閘閥和基板處理裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供能夠抑制微粒下落到輸送中的基板上的閘閥和使用這樣的閘閥的基板處理裝置。閘閥(70a)是用于對處理室(30a)的輸入輸出口進行開閉的構(gòu)件，該閘閥具有：壁部(71b)，在該壁部上形成有與輸入輸出口(61a)相連通的開口部(71a)；閥芯(72)，其用于開閉開口部；閥芯移動部(73)，其用于使閥芯在閉塞開口部的閉塞位置與自開口部退避了的退避位置之間移動；第1密封部(81)，其設(shè)置在壁部的開口部的周圍；以及第2密封部(82)，其設(shè)于閥芯，在閥芯閉塞開口部時，該第2密封部在與第1密封部相對應(yīng)的位置同第1密封部配合地將閥芯和壁部之間密封。第1密封部具有微粒保持部(85)，該微粒保持部用于對從密封部分的周圍脫離的微粒進行保持。
【專利說明】
閘閥和基板處理裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及在對基板實施規(guī)定處理的處理裝置中的處理室的開閉所使用的閘閥和使用該閘閥的基板處理裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]公知有一種處理裝置中的具有多個處理室的多殼體型處理系統(tǒng)，該處理裝置用于以液晶顯示器(LCD)為代表的平板顯示器(FPD)、太陽能電池等的制造過程中對大型的玻璃基板實施蝕刻、成膜等規(guī)定的處理(例如專利文獻I)。
[0003]該種多殼體型的基板處理系統(tǒng)具有共用輸送室，在該共用輸送室中設(shè)有用于輸送基板(被處理體)的輸送裝置，在該共用輸送室的周圍設(shè)有處理室、加載互鎖真空室等，該加載互鎖真空室用于在共用輸送室與大氣壓氣氛之間交換未處理的基板和處理完畢的基板。上述共用輸送室、處理室以及加載互鎖真空室均通過使用排氣機構(gòu)進行排氣而使內(nèi)部成為真空狀態(tài)，從而作為真空容器發(fā)揮作用。
[0004]在上述處理室、加載互鎖真空室等真空容器上設(shè)有用于搬入搬出被處理體的開口部，利用閘閥開閉開口部。通過利用閘閥關(guān)閉開口部，能夠氣密地密封處理室、加載互鎖真空室的內(nèi)部。
[0005]如上述專利文獻I所記載的那樣，閘閥具有:殼體，在該殼體上形成有與用于將處理室的基板輸入輸出的輸入輸出口相連通的開口部；閥芯，其用于開閉開口部；以及驅(qū)動部，其用于驅(qū)動閥芯。在形成有殼體的開口部的壁部的開口部的周圍部分具有密封部，在閥芯位于開口部的狀態(tài)下，通過將閥芯向設(shè)于密封部的O型密封圈按壓，從而將開口部密閉。
[0006]專利文獻1:日本特開平5 — 196150號公報


【發(fā)明內(nèi)容】

_7] 發(fā)明要解決的問題
[0008]另外，在處理裝置進行基于氣相反應(yīng)的成膜處理的情況下，處理氣體的成分會蔓延到開口部的周圍，由此，有時因氣相反應(yīng)而產(chǎn)生堆積物且該堆積物作為微粒附著。尤其是，由于密封部的周圍為密閉空間，因此，容易產(chǎn)生由處理氣體的成分構(gòu)成的堆積物。在該情況下，閘閥(閥芯)的開閉動作使附著在密封部的周圍的微粒變得不穩(wěn)定，從而微粒有可能下落到輸送中的基板上。若微粒下落到基板上時，則會導(dǎo)致缺陷，從而產(chǎn)生產(chǎn)品不良。
[0009]本發(fā)明是考慮到該情況而做出的，其課題在于，提供能夠抑制微粒下落到輸送中的基板上的閘閥和使用這樣的閘閥的基板處理裝置。
[0010]用于解決問題的方案
[0011]為了解決上述課題，本發(fā)明的第I技術(shù)方案提供一種閘閥，其是對基板實施規(guī)定處理的處理裝置中的處理室的輸入輸出口的開閉所使用的閘閥，其特征在于，該閘閥具有:壁部，在該壁部上形成有與上述輸入輸出口相連通的開口部；閥芯，其用于開閉上述開口部；閥芯移動部，其用于使上述閥芯在閉塞上述開口部的閉塞位置與自上述開口部退避了的退避位置之間移動；第I密封部，其設(shè)置在上述壁部的開口部的周圍；以及第2密封部，其設(shè)于上述閥芯，在上述閥芯閉塞上述開口部時，該第2密封部在與上述第I密封部相對應(yīng)的位置同上述第I密封部配合地將上述閥芯與上述壁部之間密封，上述第I密封部具有微粒保持部，該微粒保持部用于對從由上述第I密封部和上述第2密封部形成的密封部分的周圍脫離的微粒進行保持。
[0012]在上述第I技術(shù)方案中，能夠構(gòu)成為，上述微粒保持部具有構(gòu)成環(huán)狀的第I凹部，該第I凹部以圍繞上述開口部的方式設(shè)于上述壁部的靠上述閥芯側(cè)的位置。能夠設(shè)置為，上述第I凹部形成于以圍繞上述開口部的方式突出地設(shè)置的兩個框部之間或者形成于上述壁部的靠上述閥芯側(cè)的面。能夠構(gòu)成為，上述第2密封部在上述閥芯的閉塞上述開口部的閉塞面上具有能夠插入上述第I凹部的環(huán)狀的突出部。或者，能夠構(gòu)成為，上述第2密封部具有形成于上述閥芯的呈環(huán)狀的第2凹部，以使得上述第2密封部與上述第I密封部之間形成迷宮密封。在該情況下，能夠設(shè)置為，上述第2凹部形成于上述閥芯的上述閉塞面或者形成于以自上述閉塞面突出的方式設(shè)置的兩個框部之間。
[0013]在上述第I技術(shù)方案中，能夠構(gòu)成為，上述微粒保持部具有以圍繞上述開口部的方式自上述壁部的靠上述閥芯側(cè)的面突出地設(shè)置的框部。在該情況下，能夠構(gòu)成為，上述第2密封部在上述閥芯的閉塞上述開口部的閉塞面上具有供上述框部插入的凹部。
[0014]在上述第I技術(shù)方案中，能夠構(gòu)成為，上述微粒保持部具有以自上述壁部的靠上述閥芯側(cè)的面呈檐狀突出的方式設(shè)于上述開口部的上側(cè)的突出部。在該情況下，能夠構(gòu)成為，上述第2密封部在上述閥芯的閉塞上述開口部的閉塞面上具有供上述突出部插入的凹部。
[0015]在上述第I技術(shù)方案中，能夠設(shè)置為，上述第I密封部和上述第2密封部中的一個密封部具有密封構(gòu)件，上述第I密封部和上述第2密封部中的另一個密封部具有與上述密封構(gòu)件相接觸的密封面，在上述閥芯閉塞上述開口部時，上述密封構(gòu)件被按壓于上述密封面。
[0016]在上述第I技術(shù)方案中，也可以構(gòu)成為，上述閥芯具有靠上述閥芯移動部側(cè)的第I部分和包括上述閉塞面的第2部分，上述第2部分以能夠自上述第I部分分離的方式構(gòu)成。
[0017]在該情況下，優(yōu)選的是，使上述第2部分構(gòu)成為能夠自上述處理室側(cè)分離。
[0018]在上述第I技術(shù)方案中，能夠設(shè)置為，上述處理裝置用于處理多張基板，上述處理室具有用于處理多張基板的多個處理空間，上述輸入輸出口以與多個上述處理空間相對應(yīng)的方式設(shè)有多個，在上述壁部上，以與多個上述輸入輸出口相對應(yīng)的方式設(shè)有多個上述開口部，以與多個上述開口部相對應(yīng)的方式具有多個上述閥芯。
[0019]本發(fā)明的第2技術(shù)方案提供一種基板處理裝置，其特征在于，該基板處理裝置具有:處理室，其用于處理基板；處理機構(gòu)，其用于在上述處理室內(nèi)進行規(guī)定處理；以及閘閥，其用于對設(shè)于上述處理室的基板的輸入輸出口進行開閉，上述閘閥具有:壁部，在該壁部上形成有與上述輸入輸出口相連通的開口部；閥芯，其用于開閉上述開口部；閥芯移動部，其用于使上述閥芯在閉塞上述開口部的閉塞位置與自上述開口部退避了的退避位置之間移動；第I密封部，其設(shè)置在上述壁部的開口部的周圍；以及第2密封部，其設(shè)于上述閥芯，在上述閥芯閉塞上述開口部時，該第2密封部在與上述第I密封部相對應(yīng)的位置同上述第I密封部配合地將上述閥芯與上述壁部之間密封，上述第I密封部具有微粒保持部，該微粒保持部用于對從由上述第I密封部和上述第2密封部形成的密封部分的周圍脫離的微粒進行保持。
