專利名稱：一種電磁四通閥主閥體結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及電磁四通閥技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種電磁四通閥主閥體結(jié)構(gòu)。
技術(shù)背景見圖1和圖2所示目前的電磁四通閥(或類似閥體)其主閥體01的焊接臺階 011為光滑狀，導(dǎo)致與端蓋02在焊接過程中容易因間隙過大而出現(xiàn)焊劑流入到主閥體01內(nèi)壁的現(xiàn)象，使活塞在工作時與焊劑摩擦而導(dǎo)致閥體性能不良，影響產(chǎn)品的合格率
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的就在于針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足之處而提供一種新的電磁四通閥主閥體結(jié)構(gòu)，它可以避免在焊接過程中焊劑流入主閥體內(nèi)壁而導(dǎo)致閥體性能不良的問題。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型電磁四通閥主閥體結(jié)構(gòu)包括有相互焊接在一起的主閥體和端蓋，其中，主閥體于焊接臺階的內(nèi)側(cè)處成型有環(huán)形凹槽。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選，所述的環(huán)形凹槽為不規(guī)則形狀。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選，所述的環(huán)形凹槽為軸向深入。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選，所述的環(huán)形凹槽為徑向深入。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選，所述的環(huán)形凹槽為斜向深入。本實用新型的有益效果在于由于主閥體在焊接臺階的內(nèi)側(cè)成型有環(huán)形凹槽，主閥體與端蓋在焊接時可以避免焊劑流入主閥體內(nèi)壁而導(dǎo)致的閥體性能不良問題，提高了產(chǎn)品的合格率。


以下結(jié)合附圖對本實用新型做進(jìn)一步的說明圖1為現(xiàn)有四通閥主閥體的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1中A處的局部放大示意圖。圖3為本實用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為圖3中B處的局部放大示意圖。
具體實施方式
見圖3和圖4所示本實用新型的電磁四通閥主閥體結(jié)構(gòu)包括有相互焊接在一起的主閥體10和端蓋20，主閥體10于焊接臺階11的內(nèi)側(cè)處成型有不規(guī)則形狀的環(huán)形凹槽 12 ；該環(huán)形凹槽12的存在，使得主閥體10和端蓋20在焊接時，可以避免焊劑流入主閥體10 內(nèi)壁而影響閥體性能。需要說明的是環(huán)形凹槽12除可為不規(guī)則形狀外，還可為軸向深入、徑向深入、或是斜向深入。
3[0017] 以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，并不因此而限定本實用新型的保護(hù)范圍，凡是依本實用新型所作的均等變化與修飾皆屬于本實用新型涵蓋的專利范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種電磁四通閥主閥體結(jié)構(gòu)，包括有相互焊接在一起的主閥體(10)和端蓋(20)，其特征在于主閥體(10)于焊接臺階(11)的內(nèi)側(cè)處成型有環(huán)形凹槽(12)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁四通閥主閥體結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的環(huán)形凹槽(12) 為不規(guī)則形狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁四通閥主閥體結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的環(huán)形凹槽(12) 為軸向深入。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁四通閥主閥體結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的環(huán)形凹槽(12) 為徑向深入。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁四通閥主閥體結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的環(huán)形凹槽(12) 為斜向深入。
專利摘要本實用新型公開了一種電磁四通閥主閥體結(jié)構(gòu)，它包括有相互焊接在一起的主閥體和端蓋，其中，主閥體于焊接臺階的內(nèi)側(cè)處成型有環(huán)形凹槽。所述的環(huán)形凹槽為不規(guī)則形狀，或是軸向深入、徑向深入、斜向深入。由于主閥體在焊接臺階的內(nèi)側(cè)成型有環(huán)形凹槽，主閥體與端蓋在焊接時可以避免焊劑流入主閥體內(nèi)壁而導(dǎo)致的閥體性能不良問題，提高了產(chǎn)品的合格率。
文檔編號F16K27/10GK202109066SQ20112019047
公開日2012年1月11日 申請日期2011年6月8日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月8日
發(fā)明者孫健, 康志軍 申請人:浙江盾安禾田金屬有限公司