電子控制的內(nèi)置阻尼器的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種電子控制的內(nèi)置阻尼器，其包括：主通道，由工作流體流動通過主活塞形成；點(diǎn)火通道，由預(yù)定量那樣多的工作流體從第一點(diǎn)火室和第二點(diǎn)火室釋放形成，以便于當(dāng)?shù)谝稽c(diǎn)火室和第二點(diǎn)火室的壓力增加超過預(yù)定水平時將第一點(diǎn)火室和第二點(diǎn)火室的內(nèi)部壓力保持在預(yù)定水平；旁路通道，由工作流體穿過對稱地設(shè)置在主活塞上方和下方的壓縮保持器和回彈保持器以及橫向于軸桿的垂直長度方向形成的多個孔形成。因此，電子控制的內(nèi)置阻尼器能夠利用相對簡單的結(jié)構(gòu)在軟模和硬模下均實(shí)現(xiàn)阻尼性能并且在減少剛度的同時增強(qiáng)密封性能。
【專利說明】電子控制的內(nèi)置阻尼器
[0001]相關(guān)申請的交叉引用
[0002]本申請要求在2015年I月29日向韓國知識產(chǎn)權(quán)局遞交的申請?zhí)枮?0-2015-0014406的韓國專利申請的優(yōu)先權(quán)，其全部內(nèi)容在此引入作為參考。
技術(shù)領(lǐng)域
[0003]本發(fā)明涉及一種電子控制的內(nèi)置阻尼器，尤其涉及一種能夠通過相對簡單的結(jié)構(gòu)在軟模和硬模下均實(shí)現(xiàn)阻尼性能和在降低剛度的同時增加密封性能的電子控制的內(nèi)置阻尼器。
【背景技術(shù)】
[0004]通常，在電子控制的外置阻尼器中，由于回彈沖程的通道與壓縮沖程的通道相同，回彈沖程和壓縮沖程的阻尼力通過一個可變閥門調(diào)節(jié)。
[0005]因此，電子控制的外置阻尼器不能獨(dú)立地調(diào)節(jié)閥門中回彈沖程和壓縮沖程的阻尼力，其中根據(jù)通過相同閥門的流量差而產(chǎn)生阻尼力的差。
[0006]考慮到這些方面，有可能通過主活塞的壓縮側(cè)上的止回閥的剛度來調(diào)節(jié)壓縮沖程的阻尼力，但是相較于通過在每個沖程中使用不同閥門調(diào)節(jié)阻尼力的常見的阻尼器而言，其自由程度相當(dāng)?shù)赜邢蕖?br>[0007]所以，雖然電子控制的阻尼器相較于常用的阻尼器昂貴，但是阻尼力調(diào)節(jié)的自由度降低。
[0008]另一方面，電子控制的內(nèi)置阻尼器可以通過如常用的阻尼器中的回彈沖程和壓縮沖程中的不同的獨(dú)立閥門獨(dú)立地控制阻尼力。然而，為了在硬模中增加可變閥門的壓縮側(cè)上的流量并實(shí)現(xiàn)阻尼性能，用于密封的盤的疊放數(shù)量增加并且因此剛度增加。
[0009]如果可變閥門的壓縮側(cè)的剛度增加，則軟模的阻尼力增加，并且因此阻尼力調(diào)節(jié)的自由度降低。
[0010]引用列表
[0011]專利文獻(xiàn)
[0012](專利文獻(xiàn)I)韓國專利注冊號:10-0947288

【發(fā)明內(nèi)容】

[0013]本發(fā)明已致力于解決上述問題并且旨在提供一種能夠通過相對簡單的結(jié)構(gòu)在軟模和硬模下實(shí)現(xiàn)阻尼性能并在降低剛度的同時增加密封性能的電子控制的內(nèi)置阻尼器，從而通過降低軟模的阻尼力及保持硬模的阻尼力來提高阻尼力調(diào)節(jié)的自由度和可變范圍。
