專利名稱：容器內(nèi)氣體的外漏阻絕方法以及具備內(nèi)部氣體的外漏阻絕構(gòu)造的容器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及阻絕氣體從容器內(nèi)部向外泄漏的方法，以及具備內(nèi)部氣體的外漏阻絕構(gòu)造的容器，該容器由上部開口且具有一定內(nèi)容積的容器本體、以及載置于該容器本體上的閉塞上述開口部的蓋體所構(gòu)成。
其中，例如，在蝕刻工序中會(huì)使用蝕刻裝置，在該裝置的給定容器內(nèi)適當(dāng)配設(shè)有支撐基板的支撐機(jī)構(gòu)、以及配置于基板的上方且對(duì)基板噴射蝕刻液的蝕刻液噴射機(jī)構(gòu)等。并且，在上述支撐機(jī)構(gòu)中具有使所支撐的基板水平旋轉(zhuǎn)的機(jī)構(gòu)或水平搬運(yùn)基板的機(jī)構(gòu)等。
在該蝕刻裝置中，需要定期清潔容器內(nèi)部的污垢，以保持容器內(nèi)部的清潔，并且，在構(gòu)成上述支撐機(jī)構(gòu)或蝕刻液噴射機(jī)構(gòu)的零件等損壞時(shí)，需要更換零件。因此，為了進(jìn)行保養(yǎng)作業(yè)，在構(gòu)成上述蝕刻裝置的容器具備上部開口的構(gòu)造的同時(shí)，也具備利用蓋體來閉塞該開口部的構(gòu)造，如此即可從上部開口部進(jìn)行保養(yǎng)作業(yè)。
然而，上述蝕刻過程中所使用的蝕刻液具有腐蝕性高且易于氣化的性狀，并且當(dāng)蝕刻液從噴射機(jī)構(gòu)噴射出之際將成為霧狀。氣化的蝕刻液氣體或霧狀蝕刻液一旦泄漏到容器外的話，將對(duì)裝置周圍的機(jī)械、器具或人員造成不良的影響。
因此，目前，在上述容器的開口部邊緣與蓋體的接觸部加入密封件類等的密封構(gòu)件，在此狀態(tài)下，以許多螺栓把容器與蓋體鎖在一起，來防止氣化的蝕刻液氣體或霧狀蝕刻液泄漏到容器外。
然而，以許多螺栓把上述容器與蓋體鎖在一起的構(gòu)造上，雖然對(duì)于氣化的蝕刻液氣體或霧狀蝕刻液泄漏到容器外一事有效，但在進(jìn)行保養(yǎng)作業(yè)時(shí)需要進(jìn)行許多螺栓的拆卸及再鎖緊，使得該作業(yè)手續(xù)變得極為繁雜。因此，保養(yǎng)作業(yè)上會(huì)花費(fèi)長時(shí)間，結(jié)果是造成蝕刻裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)率降低。
本發(fā)明涉及一種容器內(nèi)氣體的外漏阻絕方法，用來阻絕容器內(nèi)的氣體向外部泄漏出，該容器由上部開口且具有一定內(nèi)容積的容器本體、以及載置于該容器本體上方的閉塞上述開口部的蓋體所構(gòu)成，其特征在于在所述容器本體的上端部外周形成上部開口的環(huán)狀的凹槽部，該凹槽部內(nèi)可貯存液體，并且在所述蓋體的邊緣，形成從該邊緣部向下垂的下垂部，將該下垂部以其下端部浸泡于所述凹槽部內(nèi)液體中的方式外嵌于所述容器本體的上端部，通過所述凹槽內(nèi)的液體來把容器內(nèi)的環(huán)境與容器外的環(huán)境阻絕開。