[0020]在上述第2技術(shù)方案中，能夠設(shè)置為，上述處理室具有用于處理多張基板的多個處理空間，上述輸入輸出口以與多個上述處理空間相對應(yīng)的方式設(shè)有多個，上述閘閥在上述壁部上以與多個上述輸入輸出口相對應(yīng)的方式具有多個上述開口部，并以與多個上述開口部相對應(yīng)的方式具有多個上述閥芯。
[0021]發(fā)明的效果
[0022]采用本發(fā)明，在具有在形成有開口部的壁部的開口部的周圍設(shè)置的第I密封部和設(shè)于閥芯的、在閥芯閉塞開口部時在與第I密封部相對應(yīng)的位置同第I密封部配合地將閥芯與壁部之間密封的第2密封部的閘閥中，由于在第I密封部上設(shè)置了用于對附著在開口部的周圍的微粒進行保持的微粒保持部，因此能夠抑制微粒下落到輸送中的基板上。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0023]圖1是概略地表示具有本發(fā)明的第I實施方式的閘閥的基板處理系統(tǒng)的俯視圖。
[0024]圖2是表示本發(fā)明的第I實施方式的閘閥的基本例子的縱剖視圖。
[0025]圖3是表示本發(fā)明的第I實施方式的閘閥的基本例子中的第I密封部的主視圖。
[0026]圖4是表示本發(fā)明的第I實施方式中的閘閥的基本例子中的閥芯的主視圖。
[0027]圖5是用于說明本發(fā)明的第I實施方式中的閘閥的動作的圖。
[0028]圖6是用于說明在以往的閘閥中微粒下落到輸送中的基板上的現(xiàn)象的圖。
[0029]圖7是表示將在使用本發(fā)明的第I實施方式中的閘閥時的打開閘閥而輸送基板的狀態(tài)的圖。
[0030]圖8是表示本發(fā)明的第I實施方式中的閘閥的第I變形例的縱剖視圖。
[0031]圖9是表示本發(fā)明的第I實施方式中的閘閥的第2變形例的縱剖視圖。
[0032]圖10是表示本發(fā)明的第I實施方式中的閘閥的第3變形例的縱剖視圖。
[0033]圖11是表示本發(fā)明的第I實施方式中的閘閥的第4變形例的縱剖視圖。
[0034]圖12是表示本發(fā)明的第I實施方式中的閘閥的第5變形例的縱剖視圖。
[0035]圖13是表示考慮到本發(fā)明的第I實施方式的閘閥的維護性的第I結(jié)構(gòu)例的縱剖視圖。
[0036]圖14是說明在維護第I結(jié)構(gòu)例的閘閥時的動作的圖。
[0037]圖15是表示考慮到本發(fā)明的第I實施方式的閘閥的維護性的第2結(jié)構(gòu)例的縱剖視圖。
[0038]圖16是說明在維護第2結(jié)構(gòu)例的閘閥時的動作的圖。
[0039]圖17是表示考慮到本發(fā)明的第I實施方式的閘閥的維護性的第3結(jié)構(gòu)例的縱剖視圖。
[0040]圖18是說明在維護第3結(jié)構(gòu)例的閘閥時的動作的圖。
[0041]圖19是表示考慮到本發(fā)明的第I實施方式的閘閥的維護性的第4結(jié)構(gòu)例的縱剖視圖。
[0042]圖20是說明在維護第4結(jié)構(gòu)例的閘閥時的動作的圖。
[0043]圖21是表示考慮到本發(fā)明的第I實施方式的閘閥的維護性的第5結(jié)構(gòu)例的縱剖視圖。
[0044]圖22是說明在維護第5結(jié)構(gòu)例的閘閥時的動作的圖。
[0045]圖23是表示具有本發(fā)明的第2實施方式的閘閥的基板處理系統(tǒng)所使用的基板輸送裝置的側(cè)視圖。
[0046]圖24是表示本發(fā)明的第2實施方式的閘閥的縱剖視圖。
[0047]圖25是用于說明本發(fā)明的第2實施方式的閘閥的動作的圖。

【具體實施方式】
[0048]下面，參照【專利附圖】

【附圖說明】本發(fā)明的實施方式。對于所參照的所有附圖中的相同部分，標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記。
[0049]第I實施方式
[0050]使用第I實施方式的閘閥的基板處理系統(tǒng)
[0051]圖1是概略地表示使用本發(fā)明的第I實施方式的閘閥的基板處理系統(tǒng)的俯視圖。該基板處理系統(tǒng)I構(gòu)成為對被用作例如液晶顯示器(LCD)那樣的Fro用玻璃基板或太陽能電池用玻璃基板的矩形基板進行諸如蝕刻、成膜等處理的裝置。上述處理既可以使用等離子體，也可以使用未被等離子體化的處理氣體。
[0052]如圖1所示，基板處理系統(tǒng)I包括:共用輸送室10，其被保持為真空；3個處理室30a、30b、30c，該3個處理室30a、30b、30c與該共用輸送室10相連接并被保持為真空；加載互鎖真空室40，其用于在配置于大氣側(cè)的基板容納容器(未圖示)與被保持為真空的共用輸送室10之間交換基板G ;以及基板輸送裝置50，其設(shè)置在共用輸送室10內(nèi)，用于輸送基板G。處理室30a、30b、30c、加載互鎖真空室40與共用輸送室10的各側(cè)面相連接。處理室30a.30b.30c均設(shè)為用于在真空中對基板G進行蝕刻、成膜等的、使用處理氣體的進行處理的處理裝置的構(gòu)成構(gòu)件，除了處理室之外，各處理裝置還具有在處理室內(nèi)進行規(guī)定處理所需的構(gòu)成要件、例如用于在處理室內(nèi)支承基板G的機構(gòu)、用于將處理室內(nèi)保持為規(guī)定的降壓氣氛的排氣機構(gòu)、以及用于向處理室內(nèi)供給處理氣體的處理氣體供給機構(gòu)等。
[0053]另外，加載互鎖真空室40用于在配置于大氣側(cè)的基板容納容器(未圖示)與被保持為真空的共用輸送室10之間交換基板G，并作為能夠在大氣氣氛與降壓氣氛之間進行切換的真空預(yù)備室而發(fā)揮作用。
[0054]在共用輸送室10的內(nèi)部設(shè)有基板輸送裝置50，且在共用輸送室10的與處理室30a、30b、30c、加載互鎖真空室40相對應(yīng)的位置形成有開口部60。另一方面，在處理室30a、30b,30c的與開口部60相對應(yīng)的位置分別設(shè)有用于輸入輸出基板G的輸入輸出口 61a、61b、61c。而且，在加載互鎖真空室40的與開口部60相對應(yīng)的位置設(shè)有開口部62a。于是，能夠利用基板輸送裝置50經(jīng)由開口部60、輸入輸出口 61a、61b、61c以及開口部62a來輸送基板G。
[0055]在共用輸送室10與同共用輸送室10相連接的處理室30a、30b、30c之間分別設(shè)有閘閥70a、70b、70c。另外，在共用輸送室10與加載互鎖真空室40之間設(shè)有閘閥70d。通過上述閘閥來開閉輸入輸出口 61a、61b、61c和開口部62a。此外，閘閥70a、70b、70c還作為分別包括處理室30a、30b、30c在內(nèi)的處理裝置的構(gòu)成要件而發(fā)揮作用。
[0056]在加載互鎖真空室40的大氣側(cè)形成有向基板處理系統(tǒng)I的外部開放的開口部62b，開口部62b用于裝載處理前的基板G、卸載處理后的基板G，利用開放于大氣狀態(tài)下的門63開閉該開口部62b。