[0014]根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例，電子控制的內(nèi)置阻尼器包括:主通道，由工作流體流動通過主活塞形成，壓縮通道和回彈通道在其中交替設(shè)置；點(diǎn)火通道(pilot passage)，由預(yù)定量那么多的工作流體從第一點(diǎn)火室和第二點(diǎn)火室釋放而形成，以便于當(dāng)?shù)谝稽c(diǎn)火室和第二點(diǎn)火室的壓力增加超過預(yù)定水平時將第一點(diǎn)火室和第二點(diǎn)火室的內(nèi)部壓力保持在預(yù)定水平，第一點(diǎn)火室由設(shè)置在主活塞上方的壓縮保持器和設(shè)置在壓縮保持器上方的第一殼體形成，第二點(diǎn)火室由設(shè)置在主活塞下方的回彈保持器和設(shè)置在回彈保持器下方的第二殼體形成；以及旁路通道，由工作流體穿過對稱地設(shè)置在主活塞上方和下方的壓縮保持器和回彈保持器以及沿著軸桿的垂直長度方向形成的多個孔而形成，旁路通道由工作流體穿過缸體上腔室和缸體下腔室經(jīng)由第一點(diǎn)火室和第二點(diǎn)火室形成，其中軸桿穿過主活塞、壓縮保持器、回彈保持器、第一殼體以及第二殼體的中心部分。
[0015]電子控制的內(nèi)置阻尼器可以更進(jìn)一步包括:第一密封構(gòu)件，安裝在壓縮保持器的頂表面上且當(dāng)密封第一殼體的下方內(nèi)部外周表面時通過工作流體的壓力允許一定程度的垂直往復(fù)運(yùn)動，以使第一殼體的內(nèi)部空間成為第一點(diǎn)火室；以及第二密封構(gòu)件，安裝在回彈保持器的底表面上且當(dāng)密封第二殼體的上方內(nèi)部外周表面時通過工作流體的壓力允許一定程度的垂直往復(fù)運(yùn)動，以使第二殼體的內(nèi)部空間成為第二點(diǎn)火室。
【附圖說明】
[0016]圖1是顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的電子控制的內(nèi)置阻尼器的總體結(jié)構(gòu)和回彈沖程期間的通道的截面概念示圖。
[0017]圖2是顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的電子控制的內(nèi)置阻尼器的總體結(jié)構(gòu)和壓縮沖程期間的通道的截面概念示圖。
[0018]圖3至圖6是顯示根據(jù)本發(fā)明的不同實(shí)施例的電子控制的內(nèi)置阻尼器中的密封組件的應(yīng)用示例的截面概念示圖。
【具體實(shí)施方式】
[0019]從結(jié)合附圖詳細(xì)描述的以下實(shí)施例中，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征以及用于實(shí)現(xiàn)它們的方法將更明顯。
[0020]然而，本發(fā)明并非限制于以下實(shí)施例，而可以各種方式實(shí)施。
[0021]這些實(shí)施例被提供使得本公開將是徹底的和完整的，并且將向本領(lǐng)域技術(shù)人員充分地傳達(dá)本發(fā)明的范圍。
[0022]本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求所限定。
[0023]因此，為了簡單和清楚，在一些實(shí)施例中，眾所周知的元件、操作和技術(shù)的詳細(xì)說明將被省略。
[0024]貫穿本公開，相似的參考數(shù)字指相似的元件。這里使用的術(shù)語旨在僅描述具體的實(shí)施例，并且不意圖限制本發(fā)明。
[0025]在本說明書中，單數(shù)形式“一”、“一個”和“所述”也意圖包括復(fù)數(shù)形式，除非上下文另外清楚地表明。將理解的是當(dāng)這里使用時諸如“包括”、“包含”和“具有”的術(shù)語說明所述元件和操作的存在，但并不排除一個或多個其它元件和操作的存在或增加。
[0026]除非另有限定，否則包括技術(shù)和科學(xué)術(shù)語的全部術(shù)語將在這里使用以具有與本發(fā)明所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員通常理解的含義相同的含義。
[0027]將進(jìn)一步理解的是，諸如那些在常用字典中限定的術(shù)語將被解釋為具有與它們在現(xiàn)有技術(shù)的上下文中的含義一致的含義，并且將不應(yīng)以理想化的或過度形式的方式去解釋，除非這里明確限定。
