專利名稱：一種真空吸盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬于真空吸附技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種真空吸盤。
技術(shù)背景 真空吸盤多用于自動化制造設(shè)備中，一個或多個一起連接于一臺真空抽吸設(shè)備上，以便完成對工件表面的可靠吸附。真空吸盤的用途非常廣泛，事實上，真空吸盤甚至用于吸附玻璃、預(yù)制混凝土(PC)板。普通混凝土及瓷磚等的光滑表面上，甚至能吸附到這些次材料的涂有圖案的表面上，只要這些表面足夠光滑即可。所以真空吸盤要盡可能地設(shè)計成能吸附于任何光滑的表面，而與形成該表面的材料無關(guān)，另外，還要盡可能的實現(xiàn)低能耗，而目前的真空吸盤在這些方面表面的不盡人意，其結(jié)構(gòu)尚存在亟需改進之處。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種吸附效果較好的真空吸盤。實現(xiàn)本實用新型目的的技術(shù)方案是一種真空吸盤，包括設(shè)有氣流通道的基體和與基體相連的吸附盤；所述吸附盤內(nèi)設(shè)圓錐臺狀喇叭孔；所述吸附盤的內(nèi)壁上設(shè)有排成環(huán)狀的多個凸起的氣流導(dǎo)引件；相鄰兩個氣流導(dǎo)引件之間夾合形成一氣流導(dǎo)引溝槽；所訴各氣流導(dǎo)引件沿著從吸附盤喇叭孔外側(cè)到內(nèi)側(cè)的方向上，其在吸附盤內(nèi)壁上的凸起高度逐漸增大。上述方案中，所述各氣流導(dǎo)引件臺包括兩個相對設(shè)置的導(dǎo)氣凸臺，該兩個導(dǎo)氣凸臺在其相互接近的一端各設(shè)有兩個弧形缺口，該兩個導(dǎo)氣凸臺所夾空間形成一導(dǎo)氣槽；所述各導(dǎo)氣凸臺沿著從吸附盤喇叭孔外側(cè)到內(nèi)側(cè)的方向上，其在吸附盤內(nèi)壁上的凸起高度逐漸增大。上述方案中，所述吸附盤內(nèi)壁上還依次設(shè)有環(huán)形勻氣槽。上述方案中，所述各導(dǎo)氣凸臺遠離基體的外側(cè)端位于該環(huán)形勻氣槽中，各導(dǎo)氣凸臺接近基體的內(nèi)側(cè)端延伸出該環(huán)形勻氣槽。上述方案中，所述吸附盤內(nèi)壁的最外側(cè)設(shè)有一環(huán)形凸臺。上述方案中，所述環(huán)形凸臺的截面形狀呈三角形。上述方案中，所述基體包括輔助吸附平臺、以及用于連接輔助吸附平臺和吸附盤的彈性伸縮區(qū)；所述氣流通道設(shè)置在輔助吸附平臺中心處；所述輔助吸附平臺包括正對吸附盤的內(nèi)側(cè)端開口設(shè)置的輔助吸附區(qū)，該輔助吸附區(qū)上設(shè)有多個排成環(huán)狀的吸附凸臺，各吸附凸臺之間夾合形成與所述氣流通道連通的吸附槽。本實用新型具有積極的效果(I)本實用新型中，所述吸附盤的內(nèi)壁上設(shè)有排成環(huán)狀的多個凸起的氣流導(dǎo)引件；相鄰兩個氣流導(dǎo)引件之間夾合形成一氣流導(dǎo)引溝槽；所訴各氣流導(dǎo)引件沿著從吸附盤喇叭孔外側(cè)到內(nèi)側(cè)的方向上，其在吸附盤內(nèi)壁上的凸起高度逐漸增大。這種結(jié)構(gòu)既可以保證有氣流均勻的從吸附盤內(nèi)壁與工件外表面之間的空隙中進入到基體的氣流通道，又可以充分縮小吸附盤內(nèi)壁與工件外表面之間的整體空隙，從而在吸附住工件時，有效減小從吸附盤內(nèi)壁與工件外表面之間的空隙中進入到基體上氣流通道的氣流流量，從可以以極低的耗能維持吸附盤內(nèi)的真空度，從而獲得較好的吸附效果。