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      可攜式供氫系統(tǒng)的制作方法

      文檔序號(hào):5812911閱讀:311來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:可攜式供氫系統(tǒng)的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種可攜式供氫系統(tǒng)(Hydrogen supply system),用以氣體型式供應(yīng)氫給一使用氫的裝置(Hydrogen-using device),例如,燃料電池(Fuelcell)、氣相層析儀(Gas chromatography system)或熒光光譜分析儀(Fluorescence spectrometer)等裝置。
      背景技術(shù)
      先前的氫氣供應(yīng)系統(tǒng),其儲(chǔ)存氫氣的型態(tài),多為氣態(tài)及液態(tài)兩種形態(tài)。由于氣態(tài)氫、液態(tài)氫有易燃的特性,因此,先前的氫氣供應(yīng)系統(tǒng)會(huì)讓人擔(dān)憂有引發(fā)爆炸的危險(xiǎn)。為降低先前的氫氣供應(yīng)系統(tǒng)的危險(xiǎn)性,先前的氫氣供應(yīng)系統(tǒng)都會(huì)加以牢固地固定,以防傾倒引發(fā)爆炸,也因此,先前的氫氣供應(yīng)系統(tǒng)無(wú)法設(shè)計(jì)成可攜式的供氫系統(tǒng)。
      隨著固態(tài)儲(chǔ)存氫技術(shù)的開(kāi)發(fā),亦即儲(chǔ)氫合金(Hydrogen storage alloy)的開(kāi)發(fā),用以儲(chǔ)存氫的裝置的安全性也隨之大幅提升。然而,以往運(yùn)用儲(chǔ)氫合金的裝置,大多為間接地使用氫。舉例說(shuō)明,于常見(jiàn)的運(yùn)用儲(chǔ)氫合金的裝置中,氫并不以直接消耗的方式(例如,燃燒)運(yùn)作,而以電化學(xué)反應(yīng)的方式將化學(xué)能直接轉(zhuǎn)換成電能的電池,例如,鎳氫電池(Nickel-metal hydride battery)、燃料電池等。以燃料電池為例,收納儲(chǔ)氫合金的儲(chǔ)氫罐(Hydrogen storage canister)為燃料電池的固定式組件。此外,由于儲(chǔ)氫合金具有在產(chǎn)生吸氫/放氫的化學(xué)反應(yīng)(可逆反應(yīng))的過(guò)程中,伴隨著放熱/吸熱的熱反應(yīng)(可逆反應(yīng))的特性,因此,亦有運(yùn)用儲(chǔ)氫合金的熱交換器被開(kāi)發(fā)。然而,與燃料電池相同,收納儲(chǔ)氫合金的儲(chǔ)氫罐亦為上述熱交換器的固定式組件。
      因此,本發(fā)明的一目的在于提供一種供氫系統(tǒng),用以安全地儲(chǔ)存氫原子,并且以氣體型式供應(yīng)氫給一使用氫的裝置使用,例如,燃料電池、氣相層析儀或熒光光譜分析儀等裝置。特別地,根據(jù)本發(fā)明的供氫系統(tǒng)設(shè)計(jì)成可攜式。借此,確保需使用到上述使用氫的裝置的場(chǎng)所的安全。也借此,確保氫源(Hydrogen source)在運(yùn)輸上的安全性,也提升氫源在運(yùn)輸上的便利性。也借此,讓上述使用氫的裝置若為可攜式的裝置(例如,可攜式氣相層析儀),搭配可攜式供氫系統(tǒng),將大幅增加可攜式使用氫的裝置于現(xiàn)場(chǎng)(In situ)使用的可行性。也借此,可改變?nèi)剂想姵刂泄湎到y(tǒng)為非固定式、可更換的系統(tǒng)。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的一目的在于提供一種可攜式供氫系統(tǒng),用以安全地儲(chǔ)存氫原子,并且以氣體型式供應(yīng)氫給一使用氫的裝置使用,例如,燃料電池、氣相層析儀或熒光光譜分析儀等裝置。