[0028]現(xiàn)在，將參照附圖描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。
[0029]圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的電子控制的內(nèi)置阻尼器的總體結(jié)構(gòu)和回彈沖程期間的通道的截面概念示圖，圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的電子控制的內(nèi)置阻尼器的總體結(jié)構(gòu)和壓縮沖程期間的通道的截面概念示圖。
[0030]如圖所示，根據(jù)本發(fā)明的電子控制的內(nèi)置阻尼器包括主通道M、點(diǎn)火通道P和旁路通道B。
[0031]主通道M由工作流體流動通過主活塞100形成，壓縮通道102和回彈通道101在主活塞100中交替設(shè)置。
[0032]當(dāng)?shù)谝稽c(diǎn)火室311和第二點(diǎn)火室322的內(nèi)部壓力增加超過預(yù)定水平時，點(diǎn)火通道P由從第一點(diǎn)火室311和第二點(diǎn)火室322釋放的預(yù)定量那么多的工作流體形成，以便將第一點(diǎn)火室311和第二點(diǎn)火室322的內(nèi)部壓力保持到預(yù)定水平。
[0033]第一點(diǎn)火室311由設(shè)置在主活塞100上方的壓縮保持器200和設(shè)置在壓縮保持器200上方的第一殼體310形成。
[0034]在這種情況下，第二點(diǎn)火室322由設(shè)置在主活塞100下方的回彈保持器400和設(shè)置在回彈保持器400下方的第二殼體320形成。
[0035]旁路通道B由工作流體穿過對稱地設(shè)置在主活塞100上方和下方的壓縮保持器200和回彈保持器400以及橫向于軸桿500的垂直長度方向形成的多個孔501至506形成。
[0036]S卩，旁路通道B由工作流體在缸體上腔室U和缸體下腔室D之間流動同時穿過第一點(diǎn)火室311和第二點(diǎn)火室322而形成。
[0037]軸桿500穿透主活塞100、壓縮保持器200、回彈保持器400、第一殼體310和第二殼體320的中心部分。
[0038]除上述實(shí)施例以外，以下各個實(shí)施例在本發(fā)明中也可適用。
[0039]特別地，參照圖1，在回彈沖程期間，主通道M由從主活塞100的回彈通道101的上部流動至設(shè)置在主活塞100的底表面上的回彈保持器400的連通孔401并且通過設(shè)置在回彈保持器400下方的第二殼體320的上部空間被釋放至第二殼體320外的工作流體而形成。
[0040]參照圖2，在壓縮沖程期間，主通道M由從主活塞100的壓縮通道102的下部流動至設(shè)置在主活塞100的頂表面上的壓縮保持器200的連通孔201并且通過設(shè)置在壓縮保持器200上方的第一殼體310的下部空間被釋放至第一殼體310外的工作流體而形成。
[0041]再參照圖1，在回彈沖程期間，旁路通道B由從主活塞100的回彈通道101的上部流動通過回彈保持器400的連通孔401并且橫跨驅(qū)動軸600的往復(fù)方向穿過軸桿500且然后通過主活塞100的壓縮通道102并且經(jīng)過回彈保持器400的頂表面被釋放至回彈保持器400外的工作流體而形成。
[0042]再參照圖2，在壓縮沖程期間，旁路通道B由從主活塞100的壓縮通道102的下部流動通過壓縮保持器200的連通孔201并橫跨驅(qū)動軸600的往復(fù)方向穿過軸桿500且然后通過主活塞100的回彈通道101并且經(jīng)過壓縮保持器200的頂表面被釋放至壓縮保持器200外的工作流體而形成。