(2)本實用新型中，所述各氣流導(dǎo)引件臺包括兩個相對設(shè)置的導(dǎo)氣凸臺，該兩個導(dǎo)氣凸臺在其相互接近的一端各設(shè)有兩個弧形缺口，該兩個導(dǎo)氣凸臺所夾空間形成一導(dǎo)氣槽；這種結(jié)構(gòu)在引導(dǎo)吸附氣流時，具有較好的導(dǎo)引效果。(3)本實用新型中，所述吸附盤內(nèi)壁在所述氣流導(dǎo)引件的外側(cè)還依次設(shè)有環(huán)形勻氣槽，該環(huán)形勻氣槽可以保證吸附氣流均勻進入各氣流導(dǎo)引溝槽中。(4)本實用新型中，所述基體包括輔助吸附平臺、以及用于連接輔助吸附平臺和吸附盤的彈性伸縮區(qū)；所述氣流通道設(shè)置在輔助吸附平臺中心處；所述輔助吸附平臺包括正對吸附盤的內(nèi)側(cè)端開口設(shè)置的輔助吸附區(qū)，該輔助吸附區(qū)上設(shè)有多個排成環(huán)狀的吸附凸 臺，各吸附凸臺之間夾合形成與所述氣流通道連通的吸附槽。這種結(jié)構(gòu)主要用于吸附較重工件或表面較為粗糙的工件，吸附時，不僅整個吸附盤附著在工件表面上，所述輔助吸附平臺的輔助吸附區(qū)也附著在工件表面上，從而獲得更大的吸附力。

圖I是本實用新型的一種立體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是圖I所示真空吸盤從另一角度觀察時的另一種立體結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是圖I所不真空吸盤的一種正視圖；圖4是圖3所示真空吸盤的A-A剖視圖；圖5是圖4中B處的局部放大示意圖。附圖所示標記為基體1，氣流通道11，吸附盤2，氣流導(dǎo)引件3，導(dǎo)氣凸臺31，弧形缺口 311，導(dǎo)氣槽312，氣流導(dǎo)引溝槽4，環(huán)形勻氣槽5，環(huán)形凸臺6，輔助吸附平臺7，輔助吸附區(qū)71，吸附凸臺72，吸附槽73，彈性伸縮區(qū)8。
具體實施方式
(實施例I)圖I至圖5公開了本實用新型的一種具體實施方式
，其中圖I是本實用新型的一種立體結(jié)構(gòu)不意圖；圖2是圖I所不真空吸盤從另一角度觀察時的另一種立體結(jié)構(gòu)不意圖；圖3是圖I所不真空吸盤的一種正視圖；圖4是圖3所不真空吸盤的A-A首I]視圖；圖5是圖4中B處的局部放大示意圖。本實用新型是一種真空吸盤，見圖I至圖5，包括設(shè)有氣流通道11的基體I和與基體I相連的吸附盤2。所述吸附盤2內(nèi)設(shè)圓錐臺狀喇叭孔；所述吸附盤2的內(nèi)壁上設(shè)有排成環(huán)狀的多個凸起的氣流導(dǎo)引件3 ;相鄰兩個氣流導(dǎo)引件3之間夾合形成一氣流導(dǎo)引溝槽4 ;所訴各氣流導(dǎo)引件3沿著從吸附盤2喇叭孔外側(cè)到內(nèi)側(cè)的方向上，其在吸附盤2內(nèi)壁上的凸起高度逐漸增大。所述各氣流導(dǎo)引件3臺包括兩個相對設(shè)置的導(dǎo)氣凸臺31，該兩個導(dǎo)氣凸臺31在其相互接近的一端各設(shè)有兩個弧形缺口 311，該兩個導(dǎo)氣凸臺31所夾空間形成一導(dǎo)氣槽312 ；所述各導(dǎo)氣凸臺31沿著從吸附盤2喇叭孔外側(cè)到內(nèi)側(cè)的方向上，其在吸附盤2內(nèi)壁上的凸起高度逐漸增大。所述吸附盤2內(nèi)壁上還依次設(shè)有環(huán)形勻氣槽5，所述各導(dǎo)氣凸臺31遠離基體I的外側(cè)端位于該環(huán)形勻氣槽5中，各導(dǎo)氣凸臺31接近基體I的內(nèi)側(cè)端延伸出該環(huán)形勻氣槽5。