[0057]基板輸送裝置50由用于支承基板的基板支承臂51和能夠旋轉(zhuǎn)的基座構(gòu)件52構(gòu)成，并且，基板支承臂51以能夠在基座構(gòu)件52上直線行進的方式構(gòu)成，因此，能夠通過基于該基板支承臂51進行的伸出退避動作和旋轉(zhuǎn)動作來進入處理室30a、30b、30c和加載互鎖真空室40。
[0058]此外，在本實施方式中，對3個處理室30a、30b、30c圍繞共用輸送室10的結(jié)構(gòu)進行說明，但在由僅具有與加載互鎖真空室40呈直線狀的處理室30b那樣的單一處理室構(gòu)成的裝置中也是同樣。
[0059]第I實施方式的閘閥的結(jié)構(gòu)
[0060]接著，詳細(xì)說明第I實施方式的閘閥。此處，以共用輸送室10與處理室30a之間的閘閥70a為例進行說明。閘閥70b、70c也與閘閥70a同樣地構(gòu)成。此外，閘閥70d也可以與閘閥70a同樣地形成，但由于其因處理氣體所導(dǎo)致的微粒的影響較小，因此，閘閥70d可以為通常使用的結(jié)構(gòu)。
[0061]圖2是表示第I實施方式的閘閥70a的基本例子的縱剖視圖，圖3是表示閘閥的第I密封部的主視圖，圖4是表示閥芯的主視圖。
[0062]第I實施方式中的閘閥70a具有設(shè)于共用輸送室10與處理室30a之間的殼體71。在殼體71的靠處理室30a側(cè)的垂直壁部71b上的、與處理室30a的輸入輸出口 61a相對應(yīng)的位置形成有開口部71a。另一方面，在殼體71的靠共用輸送室10側(cè)的垂直壁部71d上形成有比共用輸送室10的開口部60大的開口部71c。
[0063]閘閥70a還具有設(shè)于殼體71內(nèi)的、用于開閉開口部71a的閥芯72和用于使閥芯72移動的閥芯移動部73。閥芯72的靠開口部71a側(cè)的面成為面積比開口部71a的面積大的閉塞面72a，在閥芯72閉塞開口部71a時，閉塞面72a覆蓋開口部71a和其周圍。閥芯移動部73用于將驅(qū)動機構(gòu)(未圖示)的動力傳遞至閥芯72而使其移動，該閥芯移動部73具有升降桿74和將用于將閥芯72連結(jié)于升降桿74的連結(jié)部75。
[0064]驅(qū)動機構(gòu)具有升降機構(gòu)和進退機構(gòu)(均未圖示)，利用升降機構(gòu)并經(jīng)由升降桿74使閥芯72升降，在閥芯72位于與開口部71a相對應(yīng)的高度位置時，閥芯72能夠利用進退機構(gòu)在閉塞開口部71a的閉塞位置與自開口部71a后退了的后退位置之間移動。在要輸送基板G時，在利用進退機構(gòu)使閥芯72自閉塞位置向后退位置后退之后，利用升降機構(gòu)使閥芯72向開口部71a的下方的退避位置下降而打開開口部71a。
[0065]此外，升降機構(gòu)和進退機構(gòu)并沒有特別的限定，作為升降機構(gòu)，能夠使用氣缸、馬達等，作為進退機構(gòu)，能夠使用連桿機構(gòu)、凸輪機構(gòu)、氣缸以及馬達等。
[0066]閘閥70a還具有在殼體71的垂直壁部71b的開口部71a的周圍設(shè)置的第I密封部81和設(shè)于閥芯72的第2密封部82。在閥芯72閉塞開口部71a時，第2密封部82在與第I密封部81相對應(yīng)的位置同第I密封部81配合地將閥芯72與垂直壁部71b之間密封。
[0067]如圖2和圖3所示，第I密封部81具有環(huán)狀的內(nèi)側(cè)框部83和環(huán)狀的外側(cè)框部84，該環(huán)狀的內(nèi)側(cè)框部83以沿著垂直壁部71b的靠閥芯72側(cè)的面71e上的緊挨開口部71a的外側(cè)的部分繞圈的方式突出并被設(shè)置為框狀，該環(huán)狀的外側(cè)框部84以沿著面71e上的內(nèi)側(cè)框部83的外側(cè)的部分繞圈的方式突出并被設(shè)置為框狀，在內(nèi)側(cè)框部83與外側(cè)框部84之間，以圍繞開口部71a的方式形成有環(huán)狀的凹部85。在凹部85的周圍，會附著有由從處理室30a進入了的處理氣體成分生成了的堆積物產(chǎn)生了的微粒，凹部85的平面部作為用于對從由第I密封部81和第2密封部82形成的密封部分的周圍脫離的微粒進行保持的微粒保持部而發(fā)揮作用。另外，第I密封部81具有沿著凹部85的底部設(shè)置的環(huán)狀的O型密封圈86。
[0068]如圖2和圖4所示，第2密封部82具有形成于閥芯72的閉塞面72a的、供內(nèi)側(cè)框部83插入的環(huán)狀的凹部87和形成于凹部87的外側(cè)部分的、能夠插入凹部85的環(huán)狀的突出部88。凹部87能夠通過锪孔加工而形成，突出部88在凹部87的形成時形成。
[0069]在閥芯72閉塞開口部71a時，第I密封部的內(nèi)側(cè)框部83插入到第2密封部82的凹部87且第2密封部82的突出部88插入到第I密封部的凹部85而形成迷宮構(gòu)造的密封。此時，突出部88的頂端面成為與O型密封圈86相抵接的密封面。此外，O型密封圈也可以設(shè)于第2密封部82中的突出部88的頂端面。在該情況下，與O型密封圈相抵接的凹部85的底部成為密封面。
[0070]此外，為了方便，在圖3中對內(nèi)側(cè)框部83和外側(cè)框部84施加了陰影，在圖4中，對凹部87以外的部分施加了陰影。
[0071]某板處理系統(tǒng)的處理動作
[0072]接下來，說明如上述那樣構(gòu)成的基板處理系統(tǒng)的處理動作。首先，打開門63，利用大氣側(cè)基板輸送裝置(未圖不)將未處理的基板G輸入到大氣氣氛的加載互鎖真空室40,關(guān)閉門63，使加載互鎖真空室40內(nèi)為降壓氣氛。然后，打開加載互鎖真空室40與共用輸送室10之間的閘閥70d，使基板輸送裝置50的基板支承臂51伸出到加載互鎖真空室40內(nèi)，接收被輸入到加載互鎖真空室40內(nèi)的未處理的基板G。接著，使基板輸送裝置50的基板支承臂51退避到共用輸送室10中，關(guān)閉加載互鎖真空室40與共用輸送室10之間的閘閥70d。
[0073]接著，使基板輸送裝置50的基板支承臂51與處理室30a、30b或30c相對，打開共用輸送室10與處理室30a、30b或30c之間的閘閥70a、70b或70c而使基板支承臂51進入處理室30a、30b或30c，向處理室30a、30b或30c輸送基板G。接著，使基板支承臂51退避到共用輸送室10中，關(guān)閉閘閥70a、70b或70c，并開始處理室30a、30b或30c中的處理。在此期間，若能夠輸送接下來的基板G，則利用基板支承臂51自加載互鎖真空室40取出多張基板G，并向處理室30a、30b、30c中的沒有進行處理的處理室輸送。
[0074]在處理室的處理結(jié)束之后，打開閘閥70a、70b、70c中的相應(yīng)的閘閥而使基板支承臂51進入到與打開的閘閥相對應(yīng)的處理室，接收處理完畢的基板G。接著，使基板支承臂51退避到共用輸送室10中，關(guān)閉上述打開的閘閥。接著，使基板支承臂51與加載互鎖真空室40相對，打開共用輸送室10與加載互鎖真空室40之間的閘閥70d而使基板支承臂51進入到加載互鎖真空室40，向加載互鎖真空室40輸送處理完畢的基板G。接著，使基板支承臂51退避到共用輸送室10中，關(guān)閉共用輸送室10與加載互鎖真空室40之間的閘閥70d，使加載互鎖真空室40內(nèi)為大氣氣氛。之后，打開門63，利用大氣側(cè)基板輸送裝置(未圖示)從加載互鎖真空室40輸出處理完畢的基板G。
[0075]第I實施方式的閘閥的動作
[0076]接下來，說明第I實施方式中的閘閥70a的動作。此外，閘閥70b、70c的動作也是同樣的。
[0077]如上所述，閘閥70a利用閥芯72對設(shè)于殼體71的垂直壁部71b的開口部71a進行開閉。