[0043]再參照圖1，在回彈沖程期間，點(diǎn)火通道P由從主活塞100的壓縮通道101的上部流動通過回彈保持器400的連通孔401并橫跨驅(qū)動軸600的往復(fù)方向穿過軸桿500且然后通過為第二殼體320的內(nèi)部空間的第二點(diǎn)火室322被釋放至第二殼體320外的底部的工作流體而形成。
[0044]再參照圖2，在壓縮沖程期間，點(diǎn)火通道P由從主活塞100的壓縮通道102的下部流動通過壓縮保持器200的連通孔201并橫跨驅(qū)動軸600的往復(fù)方向的軸桿500且然后通過為第一殼體310的內(nèi)部空間的第一點(diǎn)火室311被釋放至第一殼體310外的上部的工作流體而形成。
[0045]被構(gòu)造以形成主通道M、點(diǎn)火通道P和旁路通道B的電子控制的內(nèi)置阻尼器的各個元件將被描述如下。
[0046]軸桿500被安裝在活塞桿700的端部處，驅(qū)動軸600沿長度方向往復(fù)可移動地被安裝在其中。
[0047]被構(gòu)造以形成主通道M、點(diǎn)火通道P和旁路通道B的電子控制的內(nèi)置阻尼器的元件中，其中心部分被安裝在活塞桿700處的軸桿500穿透的活塞組件PA與活塞桿700的往復(fù)聯(lián)鎖用以允許工作流體在缸體上腔室U和缸體下腔室D之間流動?；钊M件PA包括主活塞100、壓縮保持器200和回彈保持器400。
[0048]如上所述，回彈通道101和壓縮通道102交替地設(shè)置在主活塞100中。
[0049]壓縮保持器200被設(shè)置在主活塞100的頂表面上并包括分別與多個壓縮通道102連通的連通孔201。
[0050]回彈保持器400被設(shè)置在主活塞100的底表面上并包括分別與多個回彈通道101連通的連通孔401。
[0051]軸桿500穿過主活塞100、壓縮保持器200和回彈保持器400的中心部分。
[0052]殼體組件HA包括第一殼體310和第二殼體320。第一殼體310被設(shè)置在壓縮保持器200上方。第一殼體310的底表面是敞開的。第一殼體310的內(nèi)部空間與其頂部外連通。第二殼體320被設(shè)置在回彈保持器400下方。第二殼體320的頂表面是敞開的。第二殼體320的內(nèi)部空間與其底部外連通。
[0053]密封組件SA包括第一密封構(gòu)件810和第二密封構(gòu)件820，其分別封堵第一殼體310的第一點(diǎn)火室311和第二殼體320的第二點(diǎn)火室322以便于形成點(diǎn)火通道P。
[0054]第一密封構(gòu)件810被安裝在壓縮保持器200的頂表面上且當(dāng)密封地鄰接第一殼體310的下方內(nèi)部外圍表面時通過工作流體的壓力允許一定程度的垂直往復(fù)，使得第一殼體310的內(nèi)部空間變成第一點(diǎn)火室311。
[0055]第二密封構(gòu)件820被安裝在回彈保持器400的底表面上且當(dāng)密封地鄰接第二殼體320的上方內(nèi)部外圍表面時通過工作流體的壓力允許一定程度的垂直往復(fù)，使得第二殼體320的內(nèi)部空間變成第二點(diǎn)火室322。
[0056]以下，將參照圖3-6對第一密封構(gòu)件810和和第二密封構(gòu)件820的各個實(shí)施例進(jìn)行描述。在圖3-6中未表不的參考標(biāo)號將以圖1和圖2作為參照。
[0057]參照圖3(a)，第一密封構(gòu)件810可包括第一密封盤811和第一密封唇812。
[0058]第一密封盤811被安裝在以環(huán)狀在軸桿500穿過其的壓縮保持器200的頂部中心部分處突出的第一壓縮盤座210上，并且其下部外邊緣接觸沿著壓縮保持器200的頂部外邊緣以環(huán)狀突出的第二壓縮盤座220。
[0059]第一密封唇812是連接至第一密封盤811且接觸第一殼體310的下方內(nèi)部外圍表面的彈性構(gòu)件。
[0060]另外，如圖3(a)所示，第一密封構(gòu)件810可進(jìn)一步包括覆蓋第一密封盤811的整個頂表面和第一密封盤811的底邊緣、被連接至第一密封唇812且與第一密封唇812—體成型的第一包覆成型部分813。