另外，本發(fā)明涉及一種具備內(nèi)部氣體的外漏阻絕構(gòu)造的容器，該容器由上部開口且具有一定內(nèi)容積的容器本體、以及載置于該容器本體上方的閉塞上述開口部的蓋體所構(gòu)成，其特征在于在所述容器本體的上端部外周形成上部開口的環(huán)狀的凹槽部，在該凹槽部內(nèi)可貯存液體，并且在蓋體的邊緣，形成從該邊緣部向下垂的下垂部，該下垂部能以其下端部浸泡于所述凹槽部內(nèi)液體中的狀態(tài)外嵌于所述容器本體的上端部。
根據(jù)上述各項(xiàng)發(fā)明，把在蓋體邊緣所形成的下垂部，以其下端部浸泡于凹槽部內(nèi)貯存的液體的方式，外嵌于容器本體的上端部，使得容器內(nèi)環(huán)境與外部環(huán)境被凹槽部內(nèi)的液體所阻絕開。雖容器內(nèi)的環(huán)境有可能經(jīng)由容器本體與蓋體之間的間隙而接觸凹槽部內(nèi)的液體，但卻不會(huì)直接與外部環(huán)境相連通。由此，將確實(shí)防止容器內(nèi)的氣體泄漏到外部。還有，蓋體因僅載置在容器本體上，故其拆卸容易且在短時(shí)間內(nèi)即可完成拆卸的動(dòng)作。
當(dāng)容器內(nèi)部有氣化氣體或液體變成霧狀的東西存在時(shí)，若該氣化氣體或霧狀物相對(duì)于凹槽內(nèi)的液體具有可溶性的話，當(dāng)接觸凹槽內(nèi)液體時(shí)就會(huì)溶入，容器內(nèi)氣化氣體或霧狀物將不會(huì)泄漏到外部。因此即使是腐蝕性極高的液體，諸如顯像液、蝕刻液或剝離液等，也不會(huì)對(duì)容器周圍的機(jī)械、器具或人員造成不良的影響。
在這種情況下，進(jìn)一步在蓋體外邊緣的內(nèi)側(cè)下面，沿上述下垂部形成從上述下面向下垂的第2下垂部，該第2下垂部可內(nèi)嵌于容器本體的上端部。如此一來，便形成一種迷宮構(gòu)造，即容器本體的上端部插入上述蓋體的下垂部與第2下垂部之間，容器本體內(nèi)的氣化氣體或霧狀物就難以到達(dá)上述凹槽內(nèi)的液體。
并且，在上述外漏阻絕方法及具備漏出阻絕構(gòu)造的容器中，也可在上述容器本體的上緣部，設(shè)置一種由彈性體構(gòu)成、且以氣密狀接觸于上述蓋體內(nèi)面的環(huán)狀密封構(gòu)件，利用該密封構(gòu)件來防止容器本體內(nèi)氣體泄漏到外部。
若是如此，通過設(shè)在容器本體的上緣部的環(huán)狀密封構(gòu)件，將防止容器本體內(nèi)的氣體向外部泄漏出。因此，即使在容器內(nèi)部有氣化氣體或霧狀物，該氣化氣體或霧狀物更難到達(dá)上述凹槽內(nèi)的液體。
并且，也可對(duì)上述凹槽內(nèi)不斷地供應(yīng)液體，并且將凹槽內(nèi)的液體不斷地排出，使上述凹槽內(nèi)液體不斷地被更換且其貯存量保持一定。
如上所述，當(dāng)容器內(nèi)部有氣化氣體或霧狀物存在時(shí)，若氣化氣體或霧狀物相對(duì)于凹槽內(nèi)的液體具有可溶性的話，則接觸凹槽內(nèi)的液體時(shí)就會(huì)溶入。因此，若不予理會(huì)的話，溶進(jìn)凹槽內(nèi)液體的氣化氣體成分或霧狀物成分的濃度都將增加。
如上述那樣，因上述凹槽內(nèi)的液體不斷地被更換為新的液體，所以可防止溶進(jìn)凹槽內(nèi)液體的氣化氣體成分或霧狀物成分的濃度都增加。