所述吸附盤2內(nèi)壁的最外側(cè)設(shè)有一環(huán)形凸臺6，該環(huán)形凸臺6的截面形狀呈三角形。本實施例中，所述基體I包括輔助吸附平臺7、以及用于連接輔助吸附平臺7和吸附盤2的彈性伸縮區(qū)8 ;所述氣流通道11設(shè)置在輔助吸附平臺7中心處；所述輔助吸附平臺7包括正對吸附盤2的內(nèi)側(cè)端開口設(shè)置的輔助吸附區(qū)71，該輔助吸附區(qū)71上設(shè)有多個排成環(huán)狀的吸附凸臺72，各吸附凸臺72之間夾合形成與所述氣流通道11連通的吸附槽73。本實施例具有積極的效果 (I)本實施例中，所述吸附盤2的內(nèi)壁上設(shè)有排成環(huán)狀的多個凸起的氣流導(dǎo)引件
3;相鄰兩個氣流導(dǎo)引件3之間夾合形成一氣流導(dǎo)引溝槽4 ;所訴各氣流導(dǎo)引件3沿著從吸附盤2喇叭孔外側(cè)到內(nèi)側(cè)的方向上，其在吸附盤2內(nèi)壁上的凸起高度逐漸增大。這種結(jié)構(gòu)既可以保證有氣流均勻的從吸附盤內(nèi)壁與工件外表面之間的空隙中進入到基體的氣流通道，又可以充分縮小吸附盤內(nèi)壁與工件外表面之間的整體空隙，從而在吸附住工件時，有效減小從吸附盤內(nèi)壁與工件外表面之間的空隙中進入到基體上氣流通道的氣流流量，從可以以極低的耗能維持吸附盤內(nèi)的真空度，從而獲得較好的吸附效果。(2)本實施例中，所述各氣流導(dǎo)引件3臺包括兩個相對設(shè)置的導(dǎo)氣凸臺31，該兩個導(dǎo)氣凸臺31在其相互接近的一端各設(shè)有兩個弧形缺口 311，該兩個導(dǎo)氣凸臺31所夾空間形成一導(dǎo)氣槽312 ;這種結(jié)構(gòu)在引導(dǎo)吸附氣流時，具有較好的導(dǎo)引效果。(3)本實施例中，所述吸附盤2內(nèi)壁在所述氣流導(dǎo)引件3的外側(cè)還依次設(shè)有環(huán)形勻氣槽5，該環(huán)形勻氣槽可以保證吸附氣流均勻進入各氣流導(dǎo)引溝槽中。(4)本實施例中，所述基體I包括輔助吸附平臺7、以及用于連接輔助吸附平臺7和吸附盤2的彈性伸縮區(qū)8 ;所述氣流通道11設(shè)置在輔助吸附平臺7中心處；所述輔助吸附平臺7包括正對吸附盤2的內(nèi)側(cè)端開口設(shè)置的輔助吸附區(qū)71，該輔助吸附區(qū)71上設(shè)有多個排成環(huán)狀的吸附凸臺72，各吸附凸臺72之間夾合形成與所述氣流通道11連通的吸附槽73。這種結(jié)構(gòu)主要用于吸附較重工件或表面較為粗糙的工件，吸附時，不僅整個吸附盤附著在工件表面上，所述輔助吸附平臺的輔助吸附區(qū)也附著在工件表面上，從而獲得更大的吸附力。顯然，本實用新型的上述實施例僅僅是為清楚地說明本實用新型所作的舉例，而并非是對本實用新型的實施方式的限定。對于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在上述說明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。而這些屬于本實用新型的實質(zhì)精神所引伸出的顯而易見的變化或變動仍屬于本實用新型的保護范圍。