[0061 ] 第二壓縮盤座220可接觸不存在第一包覆成型部分813的第一密封盤811的底表面。
[0062]參照圖3(b)，第二密封構(gòu)件820可包括第二密封盤821和第二密封唇822。
[0063]第二密封盤821被安裝在以環(huán)狀在軸桿500穿過其的回彈保持器400的底部中心部分處突出的第一回彈盤座410上，且其上部外邊緣接觸沿著回彈保持器400的底部外邊緣以環(huán)狀突出的第二回彈盤座420。
[0064]第二密封唇822是連接至第二密封盤821且接觸第二殼體320的上方內(nèi)部外圍表面的彈性構(gòu)件。
[0065]另外，如圖3(b)所示，第二密封構(gòu)件820可進(jìn)一步包括覆蓋第二密封盤821的整個底表面和第二密封盤821的頂邊緣、被連接至第二密封唇822且與第二密封唇822—體成型的第二包覆成型部分823。
[0066]第二回彈盤座420可接觸不存在第二包覆成型部分823的第二密封盤821的頂表面。
[0067]參照圖4(a)，第一密封構(gòu)件810可以具有第一聯(lián)接突出部812p連接至成形有第一錐形表面814t的第一聯(lián)接槽814的結(jié)構(gòu)。
[0068]第一聯(lián)接槽814可被設(shè)置為多個。多個第一聯(lián)接槽814可以彼此分隔開，在第一密封盤811內(nèi)的邊緣具有預(yù)定長度，且為具有弧形的通孔。
[0069]第一錐形表面814t被形成為沿著每個第一聯(lián)接槽814的內(nèi)表面朝向第一密封盤811的底表面逐漸擴(kuò)寬。
[0070]第一聯(lián)接突出部812p可被設(shè)置為多個。多個第一聯(lián)接突出部812p以與第一錐形表面814t和多個第一聯(lián)接槽814相對應(yīng)的形狀沿著第一密封唇812的底表面突出，且分別地固定至多個第一聯(lián)接槽814。
[0071]因此，當(dāng)?shù)谝宦?lián)接突出部812p被適配至第一聯(lián)接槽814中時，第一聯(lián)接突出部812p可以保持牢固地聯(lián)接狀態(tài)使得第一聯(lián)接突出部812p很難從第一聯(lián)接槽814處釋放。
[0072]參照圖4(b)，第二密封構(gòu)件820可具有第二聯(lián)接突出部822p連接至成形有第二錐形表面824t的第二聯(lián)接槽824的結(jié)構(gòu)。
[0073]第二聯(lián)接槽824可被設(shè)置為多個。多個第二聯(lián)接槽824可以彼此分隔開，在第二密封盤821內(nèi)的邊緣具有預(yù)定長度，且為具有弧形的通孔。
[0074]第二錐形表面824t被形成為沿著每個第二聯(lián)接槽824的內(nèi)表面朝向第二密封盤821的頂表面逐漸地擴(kuò)寬。
[0075]第二聯(lián)接突出部822p可被設(shè)置為多個。多個第二聯(lián)接突出部822p以與第二錐形表面824t和多個第二聯(lián)接槽824相對應(yīng)的形狀沿著第二密封唇822的頂表面突出，且分別地固定至多個第二聯(lián)接槽824。
[0076]因此，當(dāng)?shù)诙?lián)接突出部822p被適配至第二聯(lián)接槽824中時，第二聯(lián)接突出部822p可以保持牢固地聯(lián)接狀態(tài)使得第二聯(lián)接突出部822p很難從第二聯(lián)接槽824處釋放。
[0077]參照圖5(a)，第一密封構(gòu)件810可包括第一密封盤811和第一密封槽811g。
[0078]第一密封盤811被安裝在以環(huán)狀在軸桿500穿過其的壓縮保持器200的頂部中心部分處突出的第一壓縮盤座210上，且其下部外邊緣被安裝在沿著壓縮保持器200的頂部外邊緣以環(huán)狀突出的第二壓縮盤座220上。
[0079]第一密封槽Sllg沿著第一殼體310的下方內(nèi)部外圍表面以環(huán)狀凹入。第一密封盤811的邊緣被插入其中。第一密封槽81 Ig形成允許第一密封盤811的邊緣在垂直方向可移動一定程度的空間。