還有，上述所謂外嵌，是指下垂部相對(duì)于在容器本體的上端部，除了確實(shí)地被嵌合的情形之外，并含有以留有相當(dāng)間隙的方式被嵌合的情形，而內(nèi)嵌也同樣，第2下垂部相對(duì)于容器本體的上端部，除了有確實(shí)地被嵌合的情形之外，并含有以留有相當(dāng)間隙的方式被嵌合的情形。
圖2是

圖1中的B-B方向的剖視圖。
圖3是表示圖2中的A部的放大圖。
圖4是本發(fā)明另一實(shí)施方式的閉蓋及緣板的說明圖。
本發(fā)明的蝕刻裝置1是對(duì)TFT基板施以蝕刻處理的裝置，如圖1及圖2所示，包括由上部開口的容器本體(以下稱槽本體)3和使此槽本體3的開口部11閉塞的閉蓋20所形成的容器(以下稱蝕刻槽)2；配設(shè)于該槽本體3內(nèi)的蝕刻液噴射裝置40；以及以水平方向搬運(yùn)基板K的搬運(yùn)裝置50等。并且，如圖1所示，以直線狀設(shè)置相連的多個(gè)本實(shí)施例的蝕刻裝置1。
如圖1至圖3所示，上述槽本體3由矩狀形的底板8、立設(shè)于該底板8的邊緣的側(cè)面板4、5、6、7、以及在底板8的上方并與其相對(duì)向的頂板9所構(gòu)成，具有由底板8、側(cè)面板4、5、6、7與頂板9所圍繞的給定的內(nèi)容積。
把上述側(cè)面板4、5、6、7設(shè)為分別從頂板9向上延伸的狀態(tài)，在圖1及圖2中，各延伸部的符號(hào)為4a、5a、6a、7a。并且，頂板9具備矩形開口部11，在此開口部11的邊緣立設(shè)緣板10。通過延伸部4a、5a、6a、7a、頂板9及緣板10，在上述開口部11的周圍形成一環(huán)狀凹槽12。并且，在上述緣板10的上端部裝設(shè)截面呈H狀的密封件30，并且在密封件30上槽30a內(nèi)安裝O型環(huán)31。
上述閉蓋20由矩形的蓋本體21、在蓋本體21的邊緣向下垂的第1下垂部22、在上述蓋本體21的邊緣的內(nèi)側(cè)下面且與上述第1下垂部22平行而垂下的第2下垂部23所構(gòu)成。而且，此閉蓋20，在第1下垂部22、第2下垂部23之間插入有上述槽本體3的緣板10的狀態(tài)下，即，在第1下垂部22外嵌于緣板10、且第2下垂部23內(nèi)嵌于緣板10的狀態(tài)下，載置于O型環(huán)31上方，以使其下面與O型環(huán)31氣密性地接觸，使槽本體3的開口部11閉塞。
還有，在蓋本體21上面設(shè)有把手24，以便可以握持此把手24將閉蓋20在槽本體3上進(jìn)行拆裝。并且，在蓋本體21上形成被透明板材所關(guān)閉著的檢窗口25，從該檢窗口25可以觀察槽本體3內(nèi)的情形。
在上述槽本體3的凹槽12內(nèi)配設(shè)有連接于給水源(未圖示)的出水部35，水從該出水部35流至凹槽12內(nèi)。并且，在該凹槽12處設(shè)有排水部36，從上述出水部35流向凹槽12內(nèi)并貯存的水從該排水部36排出。而且，凹槽12內(nèi)所貯存的水量的水位被保持在上述第1下垂部22下端的上方。
如圖2所示，上述搬運(yùn)裝置50具備上下并排著且與紙面垂直的方向上多列配設(shè)的搬運(yùn)滾輪裝置51、52，在把基板K夾持于搬運(yùn)滾輪51、52之間的狀態(tài)下，以與紙面垂直的方向(圖1箭頭所示的C方向)搬運(yùn)。