權(quán)利要求1.一種真空吸盤，包括設(shè)有氣流通道(11)的基體(I)和與基體(I)相連的吸附盤(2);所述吸附盤(2)內(nèi)設(shè)圓錐臺狀喇叭孔；其特征在于所述吸附盤(2)的內(nèi)壁上設(shè)有排成環(huán)狀的多個凸起的氣流導(dǎo)引件(3);相鄰兩個氣流導(dǎo)引件(3)之間夾合形成一氣流導(dǎo)引溝槽(4);所訴各氣流導(dǎo)引件(3)沿著從吸附盤(2)喇叭孔外側(cè)到內(nèi)側(cè)的方向上，其在吸附盤(2)內(nèi)壁上的凸起高度逐漸增大。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的真空吸盤，其特征在于所述各氣流導(dǎo)引件(3)臺包括兩個相對設(shè)置的導(dǎo)氣凸臺(31)，該兩個導(dǎo)氣凸臺(31)在其相互接近的一端各設(shè)有兩個弧形缺口(311)，該兩個導(dǎo)氣凸臺(31)所夾空間形成一導(dǎo)氣槽(312);所述各導(dǎo)氣凸臺(31)沿著從吸附盤(2)喇叭孔外側(cè)到內(nèi)側(cè)的方向上，其在吸附盤(2)內(nèi)壁上的凸起高度逐漸增大。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空吸盤，其特征在于所述吸附盤(2)內(nèi)壁上還依次設(shè)有環(huán)形勻氣槽(5)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空吸盤，其特征在于所述各導(dǎo)氣凸臺(31)遠離基體(I) 的外側(cè)端位于該環(huán)形勻氣槽(5)中，各導(dǎo)氣凸臺(31)接近基體(I)的內(nèi)側(cè)端延伸出該環(huán)形勻氣槽(5)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空吸盤，其特征在于所述吸附盤(2)內(nèi)壁的最外側(cè)設(shè)有一環(huán)形凸臺(6)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空吸盤，其特征在于所述環(huán)形凸臺(6)的截面形狀呈三角形。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的真空吸盤，其特征在于所述基體(I)包括輔助吸附平臺(7)、以及用于連接輔助吸附平臺(7)和吸附盤(2)的彈性伸縮區(qū)(8);所述氣流通道(11)設(shè)置在輔助吸附平臺(7)中心處；所述輔助吸附平臺(7)包括正對吸附盤(2)的內(nèi)側(cè)端開口設(shè)置的輔助吸附區(qū)(71)，該輔助吸附區(qū)(71)上設(shè)有多個排成環(huán)狀的吸附凸臺(72)，各吸附凸臺(72)之間夾合形成與所述氣流通道(11)連通的吸附槽(73)。
專利摘要本實用新型公開了一種真空吸盤，包括設(shè)有氣流通道的基體和與基體相連的吸附盤；所述吸附盤內(nèi)設(shè)圓錐臺狀喇叭孔；所述吸附盤的內(nèi)壁上設(shè)有排成環(huán)狀的多個凸起的氣流導(dǎo)引件；相鄰兩個氣流導(dǎo)引件之間夾合形成一氣流導(dǎo)引溝槽；所訴各氣流導(dǎo)引件沿著從吸附盤喇叭孔外側(cè)到內(nèi)側(cè)的方向上，其在吸附盤內(nèi)壁上的凸起高度逐漸增大。本實用新型中，既可以保證有氣流均勻的從吸附盤內(nèi)壁與工件外表面之間的空隙中進入到基體的氣流通道，又可以有效減小從吸附盤內(nèi)壁與工件外表面之間的空隙中進入到基體上氣流通道的氣流流量，從可以以極低的耗能維持吸附盤內(nèi)的真空度，從而獲得較好的吸附效果。
文檔編號F16B47/00GK202510536SQ201220165010
公開日2012年10月31日 申請日期2012年4月18日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月18日
發(fā)明者胡文靜 申請人:溫州阿爾貝斯氣動有限公司