專利名稱：一種控制閥閥座的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及氣液控制流通領(lǐng)域，具體的說是一種控制閥閥座。
技術(shù)背景
目前廣泛使用的控制閥閥座多為平面結(jié)構(gòu)，這樣的好處是加工工藝較為簡單，但缺點也很明顯，一是對閥座的光潔度要求較高，二是使用較長時間或壓強較大的管路中時易發(fā)生泄露。發(fā)明內(nèi)容
為解決上述問題，本發(fā)明提供了一種控制閥閥座。
本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的將閥座底部密封面設(shè)置成一個上揚1° -5°傾角的圈體。
本發(fā)明的有益效果是閥座由于上揚圈體產(chǎn)生一個被動的線性密封圈，達(dá)到良好的密封效果。


下面結(jié)合附圖作進一步說明。
附圖是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中1、1° -5°傾角圈體。
具體實施方式
如圖所示，將閥座底部密封面設(shè)置成一個上揚1° -5°傾角的圈體，閥座由于上揚圈體產(chǎn)生一個被動的線性密封圈，達(dá)到良好的密封效果。
權(quán)利要求
1. 一種控制閥閥座，其特征在于，將閥座底部密封面設(shè)置成一個上揚1° -5°傾角的圈體。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種控制閥閥座，將閥座底部密封面設(shè)置成一個上揚1°-5°傾角的圈體，閥座由于上揚圈體產(chǎn)生一個被動的線性密封圈，達(dá)到良好的密封效果。
文檔編號F16K51/00GK102537511SQ201110438548
公開日2012年7月4日 申請日期2011年12月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月25日
發(fā)明者劉業(yè)軍, 劉常成, 劉曉麗, 孫剛, 王宏, 王秀 申請人:山東沃克控制閥有限公司