如圖2所示，上述蝕刻液噴射裝置40由多個(gè)蝕刻液噴嘴41、以及把已加壓的蝕刻液供給上述蝕刻液噴嘴41的蝕刻液供給機(jī)構(gòu)(未圖示)等所組成。蝕刻液噴嘴41在由搬運(yùn)滾輪51、52所搬運(yùn)的基板K的上方，沿著其寬度方向和搬運(yùn)方向來排列，并對(duì)由搬運(yùn)滾輪51、52所搬運(yùn)的基板K的上方噴射蝕刻液。還有，在沿著基板K搬運(yùn)方向的基板K的兩側(cè)，分別排列有與適當(dāng)洗凈液供給裝置(未圖示)連接的洗凈液噴嘴42，從該洗凈液噴嘴42向上述蓋本體21的下面及第2下垂部23噴射洗凈液。
根據(jù)具備以上結(jié)構(gòu)的本實(shí)施例的蝕刻裝置1，基板K被搬運(yùn)滾輪51、52往其搬運(yùn)方向所搬運(yùn)，蝕刻液從蝕刻液噴嘴41向基板K上面噴出。并且，基板K依次被搬運(yùn)到相連成一直線的蝕刻裝置1，并分別在各蝕刻裝置1上受到蝕刻。
蝕刻液具有易于氣化的性狀，并且，當(dāng)從蝕刻液噴嘴41噴出時(shí)會(huì)呈霧狀。并且，氣化的蝕刻液氣體或霧狀物將充滿整個(gè)槽本體3內(nèi)。該氣化的蝕刻液氣體或霧狀物具有極高的腐蝕性，它若從槽本體3向外部泄漏的話，將對(duì)裝置周圍的機(jī)械、器具與人體造成不良的影響。
根據(jù)本實(shí)例的蝕刻裝置1，在構(gòu)成槽本體3的緣板10的上端部裝有密封件30，在裝好的密封件30的上槽30a內(nèi)裝有O型環(huán)31，在氣密性地與該O型環(huán)31接觸的狀態(tài)下，由于成為在該O型環(huán)31上載置閉蓋20的結(jié)構(gòu)，故槽本體3內(nèi)的環(huán)境與外部環(huán)境均被此O型環(huán)31所阻絕開。因此，當(dāng)氣化的蝕刻液氣體或霧狀物要從槽本體3內(nèi)向外部泄漏出時(shí)，則可由該O型環(huán)進(jìn)行第一階段的外漏防止。
另外，在本實(shí)施例的蝕刻裝置1中，因在槽本體3的開口部11周圍形成環(huán)狀的凹槽12，并且在此凹槽12內(nèi)貯存水，把閉蓋20第1下垂部22的下端浸泡在水內(nèi)，故槽本體3內(nèi)的環(huán)境與外部環(huán)境被凹槽12內(nèi)的水所阻絕開。因僅閉蓋20載置于O型環(huán)31的上方，故蓋本體21與O型環(huán)31之間的氣密性未必足夠，從蓋本體21下面與O型環(huán)31之間所產(chǎn)生的間隙中有可能會(huì)有槽本體3內(nèi)的蝕刻液氣體或霧向外部泄漏出。然而，在本實(shí)例的蝕刻裝置1中，如上所述，由第1下垂部22、緣板10、密封件30及O型環(huán)31所包圍的環(huán)境會(huì)被凹槽12內(nèi)所貯存的水阻絕于外部環(huán)境之外，故從蓋本體21下面與O型環(huán)31之間的間隙所泄漏出的蝕刻液氣體或霧狀物會(huì)被凹槽12內(nèi)的水進(jìn)行第2階段阻絕。因此，由于凹槽12內(nèi)的水及上述O型環(huán)31的共同作用，而可確實(shí)防止存在于槽本體3內(nèi)的蝕刻液氣體或霧狀物向外部泄漏。
