專利名稱：一種真空件旋轉密封用磁流體密封裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種真空件旋轉密封用磁流體密封裝置。
背景技術：
為了解決真空件的旋轉密封問題，本發(fā)明人曾設計過一種專用的磁流體密 封裝置，該密封裝置含有殼體、旋蓋、軸承、墊圈、軸套、磁流體密封組件和0
形圈；具體應用時，它暴露出了一大弱點，那就是其上部經(jīng)常有污染物(如酒 精、粉塵等)掉下來，從旋蓋的縫隙進入軸承和磁流體密封組件部位，最終造 成軸承損壞及磁流體失效的惡果，確有改進之必要。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的就是對原有磁流體密封裝置的設計進行改進，以較好解 決真空件的旋轉密封問題。
本實用新型的技術方案是在原有裝置的旋蓋上增設有環(huán)形凹坑，且凹坑
底部接有穿透殼體的斜置排污孔。
具體實施中，上述的斜置排污孔至少有兩個。
本實用新型的有益效果是因為在旋蓋上增設了環(huán)形凹坑，環(huán)形凹坑底部又 接有穿透殼體的斜置排污孔，運行中從上面掉下的粉塵、酒精等污染物就會被 及時排出磁流體密封裝置外，而不至于透過旋蓋的縫隙進入軸承及磁流體密封 組件部位并造成它們的損傷及失效，真可謂措施雖小但其作用卻不能忽視。

圖1是原有真空件旋轉密封用磁流體密封裝置的結構示意圖。 圖2是本實用新型的結構示意圖。圖中，1——殼體，2——旋蓋，3——軸承，4——墊圈，5——軸套，6— 一磁流體密封組件，7——0形圈，8——環(huán)形凹坑，9——斜置排污孔。 .
具體實施方式
從圖2和圖1的對比中可以看出本實用新型與原有技術的差異有兩點其 一，在旋蓋2上增設有一環(huán)形凹坑8;其二，在環(huán)形凹坑8下接有穿透殼體1的 斜置排污孔9。這樣的改進，使得本磁流體密封裝置在工作時，從上面掉下的污 染物如酒精、粉塵等會先進入旋蓋上的環(huán)形凹坑8，然后由穿透殼體l的斜置排 污孔排放出裝置外，從而避免了污染物對軸承和磁流體的損壞，延長了裝置的 使用壽命。
注意，圖2中示出的斜置排污孔有兩個。
權利要求1.一種真空件旋轉密封用磁流體密封裝置，它包括殼體(1)旋蓋(2)、軸承(3)、墊圈(4)、軸套(5)、磁流體密封組件(6)和O形圈(7)，其特征在于在所述旋蓋(2)上增設有環(huán)形凹坑(8)，且環(huán)形凹坑(8)底部接有穿透殼體(1)的斜置排污孔(9)。
2. 根據(jù)權利要求1所述的真空件旋轉密封用磁流體密封裝置，其特征在于， 所述的斜置排污孔(9)至少有一個。
專利摘要本實用新型公開了一種真空件旋轉密封用磁流體密封裝置，它包括殼體、旋蓋、軸承、墊圈、軸套、磁流體密封組件和O形圈，其特征在于在所述旋蓋上增設有環(huán)形凹坑，且環(huán)形凹坑底部接有穿透殼體的斜置排污孔。與原有磁流體密封裝置相比，它不再害怕從上部掉下的污染物(如酒精、粉塵等)經(jīng)過旋蓋縫隙進入軸承和磁流體密封組件部位對二者造成損害，延長了磁流體密封裝置的使用壽命。
文檔編號F16J15/40GK201149092SQ20072006555
公開日2008年11月12日 申請日期2007年12月26日 優(yōu)先權日2007年12月26日
發(fā)明者鄧朝陽 申請人:株洲眾欣科技發(fā)展有限責任公司