專利名稱：滾動模組保持裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明是關于一種滾動模組保持裝置，其運用于直線傳動組件的滑塊中，該保持裝置可保持滑塊內部滾動模組的方位，亦可提供回流的滾動體平順回流滾動；一般而言直線傳動組件是應用于工具機、電子、自動化設備、半導體設備等機構上。
背景技術：
在習知技術的直線傳動組件中，其滾動模組是由滾動體、隔開滾動體的間隔體及連結間隔體的連結鏈等結構所組成，故回流的導引裝置須配合滾動模組的外形輪廓，一般有下列幾種設計；第一種設計為一體成型的單件結構如美國專利第5755516號，其中的回流導引裝置為一體成形的結構，由于其結構較復雜通常使用射出成形制法，且須考慮回流導引裝置與滑塊的配合公差問題，因此該回流導引裝置控制收縮變形量的困難度增高。況且此回流導引裝置是于單件結構中開設中空的回流管，使?jié)L動模組得通過以完成回流，此構造使?jié)L動模組與回流管的接觸面積相當大，容易產生較大的摩擦阻力，影響滾動模組回流的順暢性。
第二種導引裝置設計則為兩片式結構如美國專利第6524003號，其為兩片半管結構合成管狀體，雖然此設計塑料射出成形的收縮變形問題不會像一體成形結構那么明顯，但因結構較細長會有收縮變形的問題，并且有兩片半管結構彼此搭配及與滑塊中空孔配合等的尺寸公差限制，因此其制造上有相對的困難度。再加上該導引裝置同樣是以包圍滾動模組的方式導引滾動模組，使兩者間的接觸面積相當大，容易產生較大的摩擦阻力，影響滾動模組回流的順暢性。
第三種設計為半片式結構如美國專利第6203199號，此設計類似第二種設計，只不過該結構僅包覆滾動模組的半邊，利用上下壁限制滾動模組，一般而言該設計亦使用塑料成型的方式，所以同樣也會有收縮變形的問題及接觸面積大容易產生較大摩擦阻力的問題。況且收縮變形量若控制不當會導致尺寸誤差，而使?jié)L動模組與該回流的導引裝置產生干涉，嚴重者會讓整組直線傳動組件卡死無法運作。
綜合上述，先前技術的滾動模組保持裝置實有急迫改良精進的必要。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的即在于提供一種滾動模組保持裝置，其可降低摩擦阻力使?jié)L動模組平順地回流循環(huán)，亦可使?jié)L動模組保持在預設的方位中回流。
本發(fā)明首先考慮如何利用有限的回流空間，改善舊有技術中接觸面積大的缺點；所以運用圓形輪廓與多邊形輪廓或圓形輪廓與圓形輪廓接觸面小的概念，發(fā)展本發(fā)明滾動模組保持裝置的接觸輪廓。習知技術為凹入結構設計，以弧輪廓包覆滾動模組而導引滾動模組回流；但本發(fā)明采凸出結構設計，以圓或多邊形外徑的外緣輪廓頂住滾動模組而導引滾動模組回流，使接觸面積可以縮小而降低摩擦阻力，使?jié)L動模組平順地回流循環(huán)。
本發(fā)明采用圓形輪廓與圓形輪廓或多邊形輪廓接觸的設計概念，在回流孔中置入圓形輪廓或多邊形輪廓的棒狀結構，使回流空間形成本發(fā)明所設計的導引空間，讓滾動模組受導引而在預設的方位中回流。
本發(fā)明的棒狀結構可分為單接觸、雙接觸及多接觸等組件結構設計；其中的雙接觸及多接觸結構設計可由復數(shù)的單接觸組件構成或者一體成型的組件形成。并且本發(fā)明的保持裝置固定方式可在滑塊兩端的配件上制作固定配合的凹槽或凸點，而固定在該配件上；亦可在滑塊的兩端面設計固定配合的凹槽或凸點，而將保持裝置固定在滑塊上。