若從蓋本體21下面與O型環(huán)31之間的間隙所泄漏出的蝕刻液氣體或霧狀物相對(duì)于凹槽12內(nèi)的水具有可溶性的話，在與凹槽12內(nèi)的水接觸時(shí)，就可溶解于水中，故蝕刻液氣體或霧狀物絕不會(huì)向外部泄漏。因此，即使是腐蝕性極高的物品，也不會(huì)對(duì)容器周圍的機(jī)械、器具或人員造成不良的影響。
另一方面，若放著不管的話，溶解于凹槽12內(nèi)水的蝕刻液氣體或霧狀物的成分的濃度會(huì)增加。在本實(shí)施例中，在由出水部35向凹槽12內(nèi)供給水的同時(shí)，也把貯存于凹槽12內(nèi)的水通過排水部36向外排出，因不斷地把凹槽12內(nèi)的水更換為新的水，故可防止溶解于凹槽12內(nèi)的水中的蝕刻液氣體或霧狀物的成分的濃度增加。
并且，由于成為在上述閉蓋20的第1下垂部22與第2下垂部23之間插入有槽本體3的緣板10的狀態(tài)，所以由此形成迷宮構(gòu)造，如此槽本體3內(nèi)的蝕刻液氣體或霧狀物會(huì)更難抵達(dá)蓋本體21下面與O型環(huán)31之間的間隙。因此，這種構(gòu)造也可防止槽本體3內(nèi)的蝕刻液氣體或霧狀物向外部泄漏。
并且，在本實(shí)施例中，在將蓋本體21拆卸下來之前，洗凈液會(huì)從洗凈液噴嘴42向蓋本體21下面及第2下垂部23上噴射。附著于蓋本體21下面及第2下垂部23的蝕刻液將被沖掉，而防止在蓋本體21卸下時(shí)蝕刻液被帶出到外部。
而且，因閉蓋20載置于槽本體3上方，故容易拆卸且能在短時(shí)間內(nèi)即可完成拆卸。因此蝕刻裝置1內(nèi)的保養(yǎng)作業(yè)能夠容易地進(jìn)行。
以上已就本發(fā)明的實(shí)施方式作了說明，但本發(fā)明可采取的具體方式并沒有什么限制。
例如，如上所述，通過設(shè)置上述第2下垂部23、密封件30及O型環(huán)31，就可更有效地防止內(nèi)部氣體的泄漏，另外，也可以不設(shè)置這些，而變成緣板10的上端部與蓋本體21的下面接觸的結(jié)構(gòu)。
若是如此的話，槽本體3內(nèi)的氣體有可能從蓋本體21下面與緣板10的上端面之間的間隙中泄漏出，但由于凹槽12內(nèi)有水貯存其中，故槽本體3內(nèi)的氣體將不可能向外部泄漏。
在這種情形下，供給凹槽12水的出水部35也可以省略。即，如上所述，蓋本體21的下面因被從洗凈液噴嘴42噴出的洗凈液所洗凈，該洗凈液將從蓋本體21下面與緣板10上端面之間的間隙中泄漏出并貯存于凹槽12內(nèi)。其意思是，如圖4所示，也可在緣板10的上端部形成凹部10a，盡量使洗凈液從該凹部10a泄漏出。
產(chǎn)業(yè)上利用的可能性如上所述，本發(fā)明除可應(yīng)用于上述的蝕刻裝置外，也可應(yīng)用于其它各種裝置，例如顯像液涂布裝置、抗蝕膜形成裝置、抗蝕膜剝離裝置或洗凈裝置等。
權(quán)利要求
1.一種容器內(nèi)氣體的外漏阻絕方法，用來阻絕該容器內(nèi)的氣體向外部泄漏，該容器由上部開口且具有一定內(nèi)容積的容器本體、以及載置于該容器本體上方的閉塞所述開口部的蓋體所構(gòu)成，其特征在于在所述容器本體的上端部外周形成上部開口的環(huán)狀的凹槽部，該凹槽部內(nèi)可貯存液體，并且在所述蓋體的邊緣，形成從該邊緣部向下垂的下垂部，將該下垂部以其下端部浸泡于所述凹槽部內(nèi)液體中的方式外嵌于所述容器本體的上端部，通過所述凹槽內(nèi)的液體來把容器內(nèi)的環(huán)境與容器外的環(huán)境阻絕開。