      根據(jù)本發(fā)明的一較佳具體實(shí)施例的供氫系統(tǒng),其包含一座體、至少一個(gè)儲(chǔ)氫罐、一管線裝置以及一控制閥。該座體具有一安設(shè)于其內(nèi)部的第一隔板以及一內(nèi)壁。每一個(gè)儲(chǔ)氫槽皆收納一儲(chǔ)氫合金。該至少一個(gè)儲(chǔ)氫罐彼此皆隔開(kāi),并且皆固定至該第一隔板上。每一個(gè)儲(chǔ)氫罐皆具有一個(gè)別的并露在該第一隔板與該內(nèi)壁之間的開(kāi)口。該管線裝置具有一第一端以及一第二端。該管線裝置的第一端分別密封地連接至每一個(gè)儲(chǔ)氫罐的開(kāi)口。該管線裝置的第二端露于該座體之外。一進(jìn)/出氣端口提供于該管線裝置的第二端處。該控制閥裝設(shè)于該管線裝置上近該進(jìn)/出氣端口處。當(dāng)該供氫系統(tǒng)先前即吸氫至每一個(gè)個(gè)儲(chǔ)氫罐內(nèi),并且與一使用氫的裝置連結(jié)時(shí),該供氫系統(tǒng)則于該進(jìn)/出氣端口處供應(yīng)具有一穩(wěn)定壓力的氫氣給該使用氫的裝置,并且由該供氫系統(tǒng)所供應(yīng)的氫氣的壓力能通過(guò)調(diào)整該控制閥來(lái)改變。
      關(guān)于本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)與精神可以通過(guò)以下的發(fā)明詳述及所附附圖得到進(jìn)一步的了解。


      圖1A為繪示根據(jù)本發(fā)明的較佳具體實(shí)施例的供氫系統(tǒng)1的內(nèi)部構(gòu)造。
      圖1B為繪示根據(jù)本發(fā)明的較佳具體實(shí)施例的供氫系統(tǒng)1的外觀。
      圖2為繪示可協(xié)助該供氫系統(tǒng)1內(nèi)部空氣流通的風(fēng)扇模塊2。
      圖3A為繪示圖1A中所述儲(chǔ)氫罐14以另一形式的排列。
      圖3B為繪示圖3A所繪示的供氫系統(tǒng)1的外觀。
      圖4為繪示以根據(jù)本發(fā)明的供氫系統(tǒng)1做為一單元所架構(gòu)成的供氫系統(tǒng)組合2。
      圖5為繪示圖1A的供氫系統(tǒng)1,其加裝另一組管線裝置及控制閥。
      其中,附圖標(biāo)記說(shuō)明如下1 供氫系統(tǒng) 12 座體122 第一隔板 124 內(nèi)壁126 第二隔板 128 外殼1282通氣孔 13 把手14 儲(chǔ)氫罐 16、16’進(jìn)/出氣端口18、18’控制閥 2 風(fēng)扇模塊22 送風(fēng)孔 3 供氫系統(tǒng)組合具體實(shí)施方式
      本發(fā)明提供一種可攜式供氫系統(tǒng),用以安全地儲(chǔ)存氫原子,并且以氣體型式供應(yīng)氫給一使用氫的裝置使用。以下將詳述本發(fā)明的較佳具體實(shí)施例,借以充分解說(shuō)本發(fā)明的特征、精神、優(yōu)點(diǎn)以及應(yīng)用上的簡(jiǎn)便性。
      請(qǐng)參閱圖1A以及圖1B所示,其描繪根據(jù)本發(fā)明的一較佳具體實(shí)施例的供氫系統(tǒng)1。圖1A繪示該供氫系統(tǒng)1的內(nèi)部構(gòu)造。圖1B繪示該供氫系統(tǒng)1的外觀。
      如圖1A所示,該供氫系統(tǒng)1包含一座體(Housing)12、至少一個(gè)儲(chǔ)氫罐(Hydrogen storage canister)14(例如,圖1A中所繪示的四個(gè)儲(chǔ)氫罐14)、一管線裝置(Piping means)以及一控制閥(Control valve)18。
      如圖1A所示,該座體12具有一安設(shè)于其內(nèi)部的第一隔板(Partition)122以及一內(nèi)壁124。
      每一個(gè)儲(chǔ)氫槽14皆收納一儲(chǔ)氫合金。誠(chéng)如上文所述,儲(chǔ)氫合金具有在產(chǎn)生吸氫/放氫的化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中,伴隨著放熱/吸熱的熱反應(yīng)。因此,每一個(gè)儲(chǔ)氫罐14在放氫時(shí),其周圍溫度會(huì)下降,進(jìn)而影響到鄰近的儲(chǔ)氫罐14放氫的反應(yīng)減緩。為了降低所述儲(chǔ)氫罐14在吸/放氫時(shí)彼此間的影響,所述儲(chǔ)氫罐14彼此皆隔開(kāi),并做適當(dāng)?shù)嘏帕?,如圖1A所示,該四個(gè)儲(chǔ)氫罐14做矩陣式的排列,以利所述儲(chǔ)氫罐14在吸/放氫時(shí),其周圍的空氣能流通。
