本發(fā)明涉及一種帶氣槽的平面氣浮軸承,屬于平面氣浮軸承技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù):
目前國(guó)內(nèi)外提出的平面氣浮軸承主要結(jié)構(gòu)如圖1所示,向上的氣孔出氣提供重力方向的氣浮力,使軸承浮起,側(cè)向氣孔出氣提供水平方向的氣浮力,限制軸承橫向移動(dòng),其氣浮部分的俯視圖如圖2所示。圖2中以四個(gè)孔為例進(jìn)行說(shuō)明,實(shí)際情況幾個(gè)孔需要根據(jù)計(jì)算結(jié)果獲得。圖2中四個(gè)孔出氣方向按箭頭所示均勻出氣在整個(gè)圓形軸承平面形成氣膜。這種結(jié)構(gòu)的缺點(diǎn)是:整個(gè)氣膜為一體,一旦軸承承載的重量偏大,則容易形成氣膜氣浮力振蕩,也就是所說(shuō)的“氣錘”現(xiàn)象,不能正常工作,究其原因是氣浮剛度過大不能有效形成阻尼。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的是為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,進(jìn)而提供一種帶氣槽的平面氣浮軸承。
本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
一種帶氣槽的平面氣浮軸承,包括:軸承氣浮部分,所述軸承氣浮部分的頂面設(shè)為高壓氣體氣膜形成面和阻尼面,所述阻尼面為軸承氣浮部分頂面的圓心部分和外環(huán)部分,高壓氣體氣膜形成面設(shè)置在圓心部分和外環(huán)部分之間,高壓氣體氣膜形成面與圓心部分之間設(shè)有內(nèi)環(huán)槽,高壓氣體氣膜形成面與外環(huán)部分之間設(shè)有外環(huán)槽,直線槽的里端與內(nèi)環(huán)槽相連通,直線槽的中段與外環(huán)槽相連通,直線槽的外端通向軸承氣浮部分的邊沿,高壓氣體氣膜形成面上設(shè)有向上的氣孔。
本發(fā)明的工作原理如下:
當(dāng)氣浮軸承負(fù)載變重時(shí),整個(gè)軸承內(nèi)部空間會(huì)快速變小,阻尼面上的空氣被壓縮,壓縮后的空氣通過氣槽被排出軸承時(shí)起到了阻止軸承內(nèi)部空間變小的作用;當(dāng)氣浮軸承負(fù)載變輕時(shí),整個(gè)軸承內(nèi)部空間會(huì)快速變大,阻尼面上的空氣被拉伸,拉伸后的空氣通過氣槽將空氣吸入軸承時(shí)起到了阻止軸承內(nèi)部空間變大的作用。
本發(fā)明的有益效果:
本發(fā)明克服了現(xiàn)有技術(shù)存在的缺點(diǎn)和不足。本發(fā)明可以應(yīng)用于平面氣浮軸承的應(yīng)用場(chǎng)合,尤其對(duì)要求氣浮承載力較大的應(yīng)用領(lǐng)域,例如:大型單軸氣浮臺(tái)。本發(fā)明可以在平面氣浮軸承中提供有效的阻尼作用,從而抑制了“氣錘”現(xiàn)象的發(fā)生。
附圖說(shuō)明
圖1為現(xiàn)有平面氣浮軸承的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為現(xiàn)有平面氣浮軸承氣浮部分的俯視圖。
圖3為本發(fā)明氣浮軸承氣浮部分的俯視圖。
圖4為本發(fā)明氣浮軸承氣浮部分的立體圖。
圖中的附圖標(biāo)記,1為軸承氣浮部分,2為圓心部分,3為外環(huán)部分,4為內(nèi)環(huán)槽,5為外環(huán)槽,6為直線槽,7為向上的氣孔,a為高壓氣體氣膜形成面,b為阻尼面。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明:本實(shí)施例在以本發(fā)明技術(shù)方案為前提下進(jìn)行實(shí)施,給出了詳細(xì)的實(shí)施方式,但本發(fā)明的保護(hù)范圍不限于下述實(shí)施例。
如圖3和圖4所示,本實(shí)施例所涉及的一種帶氣槽的平面氣浮軸承,包括:軸承氣浮部分1,所述軸承氣浮部分1的頂面設(shè)為高壓氣體氣膜形成面a和阻尼面b,所述阻尼面b為軸承氣浮部分1頂面的圓心部分2和外環(huán)部分3,高壓氣體氣膜形成面a設(shè)置在圓心部分2和外環(huán)部分3之間,高壓氣體氣膜形成面a與圓心部分2之間設(shè)有內(nèi)環(huán)槽4,高壓氣體氣膜形成面a與外環(huán)部分3之間設(shè)有外環(huán)槽5,直線槽6的里端與內(nèi)環(huán)槽4相連通,直線槽6的中段與外環(huán)槽5相連通,直線槽6的外端通向軸承氣浮部分1的邊沿,高壓氣體氣膜形成面a上設(shè)有向上的氣孔7。
所述內(nèi)環(huán)槽4和外環(huán)槽5是同心圓。
所述直線槽6為四個(gè),四個(gè)直線槽6均布在高壓氣體氣膜形成面a和外環(huán)部分3上。
所述高壓氣體氣膜形成面a上均布有四個(gè)向上的氣孔7。
以上所述,僅為本發(fā)明較佳的具體實(shí)施方式,這些具體實(shí)施方式都是基于本發(fā)明整體構(gòu)思下的不同實(shí)現(xiàn)方式,而且本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此,任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi),可輕易想到的變化或替換,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此,本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。