另外，由于本發(fā)明保持裝置的構造簡單，可利用一般的射出方式制造，也可利用金屬棒直接撓曲成型的方式制造，因此能使制造成本相當程度地得著降低。
為了方便進一步了解本發(fā)明的特征及技術內容，請詳細參閱以下有關本發(fā)明的實施方式，然而此實施方式及圖式僅供說明及參考用，而非用以對本發(fā)明做任何限制。


請參閱以下有關本發(fā)明一較佳實施例的詳細說明及其附圖，將可進一步了解本發(fā)明的技術內容及其目的功效；有關該實施例的附圖為圖1為本發(fā)明滑塊組合的示意圖；圖2為圖1保持裝置的細部圖；圖3(A)～(B)為本發(fā)明保持裝置的另一實施例示意圖；圖4(A)～(C)為本發(fā)明保持裝置的第三實施例示意圖；圖5(A)～(D)為本發(fā)明保持裝置與滾動模組的配合關系示意圖；圖6(A)～(D)為本發(fā)明保持裝置與滾動模組的配合關系示意圖；圖7為本發(fā)明保持裝置固定方式的示意圖；圖8為本發(fā)明保持裝置另一固定方式的示意圖。
主要部分代表符號10滑塊11回流孔
12卡合槽20端蓋30滾動模組31間隔體32滾動體33連結鏈34滾動體40保持裝置41保持部42卡合部50保持裝置51保持部52卡合部60保持裝置61保持部62卡合部具體實施方式
圖1為本發(fā)明滑塊組合的示意圖；其中有滑塊10、裝置于滑塊10兩端的端蓋20及包含有間隔體31、滾動體32和連結鏈33的滾動模組30，在滑塊10的回流孔11中設有一具三個保持位置的保持裝置40，以導引滾動模組30保持在預設的方位中回流，而在滑塊10的端面上設有卡合槽12以固定保持裝置40。
本發(fā)明的多接觸設計的保持裝置結構具有兩個以上保持部，圖2為圖1保持裝置的細部圖；該保持裝置40是多接觸結構設計的其中之一實施例，采用一體成型的方式可利用彎曲處作定位；此保持裝置40的三個保持部41分別于圖1回流孔11中的三個位置導引滾動模組30回流，而保持裝置40的卡合部42則與圖1的卡合槽12相配合以固定保持裝置40。
圖3(A)～(B)為本發(fā)明保持裝置的另一實施例示意圖；該保持裝置50是雙接觸設計的結構皆具兩個保持部51；圖3(A)為雙端卡合的設計，其兩端皆設有卡合部52以卡合固定保持裝置50；而圖3(B)為單端卡合的設計，僅一端設有卡合部52可一端卡合固定，另一端則以插入固定保持裝置50。
圖4(A)～(C)為本發(fā)明保持裝置的第三實施例示意圖；該保持裝置60是單接觸設計的結構只具單個保持部61；其固定方式大致分為三種圖4(A)為雙插入固定結構，其保持部61是簡單的圓棒構形(亦可為方棒構形)可插入相配合的組件以固定之；圖4(B)為插入卡合固定結構，其保持部61一端設有卡合部62可卡合固定，另一端則為圖4(A)的插入固定結構；圖4(C)為雙卡合固定結構，其保持部61兩端皆設有卡合部62以卡合固定保持裝置60。
圖5(A)～(D)為本發(fā)明保持裝置與滾動模組的配合關系示意圖；其中的滾動體32為圓珠構形，圖5(A)是利用回流孔11中保持裝置60的保持部61，以兩個位置導引滾動體32并限制連結鏈33，使?jié)L動模組(未標出)在回流孔11中保持預設方位回流；圖5(B)利用回流孔11中保持裝置40的保持部41，以三個位置導引滾動體32在預設的方位中回流；圖5(C)利用回流孔11中保持裝置50的保持部51，以四個位置導引滾動體32在預設的方位中回流；圖5(D)則為各保持裝置互相搭配的設計，利用回流孔11中保持裝置40、50及60的保持部41、51及61，以六個位置導引滾動體32在預設的方位中回流。