[0080]參照圖5(a)，第一密封構(gòu)件810可進(jìn)一步包括第一環(huán)形墊圈815，其被設(shè)置在第一密封槽Sllg的上部且在產(chǎn)生彈性排斥力以按下通過工作流體將要向上移動的第一密封盤811的邊緣時受到彈性形變。
[0081]在這種情況下，如圖所述，第一環(huán)形墊圈815的截面具有向上凸出的弧和向下凸出的弧彼此連接的波浪形狀，并且可產(chǎn)生回彈力以及在被壓縮后可恢復(fù)至其初始形狀。
[0082]另外，為了保持密封性能，第一密封構(gòu)件810可進(jìn)一步包括第一O型環(huán)811r，其被設(shè)置在第一密封槽81 Ig的內(nèi)表面和第一密封盤811的邊緣之間。
[0083]參照圖5(b)，第二密封構(gòu)件820可包括第二密封盤821和第二密封槽821g。
[0084]第二密封盤821接觸以環(huán)狀在軸桿500穿過其的回彈保持器400的底部中心部分處突出的第一回彈盤座410，且其上部外邊緣接觸沿著回彈保持器400的底部外邊緣以環(huán)狀突出的第二回彈盤座420。
[0085]第二密封槽821g沿著第二殼體320的上方內(nèi)部外圍表面以環(huán)狀凹入。第二密封盤821的邊緣被插入其中。第二密封槽821g形成允許第二密封盤821的邊緣在垂直方向上可移動一定程度的空間。
[0086]參照圖5(b)，第二密封構(gòu)件820可進(jìn)一步包括第二環(huán)形墊圈825，其設(shè)置在第二密封槽821g的下部且在產(chǎn)生回彈力以向上按壓通過工作流體將要向下移動的第二密封盤821的邊緣時受到彈性形變。
[0087]在這種情況下，如圖所示，第二環(huán)形墊圈825的截面具有向上凸出的弧和向下凸出的弧彼此連接的波浪形狀，并且可產(chǎn)生回彈力以及在被壓縮后可以恢復(fù)至其初始形狀。
[0088]另外，為了保持密封性能，第二密封構(gòu)件820可進(jìn)一步包括第二O型環(huán)821r，其被設(shè)置在第二密封槽821g的內(nèi)表面和第二密封盤821的邊緣之間。
[0089]參照圖6(a)，第一密封構(gòu)件810可包括第一密封隔板816。
[0090]第一密封隔板816包括第一邊緣SI和第二邊緣S2。第一邊緣SI被支撐在從第一殼體310的內(nèi)側(cè)頂部中心延伸的第一中心支撐部312的外部外圍表面處，以支撐穿過第一殼體310的中心部分的軸桿500的外部外圍表面。第二邊緣S2被支撐在第一殼體310的下方內(nèi)部外圍表面處。
[0091]第一密封隔板816被安裝在沿著壓縮保持器200的頂部外邊緣以環(huán)狀突出的第二壓縮盤座220上，且其受到形變。
[0092]在這種情況下，第一邊緣SI和第二邊緣S2在相同的高度處被設(shè)置，且第二壓縮盤座220的上端被設(shè)置在比第一邊緣SI和第二邊緣S2更高的水平。因此，第一密封隔板816的形變可被允許。
[0093]根據(jù)圖6(b)，第二密封構(gòu)件820可包括第二密封隔板826。
[0094]第二密封隔板826包括第三邊緣S3和第四邊緣S4。第三邊緣S3被支撐在從第二殼體320的內(nèi)側(cè)底部中心延伸的第二中心支撐部321的外部外圍表面處，以支撐穿過第二殼體320的中心部分的軸桿500的外部外圍表面。第四邊緣S4被支撐在第二殼體320的上方內(nèi)部外圍表面處。
[0095]第二密封隔板826被安裝在沿著回彈保持器400的底部外邊緣以環(huán)狀突出的第二回彈盤座420上，且其受到形變。
[0096]在這種情況下，第三邊緣S3和第四邊緣S4在相同的高度處被設(shè)置，且第二回彈盤座420的下端被設(shè)置在比第三邊緣S3和第四邊緣S4更低的水平。因此，形變可被允許。