2.如權(quán)利要求1所述的容器內(nèi)氣體的外漏阻絕方法，其特征在于在向所述凹槽內(nèi)不斷地供應(yīng)液體的同時(shí)，將凹槽內(nèi)的液體不斷地排出，使得所述凹槽內(nèi)的液體不斷地被更換且其貯存量保持一定。
3.如權(quán)利要求1或2所述的容器內(nèi)氣體的外漏阻絕方法，其特征在于在所述容器本體的上緣部設(shè)有由彈性體構(gòu)成、且以氣密狀接觸于所述蓋體的內(nèi)面的環(huán)狀的密封構(gòu)件，通過該密封構(gòu)件來防止容器本體內(nèi)的氣體向外部泄漏出。
4.一種具備內(nèi)部氣體的外漏阻絕構(gòu)造的容器，由上部開口且具有一定內(nèi)容積的容器本體、以及載置于容器本體上方的閉塞所述開口部的蓋體所構(gòu)成，其特征在于在所述容器本體的上端部外周形成上部開口的環(huán)狀的凹槽部，在該凹槽部內(nèi)可貯存液體，并且在蓋體的邊緣，形成從該邊緣部向下垂的下垂部，該下垂部能以其下端部浸泡于所述凹槽部內(nèi)液體中的狀態(tài)外嵌于所述容器本體的上端部。
5.如權(quán)利要求4所述的具備內(nèi)部氣體的外漏阻絕構(gòu)造的容器，其特征在于在所述蓋體外邊緣的內(nèi)側(cè)下面，沿所述下垂部形成從所述下面向下垂的第2下垂部，可將該第2下垂部內(nèi)嵌于容器本體的上端部。
6.如權(quán)利要求4或5所述的具備內(nèi)部氣體的外漏阻絕構(gòu)造的容器，其特征在于在所述容器本體的上緣部，設(shè)有由彈性體構(gòu)成、且以氣密狀接觸于蓋體的內(nèi)面的環(huán)狀的密封構(gòu)件。
7.如權(quán)利要求4～6中任一項(xiàng)所述的具備內(nèi)部氣體的外漏阻絕構(gòu)造的容器，其特征在于設(shè)有向所述凹槽內(nèi)供給液體的液體供給機(jī)構(gòu)，并且設(shè)有排出凹槽內(nèi)液體的液體排出機(jī)構(gòu)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種具備確實(shí)可以防止容器氣體向外泄漏的外漏阻絕構(gòu)造的容器。該容器，由上部開口且具有一定的內(nèi)容積的容器本體(3)、以及載置于容器本體(3)上的閉塞開口部(11)的蓋體(21)所構(gòu)成。在容器本體(3)的上端部(10)外周，形成上部開口的環(huán)狀的凹槽部(12)，該凹槽部(12)內(nèi)可以貯存液體。并且，在蓋體(21)的邊緣，形成從該邊緣部向下垂的下垂部，將該下垂部以其下端部浸泡于凹槽部(12)內(nèi)的液體中的狀態(tài)外嵌于容器本體(3)的上端部(10)。
文檔編號(hào)F16J15/10GK1455949SQ02800030
公開日2003年11月12日 申請(qǐng)日期2002年3月8日 優(yōu)先權(quán)日2001年3月30日
發(fā)明者水川茂, 中田勝利, 松元俊二 申請(qǐng)人:住友精密工業(yè)株式會(huì)社