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      吸盤裝置的制作方法

      文檔序號:5770067閱讀:169來源:國知局
      專利名稱:吸盤裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實用新型的吸盤裝置,尤指一種具簡易結(jié)構(gòu),對吸盤的環(huán)帶式大面積頂?shù)职磯海孕纬山婵諣顟B(tài)吸附的吸附裝置,藉以改善壓制面積及吸附力等問題。
      背景技術(shù)
      按,現(xiàn)有的吸盤,無論是下壓吸附式及上提吸附式設計,為提高吸盤與吸附平面間的吸附效果,都是利用在吸盤外部增設一固定組件,以配合吸盤的下壓或上提動作時,進一步以壓環(huán)或壓肋對吸盤的部份盤面貼抵按壓,使更緊貼吸附于吸附平面,所以該固定組件的設計與按壓結(jié)構(gòu)將直接反應于吸盤的吸附力,所以有良好的結(jié)構(gòu)設計,將會提升吸盤的吸附效果。
      如目前中國臺灣專利第167130號「吸盤輔助裝置」實用新型專利,此專利為一下壓吸附式吸盤設計,其訴求的重點乃是在吸盤外圍套設一外座,外座上方形成一固定環(huán),并于固定環(huán)往外延伸數(shù)根助條,于肋條下方形成一可壓密吸盤的壓條,在吸盤下壓時外座的壓條可壓密吸盤于吸附平面。
      又,目前中國臺灣專利第M250067號「吸盤的結(jié)構(gòu)改良」實用新型專利,此專利為一上提吸附式吸盤設計,其訴求的重點乃是在吸盤外部設一固定件,利用一控制件來帶動吸盤向上提升吸盤呈真空狀態(tài),即可吸附于對象表面,并由固定件設置的環(huán)肋與契合槽壓抵吸盤外緣,壓密吸盤于吸附平面。
      另,目前中國臺灣專利第M263426號「吸盤的結(jié)構(gòu)改良」實用新型專利,此專利為一下壓吸附式吸盤設計,其訴求的重點乃是在一吸附件及一旋控蓋,藉由吸附件吸附于吸附平面后,由旋控蓋旋轉(zhuǎn)貼近吸盤并由其外抵部壓制住吸附件外周緣,使吸附件能貼附吸附平面。
      再,目前中國臺灣專利第M278174號「吸盤改良構(gòu)造」實用新型專利,此專利為一上提吸附式吸盤設計,其訴求的重點乃是在由一吸盤壓座;位于吸盤壓座外部的上蓋,設有轉(zhuǎn)柄及斜槽;吸盤,設有橫向插梢位于上蓋兩側(cè)的斜槽中;彈簧,抵設在吸盤與吸盤壓座間,在上蓋驅(qū)動吸盤向上運動而穩(wěn)固的吸附于平面時,由上蓋及吸盤壓座的端緣壓抵吸盤盤緣以壓密吸盤于吸附平面。
      上述各專利都當吸盤由固定組件壓抵吸附后,配合固定組件上的條狀壓肋或外抵部、外緣等環(huán)狀設計,壓抵吸盤盤緣以壓密吸盤于吸附平面,但無論是條狀壓肋或環(huán)狀設計外抵部、外緣,都僅是一小面積的環(huán)緣或條狀面積,事實上并無法提供足夠的壓抵面積以提升吸盤吸附力,再者,上述各專利案的結(jié)構(gòu)組件復雜,制作成本也高。
      實用新型內(nèi)容本實用新型的主要目的,在于解決上述傳統(tǒng)缺失,避免缺失存在,使本實用新型的吸盤裝置,以簡單架構(gòu)設計,讓使用者簡易操作下壓吸盤產(chǎn)生近真空狀態(tài)吸附于吸附面,并配合環(huán)帶式壓抵面積形成大面積的壓抵提高吸附力,對于吸盤的吸附于平面,改善其壓制面積及吸附力,以提供使用者更簡便,低廉但高吸附力的實用吸盤裝置。
      為達上述目的,本實用新型所采用的技術(shù)方案在于吸盤裝置,包括一固定座,設有一旋控組件;一吸盤,設有一被動件,與上述固定座的旋控組件連結(jié)帶動;一壓制組件,設于固定座內(nèi)對應于吸盤,于其一表面設有環(huán)帶狀面積的壓抵部。