      如圖1B所示,該座體12并且具有一外殼128,該外殼其上提供有多個(gè)通氣孔(Ventilator)1282以及至少一個(gè)把手(Handle)13。提供多個(gè)通氣孔1282的用意,是促使該供氫系統(tǒng)1內(nèi)部的空氣能流通至外部,以降低所述儲(chǔ)氫罐14在吸/放氫時(shí)彼此間的影響。該把手13設(shè)計(jì)的用意,讓該供氫系統(tǒng)更方便攜帶。
      同樣示于圖1A,所述儲(chǔ)氫罐14并且皆固定至該第一隔板122上。設(shè)立該第一隔板122的用意,是讓所述儲(chǔ)氫罐14不直接接觸到該座體12的外殼128,以避免所述儲(chǔ)氫罐14在吸/放氫時(shí),該座體12的外殼128發(fā)燙或結(jié)霜。該座體12的底座亦可以留有通氣孔。底座設(shè)有通氣孔的供氫系統(tǒng)1可架在如圖2所示的風(fēng)扇模塊2。裝設(shè)在該風(fēng)扇模塊2內(nèi)的風(fēng)扇將冷空氣通過(guò)送風(fēng)孔22,再經(jīng)過(guò)該供氫系統(tǒng)1的底座上的通氣孔,送入該供氫系統(tǒng)1內(nèi),以更佳促使該供氫系統(tǒng)1內(nèi)部的空氣流通,進(jìn)而維持所述個(gè)儲(chǔ)氫罐14在吸/放氫時(shí)的效率。
      如圖1A所示,每一個(gè)儲(chǔ)氫罐14皆具有一個(gè)別的并露在該第一隔板122與該內(nèi)壁124之間的開(kāi)口(Opening)。
      為了穩(wěn)固所述儲(chǔ)氫罐14,同樣示于圖1A中,該座體12并且具有一第二隔板126,所述儲(chǔ)氫罐14固定于該第一隔板122與該第二隔板126之間。除了穩(wěn)固所述儲(chǔ)氫罐14之外,設(shè)立該第二隔板122的用意,亦讓所述儲(chǔ)氫罐14不直接接觸到該座體12的外殼128,以避免所述儲(chǔ)氫罐14在吸/放氫時(shí),該座體12的外殼128發(fā)燙或結(jié)霜。
      如圖1A所示,該管線裝置具有一第一端以及一第二端。該管線裝置的第一端分別密封地連接至每一個(gè)儲(chǔ)氫罐14的開(kāi)口。該管線裝置的第二端露于該座體12之外。一進(jìn)/出氣端口(Port)16提供于該管線裝置的第二端處。
      關(guān)于該供氫系統(tǒng)1的內(nèi)部的變化,請(qǐng)見(jiàn)圖3A以及圖3B所示。圖3A繪示該供氫系統(tǒng)1其內(nèi)部構(gòu)造的變化。圖3B繪示圖3A所繪示的供氫系統(tǒng)1的外觀。
      請(qǐng)見(jiàn)圖3A所示,該四個(gè)儲(chǔ)氫罐14彼此皆隔開(kāi),并且做單列式地排列,以利所述儲(chǔ)氫罐14在吸/放氫時(shí),其周圍的空氣能流通。于圖3B中具有與圖1B相同號(hào)碼標(biāo)記的構(gòu)件,其同樣執(zhí)行圖2中相對(duì)應(yīng)單元所具有的功能,在此不做贅述。
      儲(chǔ)氫合金皆具有于PCI(Pressure-composition-isotherm)曲線上呈現(xiàn)平臺(tái)壓力(Plateau pressure)的特性。該供氫系統(tǒng)1于使用前,可連接壓力高過(guò)所述儲(chǔ)氫罐14所收納的儲(chǔ)氫合金的平臺(tái)壓力的氫源,即可將氫充入該供氫系統(tǒng)1內(nèi),并儲(chǔ)存于所述儲(chǔ)氫罐14內(nèi)。
      當(dāng)該供氫系統(tǒng)1先前即吸氫至每一個(gè)儲(chǔ)氫罐14內(nèi),并且與一使用氫的裝置(未繪示于圖中)連結(jié)時(shí),通過(guò)該儲(chǔ)氫合金于放氫時(shí)具有平臺(tái)壓力的特性,該供氫系統(tǒng)1則于該進(jìn)/出氣端口16處供應(yīng)具有一穩(wěn)定壓力的氫氣給該使用氫的裝置。由該供氫系統(tǒng)1所供應(yīng)的氫氣的壓力,能通過(guò)調(diào)整該控制閥18來(lái)改變。