[0078]在處理室30a內(nèi)，在對基板G進行蝕刻、成膜等使用處理氣體的處理時，如圖2所示，成為閘閥70a的閥芯72將開口部71a閉塞的狀態(tài)。具體而言，閥芯72的閉塞面72a覆蓋開口部71a和其周圍，第I密封部81的內(nèi)側(cè)框部83插入到第2密封部82的凹部87且第2密封部82的突出部88插入到第I密封部的凹部85而形成迷宮構(gòu)造的密封。此時，設(shè)于凹部85的底部的O型密封圈86與突出部88的密封面相抵接而形成密封狀態(tài)。
[0079]在處理室30a內(nèi)的處理結(jié)束之后，如圖5的(a)所示，利用進退驅(qū)動機構(gòu)(未圖示)使閥芯72后退至后退位置，接著，如圖5的(b)所示，利用升降驅(qū)動機構(gòu)(未圖示)使閥芯72下降而打開開口部71a，在該狀態(tài)下自處理室30a輸出基板G。
[0080]相反地，在要自圖5的(b)的打開狀態(tài)利用閥芯72閉塞開口部71a時，利用升降驅(qū)動機構(gòu)(未圖示)使閥芯72上升，在圖5的(a)所示的、閥芯72位于與開口部71a相對應(yīng)的高度位置的時刻，利用進退驅(qū)動機構(gòu)(未圖示)使閥芯72進入到閉塞位置，從而成為圖2的狀態(tài)。
[0081]另外，在處理室30a內(nèi)的處理是進行成膜、蝕刻等使用處理氣體的處理的情況下，處理氣體有可能通過開口部71a而進入到O型密封圈的周圍，因此，有時存在如下情況:在處理中自開口部71a進入的處理氣體的成分在O型密封圈86的周圍產(chǎn)生堆積物，由該堆積物產(chǎn)生的微粒附著在O型密封圈86的周圍。以往，如圖6的(a)所示，在垂直壁部71b的開口部71a的周圍部分的密封部僅設(shè)有O型密封圈86，通過使閥芯72'的閉塞面72a,與密封部的O型密封圈相抵接來進行密封，因此，閥芯72'的開閉動作會使附著在O型密封圈86的周圍的微粒P變得不穩(wěn)定，在該情況下，如圖6的(b)所示，在打開開口部71a而輸送基板G時，微粒P有可能自O(shè)型密封圈86的周圍部分脫離而下落到基板G上。
[0082]與此相對，在本實施方式的閘閥70a中，如圖7所示，在開口部71a的周圍設(shè)置的第I密封部81以圍繞開口部71a的方式形成環(huán)狀的凹部85，該環(huán)狀的凹部85形成于環(huán)狀的內(nèi)側(cè)框部83與環(huán)狀的外側(cè)框部84之間，將該凹部85作為用于對自O(shè)型密封圈86的周圍脫離的微粒進行保持的微粒保持部而發(fā)揮作用，因此，即使附著在O型密封圈86的周圍的微粒P因閥芯72的開閉動作而變得不穩(wěn)定，脫離了的微粒P也會被保持于凹部85，從而能夠抑制在打開開口部71a而輸送基板G時微粒P下落到基板G上。因此，能夠減少微粒導(dǎo)致基板G產(chǎn)生的缺陷，從而能夠提高產(chǎn)品成品率。此外，由于作為微粒保持部而發(fā)揮作用的凹部85對自O(shè)型密封圈86的周圍脫離的微粒進行保持，結(jié)果，不僅能夠抑制微粒P下落至IJ基板G上，而且還能夠抑制自基板G的下方部分等卷起的微粒附著在基板G上。
[0083]另外，由于第I密封部81的凹部85以圍繞開口部71a的方式設(shè)置，并以將第2密封部82的突出部88插入到該凹部85內(nèi)的方式進行密封，因此，凹部85還作為處理氣體的阻隔件而發(fā)揮作用，能夠減少進入到O型密封圈86的周圍的處理氣體的量，從而能夠使由處理氣體成分產(chǎn)生的堆積物不易堆積在O型密封圈86的周圍。并且，由于第2密封部82具有環(huán)狀的凹部87且將第I密封部81的內(nèi)側(cè)框部83插入到該凹部87內(nèi)而形成迷宮構(gòu)造的密封，因此能夠進一步提高阻隔處理氣體的作用。因此，能夠延長維護周期。
[0084]第I實施方式的閘閥中的第I密封部和第2密封部的變形例
[0085]接下來，說明第I密封部和第2密封部的幾個變形例。
[0086]在第I變形例中，如圖8所示，第I密封部81具有以圍繞開口部71a的方式直接形成于垂直壁部71b的靠閥芯側(cè)的面71e的環(huán)狀的凹部85a，在該凹部85a的底部具有O型密封圈86。凹部85a能夠通過锪孔加工而形成。第2密封部82與基本例子同樣地構(gòu)成。在為這樣的結(jié)構(gòu)的情況下，凹部85a也作為用于對自O(shè)型密封圈86的周圍脫離的微粒進行保持的微粒保持部而發(fā)揮作用。因此，在打開開口部71a而輸送基板G時，微粒P被保持于凹部85a，從而能夠抑制微粒P下落到基板G上。另外，與上述基本例子同樣地，在利用閥芯72閉塞開口部71a時，凹部85a還作為處理氣體進入的阻隔件而發(fā)揮作用，從而能夠使由處理氣體成分產(chǎn)生的堆積物不易堆積于O型密封圈86的周圍。并且，在利用閥芯72閉塞開口部71a時，通過形成凹部85a而形成于開口部71a的外側(cè)的環(huán)狀的突出部84a插入到凹部87內(nèi)，仍然能夠形成迷宮構(gòu)造的密封。
[0087]在第2變形例中，如圖9所示，對于第2密封部82，沒有在閉塞面72a上形成凹部87，而是形成外側(cè)框部88a和內(nèi)側(cè)框部88b，并在外側(cè)框部88a與內(nèi)側(cè)框部88b之間形成凹部87a，該外側(cè)框部88a以沿閉塞面72a的外緣繞圈的方式突出并設(shè)置為框狀，該內(nèi)側(cè)框部88b以突出的方式呈框狀設(shè)置在外側(cè)框部88a的內(nèi)側(cè)。凹部87a設(shè)于與凹部87相同的位置，并與凹部87完全同樣地發(fā)揮作用。
[0088]在第3變形例中，如圖10所示，第2密封部82具有環(huán)狀的框部88c，該環(huán)狀的框部88c以沿閥芯72的閉塞面72a的外緣繞圈的方式突出且設(shè)置為框狀，在閥芯72閉塞開口部71a時，框部88c能插入到第I密封部81的凹部85內(nèi)。第I密封部81是與基本例子同樣的結(jié)構(gòu)。在為這樣的結(jié)構(gòu)的情況下，由于在第2密封部82上不存在凹部，因此，迷宮構(gòu)造的密封形成為簡單的結(jié)構(gòu)，雖然進入的氣體的抑制效果降低，但由于存在作為微粒保持部的凹部85，因此能夠發(fā)揮抑制微粒P下落到基板G上的效果和在閉塞開口部71a時框部88c插入到凹部85內(nèi)而阻隔處理氣體進入的效果。在該情況下，也可以是，第I密封部81不具有凹部85，而具有直接形成于垂直壁部71b的靠閥芯側(cè)的面71e的環(huán)狀的凹部85a。
[0089]在第4變形例中，如圖11所示，第I密封部81僅具有環(huán)狀的框部83a，該環(huán)狀的框部83a以沿著垂直壁部71b的靠閥芯72側(cè)的面71e上的緊挨開口部71a的外側(cè)的部分繞圈的方式突出并被設(shè)置為框狀。O型密封圈86以環(huán)繞框部83a的外側(cè)的方式設(shè)置。第2密封部82與基本例子相同。在該例子中，雖然在第I密封部81上沒有形成凹部，但框部83a作為微粒保持部而發(fā)揮作用。也就是說，能夠?qū)⑽⒘１３衷诃h(huán)狀的框部83a的上表面上，從而能夠抑制微粒下落到輸送中的基板G上。另外，在閥芯72要閉塞開口部71a時，通過將第I密封部81的環(huán)狀的框部83a插入到第2密封部82的凹部87內(nèi)而形成用于防止處理氣體進入的阻隔件，從而能夠抑制處理氣體成分堆積在O型密封圈86的周圍。