      上述吸盤由旋控組件旋轉(zhuǎn)驅(qū)動,產(chǎn)生向吸附平面下壓動程,以壓出與吸附面間空氣至近乎真空狀態(tài),并由壓制組件的環(huán)帶狀壓抵部形成大面積壓抵,形成更壓密吸盤吸附于吸附平面。
      所述的吸盤裝置,該固定座更包括一頭座及連接于頭座的底盤,頭座上設有框孔以組設上述旋控組件在其內(nèi)轉(zhuǎn)動,底盤設有一穿孔與上述框孔連通,讓吸盤的被動件貫穿鎖合于旋控組件。
      所述的吸盤裝置,該頭座更包括設有一連接組件,包含樞接件、支臂之其一,用以外接支撐架及其它應用對象之其一。
      所述的吸盤裝置,該壓制組件,具有一環(huán)狀本體,于該環(huán)狀本體表面的全部設以環(huán)帶狀面積的壓抵部。
      所述的吸盤裝置,該壓制組件,具有一環(huán)狀本體,于該環(huán)狀本體表面的部份以環(huán)帶狀面積、塊狀面積之其一成型該壓抵部。
      所述的吸盤裝置,該壓抵部是由多數(shù)肋、條、齒、條齒之其一排列組成。
      所述的吸盤裝置,該組成壓抵部的多數(shù)肋、條、齒、條齒之其一,是以斜向、放射狀、斜弧向之其一方式排列。
      所述的吸盤裝置,該壓制組件的環(huán)狀本體的直徑不小于吸盤盤面直徑。
      吸盤裝置,包括一固定座,包含一頭座及底盤,頭座上設有框孔以組設旋控組件,底盤設有一穿孔與上述框孔連通,并于底盤設有至少一以面積形態(tài)布設的壓抵部;一吸盤,設有一被動件,與上述固定座的旋控組件連結(jié)帶動;上述吸盤由旋控組件旋轉(zhuǎn)驅(qū)動,產(chǎn)生向吸附平面下壓動程,以壓出與吸附面間空氣至近乎真空狀態(tài),并由壓制組件的環(huán)帶狀壓抵部形成大面積壓抵,形成更壓密吸盤吸附于吸附平面。
      所述的吸盤裝置,該壓抵部是以環(huán)帶狀、塊狀面積成型于上述固定座底盤。
      使用本實用新型的有益效果在于一種吸盤裝置,包括有一吸盤;用以連接并旋控吸盤吸附動作的固定座;及一設于固定座與吸盤間,具有壓抵部形成環(huán)帶式壓抵面積的壓制組件所構(gòu)成,前述的固定座一體包含一頭座及設于頭座的底盤,另在頭座設有一旋控組件,以旋轉(zhuǎn)驅(qū)動上述吸盤產(chǎn)生一向吸附面下壓的動程,以壓出與吸附面間空氣至近真空狀態(tài),配合壓制組件的環(huán)狀壓肋面積形成大面積的壓制,俾使吸盤具有更佳的吸附效果。
      在本實用新型一較佳實施例中,該固定座更包括在頭座上設有一連接組件用以外接其它對象應用。
      請參閱以下有關(guān)本實用新型一較佳實施例的詳細說明及其附圖,將可進一步了解本實用新型的技術(shù)內(nèi)容及其目的功效;有關(guān)該實施例的附圖。


      圖1為本實用新型一實施例的組合立體圖;圖2為本實用新型一實施例的立體分解圖;圖3為本實用新型一實施例在未吸附狀態(tài)的組合剖視圖;圖4為本實用新型一實施例在吸附狀態(tài)的組合剖視圖;圖5為本實用新型圖3的局部放大圖;圖6為本實用新型圖4的局部放大圖;圖7為本實用新型壓制組件壓抵于吸盤的示意圖;圖8為本實用新型一實施例的應用實例示意圖。
      具體實施方式
      茲有關(guān)本實用新型的技術(shù)內(nèi)容及詳細說明,現(xiàn)配合圖式說明如下請參閱圖1、圖2所示,為本實用新型的吸盤裝置組合及分解立體圖。如圖所示本實用新型的吸盤裝置包括有一吸盤1;用以連接并旋控吸盤吸附動作的固定座2;及一設于固定座2并對應于吸盤1的壓制組件3,以構(gòu)成具有讓使用者簡易操作下壓吸盤產(chǎn)生近乎真空狀態(tài)吸附于吸附面,并配合壓制組件3形成環(huán)帶狀大面積的壓抵,使吸盤更緊密吸附于吸附平面。