[0097]本發(fā)明的基本的技術(shù)精神是提供電子控制的內(nèi)置阻尼器，其能夠通過相對簡單的結(jié)構(gòu)在軟模和硬模下均實(shí)現(xiàn)阻尼性能并且在減少剛度的同時增強(qiáng)密封性能。
[0098]對于本領(lǐng)域技術(shù)人員明顯的是在不脫離本發(fā)明的基本技術(shù)精神的情況下也可進(jìn)行各種修改和應(yīng)用。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種電子控制的內(nèi)置阻尼器，其包括: 主通道，由工作流體流動通過主活塞形成，壓縮通道和回彈通道在其中交替設(shè)置； 點(diǎn)火通道，由預(yù)定量那么多的工作流體從第一點(diǎn)火室和第二點(diǎn)火室釋放而形成，以便當(dāng)所述第一點(diǎn)火室和所述第二點(diǎn)火室的壓力增加超過預(yù)定水平時將所述第一點(diǎn)火室和所述第二點(diǎn)火室的內(nèi)部壓力保持在所述預(yù)定水平，所述第一點(diǎn)火室由設(shè)置在所述主活塞上方的壓縮保持器和設(shè)置在所述壓縮保持器上方的第一殼體形成，所述第二點(diǎn)火室由設(shè)置在所述主活塞下方的回彈保持器和設(shè)置在所述回彈保持器下方的第二殼體形成；以及 旁路通道，由工作流體穿過對稱地設(shè)置在所述主活塞上方和下方的所述壓縮保持器和所述回彈保持器以及橫向于軸桿的垂直長度方向形成的多個孔而形成，所述旁路通道由工作流體在缸體上腔室和缸體下腔室之間流動經(jīng)過所述第一點(diǎn)火室和所述第二點(diǎn)火室而形成， 其中所述軸桿穿透所述主活塞、所述壓縮保持器、所述回彈保持器、所述第一殼體以及所述第二殼體的中心部位。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子控制的內(nèi)置阻尼器，其中，在回彈沖程期間，所述主通道由從所述主活塞的回彈通道的上部流動至設(shè)置在所述主活塞的底表面上的所述回彈保持器的連通孔并且通過設(shè)置在所述回彈保持器下方的第二殼體的上部空間被釋放至所述第二殼體外的工作流體而形成。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子控制的內(nèi)置阻尼器，其中，在壓縮沖程期間，所述主通道由從所述主活塞的壓縮通道的下部流動至設(shè)置在所述主活塞的頂表面上的所述壓縮保持器的連通孔并且通過設(shè)置在所述壓縮保持器上方的第一殼體的下部空間被釋放至所述第一殼體外的工作流體而形成。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子控制的內(nèi)置阻尼器，其中，在回彈沖程期間，所述旁路通道由從所述主活塞的回彈通道的上部流動通過所述回彈保持器的連通孔并且橫跨驅(qū)動軸的往復(fù)方向穿過所述軸桿且然后通過所述主活塞的壓縮通道以及經(jīng)過所述回彈保持器的頂表面被釋放至所述回彈保持器外的工作流體而形成。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子控制的內(nèi)置阻尼器，其中，在壓縮沖程期間，所述旁路通道由從所述主活塞的壓縮通道的下部流動通過所述壓縮保持器的連通孔并且橫跨驅(qū)動軸的往復(fù)方向穿過所述軸桿且然后通過所述主活塞的回彈通道以及經(jīng)過所述壓縮保持器的頂表面被釋放至所述壓縮保持器外的工作流體而形成。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子控制的內(nèi)置阻尼器，其中，在回彈沖程期間，所述點(diǎn)火通道由從所述主活塞的壓縮通道的上部流動通過所述回彈保持器的連通孔并且橫跨驅(qū)動軸的往復(fù)方向穿過所述軸桿且然后通過為所述第二殼體的內(nèi)部空間的第二點(diǎn)火室被釋放至所述第二殼體的底部外的工作流體而形成。