[0090]此外，在該例子中，同樣地，第2密封部82既可以是與表示第2變形例的圖9同樣地由外側(cè)框部88a和內(nèi)側(cè)框部88b形成凹部87a，也可以是與表示第3變形例的圖10同樣地僅具有以沿閥芯72的閉塞面72a的外緣繞圈的方式突出且設(shè)置為框狀的環(huán)狀的框部88c。在上述情況下，同樣地，環(huán)狀的框部83a除了也作為微粒保持部而發(fā)揮作用之外，還作為處理氣體進入的阻隔件而發(fā)揮作用。
[0091]在第5變形例中，如圖12的(a)、(b)所示，也可以不設(shè)置第4變形例中的第I密封部81的框部83a，而是在垂直壁部71b的靠閥芯72側(cè)的面71e上的開口部71a的上側(cè)設(shè)置呈檐狀突出的突出部89作為微粒保持部。另一方面，在第2密封部82上形成有與突出部89相對應(yīng)的凹部87b，在閥芯72閉塞開口部71a時成為突出部89插入到凹部87b中的狀態(tài)。在第5變形例中，防止處理氣體的進入的效果有些低，但能夠利用突出部89來充分地發(fā)揮抑制微粒下落到輸送中的基板G上的作用。
[0092]此外，也可以是，檐狀的突出部89不僅形成于開口部71a的上側(cè)，而且以圍繞開口部71a的方式呈U字狀沿開口部71a的側(cè)部延伸。由此，能夠防止附著于O型密封圈86的側(cè)部的微粒傾斜地下落而附著在基板上。此時，供突出部89插入的凹部87b也形成為與突出部89相對應(yīng)的形狀。
[0093]此外，在第2密封部82中，既可以通過在閥芯的閉塞面72a上形成檐狀的兩個突出部來形成凹部87b，也可以與表示第3變形例的圖10同樣地，使第2密封部82僅具有環(huán)狀的框部88c，該環(huán)狀的框部88c以沿閥芯72的閉塞面72a的外緣繞圈的方式突出且設(shè)置為框狀。
[0094]考慮到第I實施方式的閘閥的維護性的結(jié)構(gòu)例
[0095]接下來，說明考慮到第I實施方式的閘閥的維護性的結(jié)構(gòu)例。
[0096]以往，在要維護閘閥的情況下，需要將由閥芯、連結(jié)部以及升降軸等構(gòu)成的閥芯移動部一體地拆卸，該拆卸需要花時間，且在維護后的游隙調(diào)整中也要花費較長時間，有時需要使處理系統(tǒng)停止半天到一天的時間。在以下的例子中，能夠縮短這樣的維護時間。
[0097]首先，說明考慮到維護性的第I結(jié)構(gòu)例。
[0098]圖13是表示考慮到維護性的閘閥的第I結(jié)構(gòu)例的剖視圖。在本例子中，閘閥的閥芯72具有與連結(jié)部75相連結(jié)的第I部分171和包括閉塞面72a的第2部分172，在第I部分171的中央設(shè)有定位構(gòu)件173，在利用定位構(gòu)件173將第2部分172定位于第I部分171的狀態(tài)下，利用螺紋件174將第I部分171和第2部分172固定起來，通過拆卸螺紋件174，能夠使第2部分172分離并更換第2部分172。此外，第I密封部81和第2密封部82具有與圖2所示的基本例子同樣的結(jié)構(gòu)。定位構(gòu)件也可以是與第I部分171和第2部分172相嵌合的、一個面是凹部且另一個面是凸部或者兩個面均是凹部的插入構(gòu)件那樣的嵌合構(gòu)造，在該情況下，定位構(gòu)件并不限于中央，也可以設(shè)置在多處。另外，定位構(gòu)件并不限于嵌合構(gòu)造，也可以是能在第I部分和第2部分的側(cè)面進行對位那樣的構(gòu)造。
[0099]在維護這樣的閘閥時，如圖14的(a)所示，在使閥芯72下降后的狀態(tài)下拆卸螺紋件174，接著，如圖14的(b)所示，拆卸包括閉塞面72a的第2部分172，并更換第2部分172。
[0100]在維護中，主要工作是去除堆積于閥芯72的閉塞面72a側(cè)的堆積物，但在本例子中，只要拆卸并更換閥芯72的第2部分172即可，從而能夠顯著降低維護時間。
[0101]此外，在圖13中，作為第I密封部81和第2密封部82，使用了圖2的基本例子，但也可以使用上述第I變形例?第5變形例的結(jié)構(gòu)。在該情況下，也與圖14同樣地進行維護。另外，拆卸了包括閉塞面72a的第2部分172，但也可以將整個閥芯72自連結(jié)部75拆卸下來之后進行更換。
[0102]接著，說明考慮到維護性的第2結(jié)構(gòu)例。
[0103]圖15是表示考慮到維護性的閘閥的第2結(jié)構(gòu)例的剖視圖。在本例子中，閘閥的閥芯72具有與連結(jié)部75相連結(jié)的第I部分171和包括閉塞面72a的第2部分172，在利用中央的定位構(gòu)件173將第2部分172定位于第I部分171的狀態(tài)下、利用螺紋件174將第I部分171和第2部分172固定起來這點與第I結(jié)構(gòu)例相同，但第I密封部81和第2密封部82具有圖11的第4變形例的結(jié)構(gòu)，并在閥芯72的第2部分172的周緣附近部分具有暫時固定部181。
[0104]在維護這樣的閘閥時，如圖16的(a)所示，將暫時固定螺紋件182安裝于閥芯72的第2部分172的暫時固定部181，并將第2部分172暫時固定于與垂直壁部71b的開口部71a相對應(yīng)的部分，之后拆下螺紋件174。之后，如圖16的(b)所示，在使第I部分171和第2部分172分離之后，使第I部分171和閥芯移動部73下降，更換暫時固定的第2部分172，再次利用暫時固定螺紋件182來暫時固定更換后的第2部分172。之后，借助閥芯移動部73使第I部分171上升，利用螺紋件174將第I部分171和新的第2部分172固定起來。
[0105]在本例子中，與上述的例子同樣地，在維護時，也只要更換第2部分172即可，因此，能夠縮短維護時間。另外，由于將第2部分172暫時固定于與垂直壁部71b的開口部71a相對應(yīng)的部分，并在使第I部分171和閥芯移動部73下降之后更換第2部分172，因此，第2部分172不會與第I部分171、閥芯移動部73干渉，從而易于進行更換。
[0106]此外，在圖15中，作為第I密封部81和第2密封部82，使用了圖11的第4變形例，但并不限于此。
[0107]接下來，說明考慮到維護性的第3結(jié)構(gòu)例。
[0108]圖17是表示考慮到維護性的閘閥的第3結(jié)構(gòu)例的剖視圖。在本例子中，與第I結(jié)構(gòu)例同樣地，閘閥的閥芯72具有與連結(jié)部75相連結(jié)的第I部分171和包括閉塞面72a的第2部分172。與第I結(jié)構(gòu)例不同之處在于以下兩點:在利用中央的定位構(gòu)件173將第2部分172定位于第I部分171并進行固定時、利用螺紋件175從處理室側(cè)經(jīng)由開口部71a將第I部分171和第2部分172固定起來這點、以及在閥芯72的閉塞面72a的與開口部71a上部相對應(yīng)的位置和垂直壁部71b的與開口部71a正面相對應(yīng)的位置分別具有暫時固定部184a、184b這點。此外，第I密封部81和第2密封部82具有與圖2所示的基本例子同樣的結(jié)構(gòu)。
[0109]在維護這樣的閘閥時，如圖18的(a)所示，自處理室側(cè)插入暫時固定托架185，將暫時固定托架185安裝于第2部分172的暫時固定部184a和暫時固定部184b而將第2部分172暫時固定于垂直壁部71b，之后，自處理室側(cè)拆卸螺紋件175。之后，如圖18的(b)所示，在使第I部分171和第2部分172分離之后，使第I部分171和閥芯移動部73下降，自處理室側(cè)更換暫時固定的第2部分172，并再次利用暫時固定托架185將更換后的第2部分172暫時固定。之后，如圖18的(c)所示，使第I部分171和閥芯移動部73上升到與第2部分172相對應(yīng)的位置并利用定位構(gòu)件173進行定位，接著，向處理室側(cè)拆卸暫時固定托架185，自處理室側(cè)插入螺紋件175并將第2部分172固定于第I部分171。由此，能夠全部通過自處理室側(cè)進行作業(yè)來維護閘閥。作為將暫時固定托架185安裝于暫時固定部184a和暫時固定部184b的方法，在圖18中，舉例示出了螺紋固定，但只要能夠進行固定，則并不限于螺紋固定，例如，也可以使用以將暫時固定托架185分別與暫時固定部184a和暫時固定部184b嵌合的方式來進行固定的嵌入構(gòu)造。另外，在利用螺紋固定的方式進行固定的情況下，為了避免在進行維護以外的情況下螺紋孔暴露，也可以以預(yù)先插入保護用的螺紋件或者通過設(shè)置保護板等方法來保護螺紋孔。