      上述的吸盤1,一體設有一被動件11,被動件11外部端面設有螺紋,以貫穿套設于上述固定座2被驅(qū)動產(chǎn)生下壓與上升動作。
      上述所提的固定座2,一體包含有一頭座21及底盤22所構(gòu)成,頭座21上設有一框孔23,以設置一旋控組件24,較佳為一螺母配置于框孔23中可被操作轉(zhuǎn)動,該底盤22呈一圓錐體,并設有一穿孔25貫穿與框孔23連通,以供上述吸盤1的被動件11貫穿對應旋控組件24鎖合,另在頭座21上一體設有一連接組件26,如樞接件6,或者延伸的支臂等之其一,用以外接其它對象,如行動電話、數(shù)字助理(PDA)或衛(wèi)星定位裝置的支撐架5(見圖8所示),或其應用對象。
      所述的壓制組件3,具有一等于或略大于上述吸盤1盤面直徑的環(huán)狀本體31,于其環(huán)狀本體31一表面的全部,或者部份表面積上設有一以環(huán)帶狀、塊狀面積的一成型的壓抵部32,該壓抵部32是由多數(shù)肋、條、齒、條齒之其一排列組成,較佳是以一斜向、放射狀或斜弧向的多數(shù)肋齒其一方式排列。
      上述該壓制組件3,在其它具體實施例結(jié)構(gòu)中,當然也可以直接將該壓制組件3的壓抵部32,以環(huán)帶狀、塊狀面積成型于上述固定座2的底盤22的盤面上,以對應上述吸盤1施加環(huán)帶狀大面積的緊壓抵于吸附平面4。
      請參閱圖3至圖7所示,為本實用新型的吸盤裝置吸附動作的示意圖。如圖所示本實用新型的吸盤裝置根據(jù)上述圖1、圖2所示的組件組成,在對應一吸附平面4進行吸附固定前,該吸盤1透過其被動件11貫穿固定座2底盤22的穿孔25,并與旋控組件24相鎖合等待傳動運作,同時,壓制組件3組設于底盤22內(nèi)側(cè)對應于吸盤1的盤面呈不壓抵狀態(tài),如圖3、圖5所示,當進行吸附定位操作時,使用者僅需轉(zhuǎn)動旋控組件24在該框孔23中旋轉(zhuǎn),利用固定位置的旋控組件24與活動的吸盤1其被動件11的螺紋轉(zhuǎn)動作用,將帶動吸盤1產(chǎn)生向吸附平面4下壓動程,配合此動程,使吸盤1的相對于吸附平面4間的吸附空間逐漸變小,而將吸盤1與吸附平面4間的空氣壓出至近乎真空狀態(tài),使吸盤1的盤面緊貼附于吸附平面4,同時,該固定座2及壓制組件3同步隨該轉(zhuǎn)動操作,亦向吸盤1的盤面緊壓,并使壓制組件3的環(huán)帶狀壓抵部31形成大面積的緊壓抵于吸盤1盤面,使得吸盤1與吸附平面4間產(chǎn)生緊壓貼合的吸附,如圖4、圖6、圖7所示。
      再,請參閱圖8所示,為本實用新型的吸盤裝置一應用實例的示意圖。如圖所示本實用新型的吸盤裝置根據(jù)上述圖1、圖2所示的組件組成,應用頭座21上一體設置的連接組件26,如樞接件6,用以外接一應用于行動電話、數(shù)字助理(PDA)或衛(wèi)星定位裝置的支撐架5,如此,可輕易的將支撐架5以強吸附力狀態(tài)固設于車上任一位置使用。
      上列詳細說明是針對本實用新型的一可行實施例的具體說明,惟該實施例并非用以限制本實用新型的專利范圍,凡未脫離本實用新型技藝精神所為的等效實施或變更,例如等變化的等效性實施例,均應包含于本實用新型專利范圍中。
      綜上所述,本實用新型不但在系統(tǒng)架與運作型態(tài)上確屬創(chuàng)新,并能較現(xiàn)有的物品增進上述多項功效,應已充分符合新穎性及進步性的法定實用新型專利要件,爰依法提出申請,懇請貴局核準本實用新型專利申請案,以勵創(chuàng)作,至感德便。