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子控制的內(nèi)置阻尼器，其中，在壓縮沖程期間，所述點(diǎn)火通道由從所述主活塞的壓縮通道的下部流動通過所述壓縮保持器的連通孔并且橫跨驅(qū)動軸的往復(fù)方向穿過所述軸桿且然后通過為所述第一殼體的內(nèi)部空間的第一點(diǎn)火室被釋放至所述第一殼體的頂部外的工作流體而形成。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子控制的內(nèi)置阻尼器，其進(jìn)一步包括: 活塞組件，其包括所述壓縮通道和所述回彈通道在其中交替地設(shè)置的主活塞、被設(shè)置在所述主活塞的頂表面上且包括分別與所述壓縮通道連通的多個連通孔的壓縮保持器和被設(shè)置在所述主活塞的底表面上且包括分別與所述回彈通道連通的連通孔的回彈保持器，其中所述軸桿穿透所述主活塞、所述壓縮保持器和所述回彈保持器的中心部分；以及 殼體組件，其包括第一殼體和第二殼體，其中所述第一殼體被設(shè)置在所述壓縮保持器上方，所述第一殼體的底表面是敞開的，所述第一殼體的內(nèi)部空間與其頂部外連通，所述第二殼體被設(shè)置在所述回彈保持器下方，所述第二殼體的頂表面是敞開的，所述第二殼體的內(nèi)部空間與其底部外連通。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電子控制的內(nèi)置阻尼器，其進(jìn)一步包括: 第一密封構(gòu)件，安裝在所述壓縮保持器的頂表面上，且當(dāng)密封地鄰接所述第一殼體的下方內(nèi)部外圍表面時通過工作流體的壓力允許一定程度的垂直往復(fù)，以使所述第一殼體的內(nèi)部空間成為所述第一點(diǎn)火室；以及 第二密封構(gòu)件，安裝在所述回彈保持器的底表面上，且允許當(dāng)密封地鄰接所述第二殼體的上方內(nèi)部外圍表面時通過工作流體的壓力允許一定程度的垂直往復(fù)，以使所述第二殼體的內(nèi)部空間成為所述第二點(diǎn)火室。10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電子控制的內(nèi)置阻尼器，其中所述第一密封構(gòu)件包括: 第一壓縮盤，被設(shè)置在所述壓縮保持器和所述第一殼體之間；以及 第一密封唇，其為連接至所述第一壓縮盤且接觸所述第一殼體的下方內(nèi)部外圍表面的彈性元件。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的電子控制的內(nèi)置阻尼器，其中所述第一壓縮盤和所述第一密封唇之間的連接通過將形成于所述第一密封唇的第一聯(lián)接突部插入到形成在所述第一壓縮盤中且具有第一錐形表面的第一聯(lián)接槽中而執(zhí)行， 所述第一錐形表面朝向所述第一密封盤的底表面逐漸地擴(kuò)寬。12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電子控制的內(nèi)置阻尼器，其中所述第二密封構(gòu)件包括: 第二壓縮盤，被設(shè)置在所述回彈保持器和所述第二殼體之間；以及 第二密封唇，其為連接至所述第二壓縮盤且接觸所述第二殼體的上方內(nèi)部外圍表面的彈性元件。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電子控制的內(nèi)置阻尼器，其中所述第二壓縮盤和所述第二密封唇之間的連接通過將形成在所述第二密封唇中的第二聯(lián)接突出部插入到形成在所述第二壓縮盤中且具有第二錐形表面的第二聯(lián)接槽中而執(zhí)行， 所述第二錐形表面朝向所述第二密封盤的頂表面逐漸地擴(kuò)寬。
【文檔編號】F16F9/32GK105840715SQ201610060363
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2016年1月28日
【發(fā)明人】金恩中
【申請人】株式會社萬都