[0110]在上述第I結(jié)構(gòu)例和第2結(jié)構(gòu)例中，在閘閥的維護時，需要自共用輸送室10側(cè)進入，因此，在對與一個處理室相對應(yīng)的閘閥進行維護時，需要使共用輸送室10內(nèi)的基板輸送裝置50停止，從而不能利用其他處理室進行處理。與此相對，在本例子中，由于能夠自處理室側(cè)進行閘閥的維護，因此，在對與一個處理室相對應(yīng)的閘閥進行維護時，也能夠利用其他的處理室進行處理，從而能夠減小因維護而導(dǎo)致的生產(chǎn)率降低。
[0111]此外，在圖17中，作為第I密封部81和第2密封部82，使用了圖2的基本例子，但也可以使用上述第I變形例?第5變形例的結(jié)構(gòu)。在該情況下，也能與圖18同樣地進行維護。
[0112]接著，說明考慮到維護性的第4結(jié)構(gòu)例。
[0113]圖19是表示考慮到維護性的閘閥的第4結(jié)構(gòu)例的剖視圖。在本例子中，閘閥的閥芯72具有與連結(jié)部75相連結(jié)的第I部分191和包括閉塞面72a的第2部分192。第I部分191以包括閉塞面72a的下側(cè)部分的方式構(gòu)成，第2部分192的在高度方向上的寬度短于開口部71a的在高度方向上的寬度。在第I部分191的中央設(shè)有定位構(gòu)件193，在利用定位構(gòu)件193將第2部分192定位于第I部分191的狀態(tài)下，利用自處理室側(cè)插入的螺紋件176將第I部分191和第2部分192固定起來。通過拆卸螺紋件176，能夠使第2部分192分離而更換第2部分192。第I密封部81和第2密封部82具有圖12的第5變形例的結(jié)構(gòu)。S卩，作為第I密封部81，設(shè)置突出部89作為微粒保持部，該突出部89在垂直壁部71b的靠閥芯72側(cè)的面71e上的開口部71a的上側(cè)呈檐狀突出，作為第2密封部82，在第2部分192的與突出部89相對應(yīng)的部分上形成有凹部87b，在閥芯72閉塞開口部71a時成為突出部89插入到凹部87b中的狀態(tài)。對于閥芯72的閉塞面72a，由于其分?jǐn)喑膳c第I部分191相對應(yīng)的區(qū)域和與第2部分192相對應(yīng)的區(qū)域，因此，能設(shè)為如下結(jié)構(gòu)，例如，通過在第2部分192的下端與第I部分191之間的接合部設(shè)置密封構(gòu)件等來保持氣密性，對此沒有圖示。
[0114]在維護這樣的閘閥時，如圖20所示，在自處理室側(cè)拆卸螺紋件176之后，使第I部分191和閥芯移動部73向共用輸送室10側(cè)滑動，之后，能夠使第2部分192自第I部分分離并將第2部分192以傾斜的狀態(tài)向處理室側(cè)拆卸。通過如此設(shè)置，即使在開口部71a狹小的情況下，也能夠自處理室側(cè)進行維護，而無需使用用于進行暫時固定的夾具。
[0115]此外，在本例子中，閥芯72的閉塞面72a分?jǐn)喑膳c第I部分191相對應(yīng)的區(qū)域和與第2部分192相對應(yīng)的區(qū)域，因此，雖然作為第I密封部81和第2密封部82而使用了上述第5變形例，但只要能夠橫跨第I部分191和第2部分192精度良好地形成環(huán)狀的框部、環(huán)狀的凹部，則第I密封部81和第2密封部82也可以使用基本例子和第I變形例?第4變形例。
[0116]接下來，說明考慮到維護性的第5結(jié)構(gòu)例。
[0117]圖21是表示考慮到維護性的閘閥的第5結(jié)構(gòu)例的剖視圖。在本例子中，與第3結(jié)構(gòu)例同樣地，閘閥的閥芯72具有與連結(jié)部75相連結(jié)的第I部分171和包括閉塞面72a的第2部分172，在利用中央的定位構(gòu)件173將第2部分172定位于第I部分171并進行固定時、利用螺紋件175從處理室側(cè)經(jīng)由開口部71a將第I部分171和第2部分172固定起來。另外，與第3結(jié)構(gòu)例不同的是，包括第I密封部81的開口部71a的周圍部分和包括處理室的輸入輸出口 61a的周圍部分的周圍構(gòu)件202能夠拆卸。另外，第I密封部81和第2密封部82具有圖8的第I變形例的結(jié)構(gòu)。即，第I密封部81的作為微粒保持部而發(fā)揮作用的環(huán)狀的凹部85a以圍繞開口部71a的方式直接形成于垂直壁部71b的靠閥芯側(cè)的面71e。
[0118]在維護這樣的閘閥時，如圖22所示，首先，將周圍構(gòu)件202向處理室側(cè)拆卸而形成較大的開口部203，接著，在將螺紋件175自處理室側(cè)拆卸之后，經(jīng)由開口部203自處理室側(cè)更換閥芯72的第2部分172。
[0119]由此，與第3結(jié)構(gòu)例同樣地，能夠全部通過自處理室側(cè)進行作業(yè)來維護閘閥，除此之外，通過使包括靠垂直壁部71b側(cè)的第I密封部81的周圍構(gòu)件202能夠拆卸，還能夠易于維護第I密封部81。另外，通過拆卸周圍構(gòu)件202而形成較大的開口部203，由此，能夠在不使閥芯72的第I部分171移動和不將第2部分172暫時固定的情況下更換第2部分172。因此，能夠更加易于維護閘閥。
[0120]第2實施方式
[0121]接下來，說明第2實施方式。在本實施方式中，說明將本發(fā)明應(yīng)用于具有以下處理裝置的基板處理系統(tǒng)的例子:在處理裝置中，將多張基板多層配置而進行規(guī)定處理。
[0122]本實施方式的基板處理系統(tǒng)的俯視圖與圖1相同，但在共用輸送室10、處理室30a.30b.30c以及加載互鎖真空室40中，均能夠?qū)⒍鄰埢錑沿高度方向配置?；遢斔脱b置50以能輸送多張基板的方式構(gòu)成。
[0123]以輸送3個基板的情況為例，如圖23所示，基板輸送裝置50構(gòu)成為能夠使沿鉛垂方向排列的3個基板支承臂51a、51b、51c在能夠旋轉(zhuǎn)的基座構(gòu)件52上直線行進，從而能夠通過基于該基板支承臂51進行的伸出退避動作和旋轉(zhuǎn)動作來進入處理室30a、30b、30c和加載互鎖真空室40。此外，附圖標(biāo)記53是用于實現(xiàn)基座構(gòu)件52的旋轉(zhuǎn)動作的驅(qū)動系統(tǒng)。
[0124]處理室30a、30b、30c具有用于各自處理多張基板G的多個處理空間，并以與各處理空間相對應(yīng)的方式分別具有多個輸入輸出口 61a。另一方面，在共用輸送室10上，以能夠供多張基板G—同通過的方式設(shè)有一個開口部60。
[0125]與第I實施方式同樣地，在共用輸送室10與同該共用輸送室10相連接的處理室30a、30b、30c之間分別設(shè)有閘閥70a、70b、70c，在共用輸送室10與加載互鎖真空室40之間設(shè)有閘閥70d。但是，本實施方式的閘閥是在輸送多張基板時使用的構(gòu)件，因此，其結(jié)構(gòu)與第I實施方式不同。