      權(quán)利要求1.吸盤裝置,其特征在于包括一固定座,設有一旋控組件;一由旋控組件旋轉(zhuǎn)驅(qū)動,產(chǎn)生向吸附平面下壓動程,以壓出與吸附面間空氣至近乎真空狀態(tài)的吸盤,該吸盤設有一被動件,與上述固定座的旋控組件連結(jié)帶動;一壓制組件,設于固定座內(nèi)對應于吸盤,于其一表面設有形成大面積壓抵,形成更壓密吸盤吸附于吸附平面環(huán)帶狀面積的壓抵部。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸盤裝置,其特征在于該固定座更包括一頭座及連接于頭座的底盤,頭座上設有框孔以組設上述旋控組件在其內(nèi)轉(zhuǎn)動,底盤設有一穿孔與上述框孔連通,讓吸盤的被動件貫穿鎖合于旋控組件。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的吸盤裝置,其特征在于該頭座更包括設有一連接組件,包含樞接件、支臂之其一,用以外接支撐架及其它應用對象之其一。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸盤裝置,其特征在于該壓制組件,具有一環(huán)狀本體,于該環(huán)狀本體表面的全部設以環(huán)帶狀面積的壓抵部。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸盤裝置,其特征在于該壓制組件,具有一環(huán)狀本體,于該環(huán)狀本體表面的部份以環(huán)帶狀面積、塊狀面積之其一成型該壓抵部。
      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸盤裝置,其特征在于該壓抵部是由多數(shù)肋、條、齒、條齒之其一排列組成。
      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的吸盤裝置,其特征在于該組成壓抵部的多數(shù)肋、條、齒、條齒之其一,是以斜向、放射狀、斜弧向之其一方式排列。
      8.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的吸盤裝置,其特征在于該壓制組件的環(huán)狀本體的直徑不小于吸盤盤面直徑。
      9.吸盤裝置,其特征在于,包括一固定座,包含一頭座及底盤,頭座上設有框孔以組設旋控組件,底盤設有一穿孔與上述框孔連通,并于底盤設有至少一以面積形態(tài)布設的壓抵部;一由旋控組件旋轉(zhuǎn)驅(qū)動,產(chǎn)生向吸附平面下壓動程,以壓出與吸附面間空氣至近乎真空狀態(tài)的吸盤,該吸盤設有一被動件,與上述固定座的旋控組件連結(jié)帶動。
      10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的吸盤裝置,其特征在于該壓抵部是以環(huán)帶狀、塊狀面積成型于上述固定座底盤。
      專利摘要一種吸盤裝置,包括有一吸盤;用以連接并旋控吸盤吸附動作的固定座;及一設于固定座與吸盤間,具有壓抵部形成環(huán)帶式壓抵面積的壓制組件所構(gòu)成,前述的固定座一體包含一頭座及設于頭座的底盤,另在頭座設有一旋控組件,以旋轉(zhuǎn)驅(qū)動上述吸盤產(chǎn)生一向吸附面下壓的動程,以壓出與吸附面間空氣至近真空狀態(tài),配合壓制組件的環(huán)狀壓肋面積形成大面積的壓制,俾使吸盤具有更佳的吸附效果。
      文檔編號F16B47/00GK2898412SQ20052014424
      公開日2007年5月9日 申請日期2005年12月13日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月13日
      發(fā)明者張達碩 申請人:張達碩
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