所述的噴射管本體穿過套管后插入靜盤。
2.根據權利要求I所述的一種用于渦旋壓縮機的噴射管裝置，其特征在于，所述的套管與殼體焊接。
3.根據權利要求I所述的一種用于渦旋壓縮機的噴射管裝置，其特征在于，所述的噴射管本體與套管釬焊連接。
4.根據權利要求I所述的一種用于渦旋壓縮機的噴射管裝置，其特征在于，所述的噴射管本體與靜盤結合部位的外圓上設有至少一道密封溝槽。
5.根據權利要求4所述的一種用于渦旋壓縮機的噴射管裝置，其特征在于，所述的密封溝槽為一至二道。
6.根據權利要求4所述的一種用于渦旋壓縮機的噴射管裝置，其特征在于，所述的密封溝槽為O型圈密封溝槽。
7.根據權利要求6所述的一種用于渦旋壓縮機的噴射管裝置，其特征在于，所述的O型圈密封溝槽中設有O型密封圈。
專利摘要本實用新型涉及一種用于渦旋壓縮機的噴射管裝置，所述的渦旋壓縮機包括殼體和設在殼體內的靜盤，所述的噴射管裝置包括噴射管本體和套管，所述的套管穿入殼體并與殼體連接，所述的噴射管本體穿過套管后插入靜盤。與現有技術相比，本實用新型具有結構簡單、可靠、加工成本低、密封性好等優(yōu)點。
文檔編號F04C29/00GK202690457SQ20112052754
公開日2013年1月23日 申請日期2011年12月15日 優(yōu)先權日2011年12月15日
發(fā)明者姚寶旺 申請人:上海日立電器有限公司