圖6(A)～(D)為本發(fā)明保持裝置與滾動模組的配合關系示意圖；其中的滾動體34為圓柱構形，圖6(A)是利用回流孔11中保持裝置50的保持部51，以兩個位置導引滾動體34并限制連結鏈33，使?jié)L動模組(未標出)在回流孔11中保持預設方位回流；圖6(B)利用回流孔11中保持裝置50及60的保持部51及61，以三個位置導引滾動體34在預設的方位中回流；圖6(C)利用回流孔11中保持裝置40及60的保持部41及61，以四個位置導引滾動體34在預設的方位中回流；圖6(D)則利用回流孔11中保持裝置40的保持部41，以六個位置導引滾動體34在預設的方位中回流。
圖7為本發(fā)明保持裝置固定方式的示意圖；其中滑塊10的回流孔11中的保持裝置40，通過保持裝置40的卡合部42以卡合于滑塊10端面的方式，固定于滑塊10的回流孔11中。
圖8為本發(fā)明保持裝置另一固定方式的示意圖；此固定方式運用于無設計卡合部的保持裝置；圖中得知保持裝置的保持部51及61一端無卡合部，因此其固定方法可以直接插入端蓋20預設的配合孔而固定于其上。
上列詳細說明是針對本發(fā)明可行實施例的具體說明，該實施例并非用以限制本發(fā)明的專利范圍，凡未脫離本發(fā)明技藝精神所為的等效實施或變更，均應包含于本案的專利范圍中。
綜上所述，本案不但在空間型態(tài)上確屬創(chuàng)新，并能較習用的技術增進上述多項功效，應已充分符合新穎性及進步性的法定發(fā)明專利要件，故依法提出申請，懇請貴局核準本件發(fā)明專利申請案，以勵創(chuàng)作。
權利要求
1.一種滾動模組保持裝置，設置在直線傳動組件的滑塊的回流孔中，其特征在于該保持裝置具有棒狀結構的保持部，而前述的保持部則分布在前述回流孔的內周圍，使前述回流孔中的空間形成預設的導引空間，讓回流孔中的滾動模組受導引而在預設的方位中回流。
2.按權利要求1所述的滾動模組保持裝置，其特征在于棒狀結構的保持部截面呈圓形輪廓。
3.按權利要求1所述的滾動模組保持裝置，其特征在于棒狀結構的保持部截面呈多邊形輪廓。
4.按權利要求1所述的滾動模組保持裝置，其特征在于保持裝置是多接觸設計的結構，具兩個以上保持部。
5.按權利要求1所述的滾動模組保持裝置，其特征在于保持裝置是雙接觸設計的結構，具兩個保持部。
6.按權利要求1所述的滾動模組保持裝置，其特征在于保持裝置是單接觸設計的結構，具單個保持部。
7.按權利要求1所述的滾動模組保持裝置，其特征在于保持裝置固定于滑塊兩端的端蓋上。
8.按權利要求1所述的滾動模組保持裝置，其特征在于保持裝置的端部具有定位功能的卡合部固定于滑塊上。
9.按權利要求1所述的滾動模組保持裝置，其特征在于保持裝置為利用金屬棒直接撓曲成型的方式制造的保持裝置。
全文摘要
本發(fā)明是關于一種滾動模組保持裝置，該保持裝置設置在直線傳動組件的滑塊的回流孔中，其特征在于保持裝置采凸出結構設計，該結構分布在滑塊回流孔的內周圍，使回流孔中的空間形成預設的導引空間，讓回流孔中的滾動模組受導引而在預設的方位中回流，可使接觸面積縮小而降低摩擦阻力，使?jié)L動模組平順地回流循環(huán)。
文檔編號F16C43/04GK1673559SQ200410033510
公開日2005年9月28日 申請日期2004年3月26日 優(yōu)先權日2004年3月26日
發(fā)明者王靖霈, 周興能 申請人:上銀科技股份有限公司