專利名稱：一種用于sq200型水汽噴射真空泵的漏盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種針對SQ200型水汽噴射真空泵中的漏盤的改造。
技術(shù)背景水汽噴射真空泵廣泛應(yīng)用于化工、皮革、醫(yī)藥、食品、電子等行業(yè)。是多種類真空泵中，具有操作方便，維修使用成本低，效果明顯的一種獨特的設(shè)備。水汽噴射真空泵是利用流體力學(xué)的不可壓縮液體及可壓縮的氣體原理達到真空的效果。其主要部件漏盤是決定真空度高低的關(guān)鍵部件。現(xiàn)有設(shè)計中的漏盤大都是在圓形漏盤上設(shè)有若干錐形且中心線與中心孔中心線相交于一點的噴射孔。以SQ200型水汽噴射真空泵為例，Sq200的含義是sq代表水汽；200代表標準狀況下每分鐘排出氣體200升，SQ200型水汽噴射真空泵原設(shè)計的漏盤為多孔型，以直徑為270mm的漏盤為例，如圖I所示，其上噴射孔的設(shè)計如表I所示，共四種噴射孔即上Φ8. 5/下Φ6. 5的錐形噴射孔(11) 5個，上Φ7. 5/下Φ5. 5錐形噴射孔(14) 5個，上Φ6. 5/下Φ4. 5錐形噴射孔(13) 5個，Φ8. 6噴射孔(12) I個?？梢娐┍P
(10)上噴射孔數(shù)量多，存在的問題是制造加工成本高，且在使用過程中，由于所抽取真空氣體或水中存在雜質(zhì)，經(jīng)常造成一孔或多孔堵塞或半堵塞狀態(tài)，造成真空度明顯下降，達不到生產(chǎn)要求，迫使停泵停產(chǎn)修理，給企業(yè)造成一定的經(jīng)濟損失。因此，實施對漏盤的技術(shù)改造是解決上述問題的關(guān)鍵所在。表I原漏盤型式及面積計算表
I ；Φ8.5/Φ6,5; 5 丨283,58/W5. S3
Γ 2 !Φ7.5/Φ5.5； 5 I220.78/118.73i . i
3丨Φ&.5/Φ4 5; 5 165.83/79,48
4丨Φ8.6丨 i :58.06/58. OS
5；__； 16 I_728. 25/422.1_|
發(fā)明內(nèi)容為了解決上述問題，本實用新型針對用于SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤進行改進，提供一種一孔代替多孔，能達到最佳真空度的用于SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤。本實用新型采用的技術(shù)方案是一種用于SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤，包括漏盤主體，漏盤主體為圓形，在漏盤主體上設(shè)有一個同軸的噴射孔，噴射孔為圓柱形，漏盤主體的直徑為270mm時，噴射孔的直徑為27mm。從表I可以看出，錐形孔上限截面積合計為728. 25，下限為422. I。為了一孔代替多孔，以達到最佳狀態(tài)。針對噴射孔的孔徑做了實驗，已找到最佳噴射孔的孔徑。結(jié)果見表2。[0008]表2 單孔板實驗數(shù)據(jù)(漏盤直徑為270mm)從表2可見，當漏盤的直徑為270mm時，噴射孔的孔徑為Φ 27時，產(chǎn)生的絕壓為5mmHg,為最佳狀態(tài)。本實用新型效果是本實用新型針對SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤進行了改進。改進后的水力噴射真空泵，以一孔代替多孔，具有真空度高(絕壓為5mmHg)，漏盤不堵塞，制造加工方便，成本低，比原來每臺設(shè)備成本降低三分之一左右。

圖I是現(xiàn)有技術(shù)中用于SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實用新型經(jīng)改造的用于SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
如圖2所示,一種用于SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤,包括漏盤主體(I )，漏盤主體(I)為圓形，在漏盤主體(I)上設(shè)有一個同軸的噴射孔(2)，噴射孔(2)為圓柱形，漏盤主體(I)的直徑為270mm時，噴射孔(2)的直徑為27mm。
權(quán)利要求1.一種用于SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤,包括漏盤主體(I),漏盤主體(I)為圓形，其特征在于在漏盤主體(I)上設(shè)有一個同軸的噴射孔(2)，噴射孔(2)為圓柱形，漏盤主體(!)的直徑為270mm時，噴射孔(2)的直徑為27mm。
專利摘要本實用新型涉及一種用于SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤。采用的技術(shù)方案是包括漏盤主體，漏盤主體為圓形，在漏盤主體上設(shè)有一個同軸的噴射孔，噴射孔為圓柱形，漏盤主體的直徑為270mm時，噴射孔的直徑為27mm。本實用新型針對SQ200型水汽噴射真空泵的漏盤進行了改進。改進后的水力噴射真空泵，以一孔代替多孔，具有真空度高(絕壓為5mmHg)，漏盤不堵塞，制造加工方便，成本低，比原來每臺設(shè)備成本降低三分之一左右。
文檔編號F04F5/44GK202756319SQ20122041106
公開日2013年2月27日 申請日期2012年8月20日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月20日
發(fā)明者王長龍, 姜巖, 曹東輝, 叢日升, 王寅 申請人:王長龍