[0126]另外，與第I實施方式同樣地，也可以是僅具有單個處理室且以直線狀排列的結(jié)構(gòu)。
[0127]第2實施方式的閘閥的結(jié)構(gòu)
[0128]接著，詳細(xì)說明第2實施方式中的閘閥。此處，以共用輸送室10與處理室30a之間的閘閥70a為例進行說明。閘閥70b、70c也與閘閥70a同樣地構(gòu)成。
[0129]圖24是第2實施方式中的閘閥70a的縱剖視圖。第2實施方式中的閘閥70a具有設(shè)于共用輸送室10與處理室30a之間的殼體71,在殼體71的靠處理室30a側(cè)的垂直壁部71b上的與處理室30a的多個輸入輸出口 61a相對應(yīng)的位置形成有多個開口部71a。另一方面，在殼體71的靠共用輸送室10側(cè)的垂直壁部71d上形成有與共用輸送室10的開口部60相對應(yīng)的開口部71c。此外，在本實施方式中，例示了輸入輸出口 61a和開口部71a為3個的情況。在處理室30a內(nèi)具有用于處理基板G的3個處理空間#1?#3，各處理空間位于與各輸入輸出口 61a相對應(yīng)的位置。此外，也可以將各處理空間分隔。
[0130]本實施方式的閘閥70a還具有設(shè)于殼體71內(nèi)的、用于分別開閉多個開口部71a的多個閥芯72和用于使閥芯72移動的閥芯移動部73。閥芯72的靠開口部71a側(cè)的面成為面積比開口部71a的面積大的閉塞面72a，在閥芯72閉塞開口部71a時，閉塞面72a覆蓋開口部71a和其周圍。閥芯移動部73用于將驅(qū)動機構(gòu)(未圖示)的動力傳遞至閥芯72而使其移動，該閥芯移動部73具有升降桿74和用于將多個閥芯72連接于升降桿74的多個連結(jié)部75。
[0131]驅(qū)動機構(gòu)具有升降機構(gòu)和進退機構(gòu)(均未圖示)，利用升降機構(gòu)并經(jīng)由升降桿74使多個閥芯72 —同升降，在多個閥芯72位于與所對應(yīng)的開口部71a相對應(yīng)的高度位置時，多個閥芯72能夠利用進退機構(gòu)在閉塞開口部71a的閉塞位置與自開口部71a后退了的后退位置之間同時移動。在要輸送基板G時，在利用進退機構(gòu)使多個閥芯72 —同自閉塞位置向后退位置后退之后，利用升降機構(gòu)使多個閥芯72向開口部71a的下方的退避位置下降。此外，也可以單獨驅(qū)動多個閥芯72。
[0132]閘閥70a還具有在殼體71的垂直壁部71b的各個開口部71a的周圍設(shè)置的第I密封部81和設(shè)于各個閥芯72的第2密封部82。在閥芯72閉塞開口部71a時，第2密封部82在與第I密封部81相對應(yīng)的位置同第I密封部81配合地將閥芯72與垂直壁部71b之間密封。
[0133]與第I實施方式的圖2和圖3所示的基本例子同樣地，各第I密封部81具有環(huán)狀的內(nèi)側(cè)框部83和外側(cè)框部84，該環(huán)狀的內(nèi)側(cè)框部83和外側(cè)框部84以沿著垂直壁部71b的靠閥芯72側(cè)的面71e上的開口部71a的外側(cè)的部分繞圈的方式突出并被設(shè)置為框狀，在內(nèi)側(cè)框部83與外側(cè)框部84之間，以圍繞開口部71a的方式形成有作為微粒保持部而發(fā)揮作用的環(huán)狀的凹部85。另外，第I密封部81具有沿著凹部85的底部設(shè)置的環(huán)狀的O型密封圈86。
[0134]與第I實施方式的圖2和圖4所示的基本例子同樣地，各第2密封部82具有形成于閥芯72的閉塞面72a的、供內(nèi)側(cè)框部83插入的環(huán)狀的凹部87和形成于凹部87的外側(cè)部分的、能夠插入凹部85的環(huán)狀的突出部88。
[0135]與第I實施方式的基本例子同樣地，在閥芯72閉塞開口部71a時，第I密封部的內(nèi)側(cè)框部83插入到第2密封部82的凹部87且第2密封部82的突出部88插入到第I密封部的凹部85而形成迷宮構(gòu)造的密封。此時，突出部88的頂端面成為與O型密封圈86相抵接的密封面。
[0136]第2實施方式的閘閥的動作
[0137]接下來，說明第2實施方式中的閘閥70a的動作。
[0138]在處理室30a內(nèi)，在對基板G進行蝕刻、成膜等使用處理氣體的處理時，如圖24所示，成為閘閥70a的多個閥芯72將分別對應(yīng)的開口部71a閉塞的狀態(tài)。基于閥芯72來閉塞開口部71a的閉塞狀態(tài)與第I實施方式中的圖2所示的狀態(tài)相同。
[0139]在處理室30a內(nèi)的處理結(jié)束之后，如圖25所示，利用進退驅(qū)動機構(gòu)使多個閥芯72一同后退至后退位置，接著，利用升降驅(qū)動機構(gòu)使多個閥芯72 —同下降，并以使閥芯72位于開口部71a和與開口部71a相鄰的其他開口部71a之間的部分的方式使開口部71a為打開狀態(tài)，在該狀態(tài)下自處理室30a輸出多張基板G。相反地，在要自打開狀態(tài)利用閥芯72閉塞開口部71a時，利用升降驅(qū)動機構(gòu)使多個閥芯72 —同上升，在各閥芯72位于與開口部71a相對應(yīng)的高度位置的時刻，利用進退驅(qū)動機構(gòu)使多個閥芯72進入到閉塞位置，從而成為圖24的狀態(tài)。根據(jù)第I實施方式的圖5的(a)、(b)來進行此時的動作。
[0140]在各個開口部71a的周圍設(shè)置的第I密封部81以圍繞開口部71a的方式形成環(huán)狀的凹部85，該環(huán)狀的凹部85形成于環(huán)狀的內(nèi)側(cè)框部83與環(huán)狀的外側(cè)框部84之間，將該凹部85作為用于對附著在O型密封圈86的周圍的微粒進行保持的微粒保持部而發(fā)揮作用，因此，與第I實施方式同樣地，能夠抑制在打開開口部71a而輸送基板G時微粒P下落到基板G上。因此，能夠減少微粒導(dǎo)致基板G產(chǎn)生的缺陷，從而能夠提高產(chǎn)品成品率。
[0141]另外，由于第I密封部81的凹部85以圍繞開口部71a的方式設(shè)置，并以將第2密封部82的突出部88插入到該凹部85內(nèi)的方式進行密封，因此，凹部85還作為處理氣體的阻隔件而發(fā)揮作用，能夠減少進入到O型密封圈86的周圍的處理氣體的量，從而能夠使處理氣體成分不易堆積在O型密封圈86的周圍。并且，由于第2密封部82具有環(huán)狀的凹部87且將第I密封部81的內(nèi)側(cè)框部83插入到該凹部87內(nèi)而形成迷宮構(gòu)造的密封，因此能夠進一步提高阻隔處理氣體的作用。因此，能夠延長維護周期。
[0142]此外,在第2實施方式中，作為第I密封部和第2密封部,也能夠使用第I實施方式的第I變形例?第5變形例中的第I密封部和第2密封部。但是,在為圖12所示的第5變形例的情況下，將在開口部71a的上側(cè)呈檐狀突出的突出部89設(shè)置為微粒保持部，而在開口部71a的下側(cè)的部分不具有微粒保持部，因此，在該開口部71a的下方存在其他開口部71a的情況下，在基板G通過其他開口部71a時，微粒有可能下落到該基板G上，故此不優(yōu)選。
[0143]另外，還能夠應(yīng)用考慮到第I實施方式中的閘閥的維護性的第I結(jié)構(gòu)例?第5結(jié)構(gòu)例。
[0144]其他應(yīng)用
[0145]此外，本發(fā)明不限定于上述實施方式，而能夠進行各種變形。例如，在上述實施方式中，記載了進退機構(gòu)在規(guī)定的高度位置將閥芯沿水平驅(qū)動的內(nèi)容，但也可以在使閥芯進退時利用連桿機構(gòu)等使閥芯傾斜地移動。另外，作為閘閥而示出了具有殼體的閘閥，但只要存在具有開口部的壁部，則也可以不具有殼體。并且，閘閥的具有開口部的壁部也可以是處理室的具有輸入輸出口的壁部。另外，作為所處理的基板，例示了液晶顯示器(LCD)那樣的FH)用玻璃基板或太陽能電池用玻璃基板，但并不限于此，本發(fā)明當(dāng)然能夠應(yīng)用于半導(dǎo)體基板等其他基板。
[0146]附圖標(biāo)記說明
[0147]1、基板處理系統(tǒng)；10、共用輸送室；30a、30b、30c、處理室；40、加載互鎖真空室；50、基板輸送裝置;70a、70b、70c、閘閥;71、殼體；71a、開口部；71b、垂直壁部；72、閥芯；72a、閉塞面；73、閥芯移動部；81、第I密封部；82、第2密封部；83、內(nèi)側(cè)框部；83a、框部；84、外側(cè)框部；85、85a、凹部;86、O型密封圈;87、87a、凹部；88、突出部；88a、外側(cè)框部；88b、內(nèi)側(cè)框部；88c、框部；89、突出部；171、191、第I部分；172、192、第2部分；173、193、定位構(gòu)件；174、175、176、螺紋件；181、184a、184b、暫時固定部；182、暫時固定螺紋件；185、暫時固定托架；202、周圍構(gòu)件；203、開口部。
【權(quán)利要求】
1.一種閘閥，其是對基板實施規(guī)定處理的處理裝置中的處理室的輸入輸出口的開閉所使用的閘閥，其特征在于， 該閘閥具有: 壁部，在該壁部上形成有與上述輸入輸出口相連通的開口部； 閥芯，其用于開閉上述開口部； 閥芯移動部，其用于使上述閥芯在閉塞上述開口部的閉塞位置與自上述開口部退避了的退避位置之間移動； 第I密封部，其設(shè)置在上述壁部的開口部的周圍；以及 第2密封部，其設(shè)于上述閥芯，在上述閥芯閉塞上述開口部時，該第2密封部在與上述第I密封部相對應(yīng)的位置同上述第I密封部配合地將上述閥芯與上述壁部之間密封， 上述第I密封部具有微粒保持部，該微粒保持部用于對從由上述第I密封部和上述第2密封部形成的密封部分的周圍脫離的微粒進行保持。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閘閥，其特征在于， 上述微粒保持部具有呈環(huán)狀的第I凹部，該第I凹部以圍繞上述開口部的方式設(shè)于上述壁部的靠上述閥芯側(cè)的位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的閘閥，其特征在于， 上述第I凹部形成于以圍繞上述開口部的方式突出地設(shè)置的兩個框部之間或者形成于上述壁部的靠上述閥芯側(cè)的面。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的閘閥，其特征在于， 上述第2密封部在上述閥芯的閉塞上述開口部的閉塞面上具有能夠插入上述第I凹部的環(huán)狀的突出部。
5.根據(jù)權(quán)利要求2至4中任一項所述的閘閥，其特征在于， 上述第2密封部具有形成于上述閥芯的呈環(huán)狀的第2凹部，以使得上述第2密封部與上述第I密封部之間形成迷宮密封。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的閘閥，其特征在于， 上述第2凹部形成于上述閥芯的上述閉塞面或者形成于以自上述閉塞面突出的方式設(shè)置的兩個框部之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閘閥，其特征在于， 上述微粒保持部具有以圍繞上述開口部的方式自上述壁部的靠上述閥芯側(cè)的面突出地設(shè)置的框部。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的閘閥，其特征在于， 上述第2密封部在上述閥芯的閉塞上述開口部的閉塞面上具有供上述框部插入的凹部。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閘閥，其特征在于， 上述微粒保持部具有以自上述壁部的靠上述閥芯側(cè)的面呈檐狀突出的方式設(shè)于上述開口部的上側(cè)的突出部。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的閘閥，其特征在于， 上述第2密封部在上述閥芯的閉塞上述開口部的閉塞面上具有供上述突出部插入的凹部。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的閘閥，其特征在于， 上述第I密封部和上述第2密封部中的一個密封部具有密封構(gòu)件，上述第I密封部和上述第2密封部中的另一個密封部具有與上述密封構(gòu)件相接觸的密封面，在上述閥芯閉塞上述開口部時，上述密封構(gòu)件被按壓于上述密封面。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項所述的閘閥，其特征在于， 上述閥芯具有靠上述閥芯移動部側(cè)的第I部分和包括上述閉塞面的第2部分，上述第2部分以能夠自上述第I部分分離的方式構(gòu)成。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的閘閥，其特征在于， 使上述第2部分構(gòu)成為能夠自上述處理室側(cè)分離。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項所述的閘閥，其特征在于， 上述處理裝置用于處理多張基板，上述處理室具有用于處理多張基板的多個處理空間，上述輸入輸出口以與多個上述處理空間相對應(yīng)的方式設(shè)有多個，在上述壁部上，以與多個上述輸入輸出口相對應(yīng)的方式設(shè)有多個上述開口部，以與多個上述開口部相對應(yīng)的方式具有多個上述閥芯。
15.一種基板處理裝置，其特征在于， 該基板處理裝置具有: 處理室，其用于處理基板； 處理機構(gòu)，其用于在上述處理室內(nèi)進行規(guī)定處理；以及 閘閥，其用于對設(shè)于上述處理室的基板的輸入輸出口進行開閉， 上述閘閥具有: 壁部，在該壁部上形成有與上述輸入輸出口相連通的開口部； 閥芯，其用于開閉上述開口部； 閥芯移動部，其用于使上述閥芯在閉塞上述開口部的閉塞位置與自上述開口部退避了的退避位置之間移動； 第I密封部，其設(shè)置在上述壁部的開口部的周圍；以及 第2密封部，其設(shè)于上述閥芯，在上述閥芯閉塞上述開口部時，該第2密封部在與上述第I密封部相對應(yīng)的位置同上述第I密封部配合地將上述閥芯與上述壁部之間密封， 上述第I密封部具有微粒保持部，該微粒保持部用于對從由上述第I密封部和上述第2密封部形成的密封部分的周圍脫離的微粒進行保持。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的基板處理裝置，其特征在于， 上述處理室具有用于處理多張基板的多個處理空間，上述輸入輸出口以與多個上述處理空間相對應(yīng)的方式設(shè)有多個， 上述閘閥在上述壁部上以與多個上述輸入輸出口相對應(yīng)的方式具有多個上述開口部，并以與多個上述開口部相對應(yīng)的方式具有多個上述閥芯。
【文檔編號】F16K51/02GK104514891SQ201410437458
【公開日】2015年4月15日 申請日期:2014年8月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月30日
【發(fā)明者】田中誠治, 出口新悟 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社