      于一具體實(shí)施例中,該儲(chǔ)氫合金為一AB5型態(tài)合金并且表示成Lm(NixMy)。其中,Lm是一富鑭混合稀土金屬(La-rich misch metal),至少包含鑭(La)元素,并且與鈰(Ce)、鐠(Pr)、釹(Nd)以及釤(Sm)等元素所組成。Ni為鎳元素。M由鋁(Al)、鈦(Ti)、鋯(Zr)、錫(Sn)以及鈣(Ca)等元素所組成。x、y為摩爾數(shù),4.0≤x≤5.0,0≤y≤1.0,并且x+y=5。
      于另一具體實(shí)施例中,當(dāng)鑭元素達(dá)到該儲(chǔ)氫合金中Lm的70至90wt.%(重量百分比)的量,并且鈰元素達(dá)到該儲(chǔ)氫合金中Lm的5至25wt.%的量時(shí),通過(guò)將該控制閥18完全地打開(kāi),該供氫系統(tǒng)1所供應(yīng)的氫氣的壓力于室溫下等于或高于0.2Mpa。
      于一具體實(shí)施例中,當(dāng)鑭元素達(dá)到該儲(chǔ)氫合金中Lm的50至70wt.%的量,并且鈰元素達(dá)到該儲(chǔ)氫合金中Lm的25至45wt.%的量時(shí),通過(guò)將該控制閥18完全地打開(kāi),該供氫系統(tǒng)1所供應(yīng)的氫氣的壓力于室溫下等于或高于0.7Mpa。
      于實(shí)際應(yīng)用時(shí),該供氫系統(tǒng)1事先與一氫氣源連接,讓氫氣源內(nèi)的氫以原子型態(tài)儲(chǔ)存至每一個(gè)儲(chǔ)氫罐14內(nèi)的儲(chǔ)氫合金。需注意的是,該氫氣源內(nèi)氫氣的壓力必須高過(guò)該供氫系統(tǒng)1事后供應(yīng)的氫氣的壓力。
      于一具體實(shí)施例中,該使用氫的裝置可以是燃料電池、氣相層析儀、熒光光譜分析儀,或其它直接使用氫源的裝置。
      根據(jù)本發(fā)明的供氫系統(tǒng),除了單獨(dú)使用之外,如圖4所示,亦可以將根據(jù)本發(fā)明的供氫系統(tǒng)1做為一單元,彼此串連進(jìn)而架構(gòu)成一供氫系統(tǒng)組合3。
      根據(jù)本發(fā)明的供氫系統(tǒng)亦可做為氫氣過(guò)濾器(Hydrogen filter),以純化一氫氣源內(nèi)的氫氣。以圖1A或圖3A所繪示的供氫系統(tǒng)1為例,若氫氣源的氫氣的純度原為99.99%,該氫氣源先行供應(yīng)氫氣至該供氫系統(tǒng)1內(nèi),再由該供氫系統(tǒng)1提供的氫氣的純度至少可高達(dá)99.9995%。
      需補(bǔ)充說(shuō)明的,半導(dǎo)體相關(guān)制程中,常常需使用到高純度氫氣。例如,氫氣被使用做為與三氯硅烷(Trichlorosilane)反應(yīng)的反應(yīng)氣體,進(jìn)而形成磊晶硅(Epitaxial silicon)。然而,從高純度氫氣燃燒中所產(chǎn)生的水蒸氣,會(huì)進(jìn)而與氧氣反應(yīng),助長(zhǎng)熱氧化物(Themal oxide)的生長(zhǎng)。因此,現(xiàn)行工業(yè)制成上使用高純度氫氣時(shí),對(duì)于氫氣的純度都有嚴(yán)格規(guī)定。關(guān)于一些使用到高純度氫氣的工業(yè)制程,其對(duì)氫氣的純度的要求,列于表一供參考。
      表一

      現(xiàn)行高純度氫氣大多在高壓、低溫的狀態(tài)下運(yùn)送。然而,高純度氫氣在轉(zhuǎn)載、運(yùn)送的過(guò)程中,必定會(huì)有雜質(zhì)滲入,進(jìn)而降低純度。制造商在使用運(yùn)送到的高純度氫氣之前,勢(shì)必要輔以價(jià)格昂貴、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的氫氣過(guò)濾器,來(lái)過(guò)濾運(yùn)送到的氫氣,讓其純度達(dá)到制造上對(duì)氫氣的純度的要求。
      根據(jù)本發(fā)明的供氫系統(tǒng)亦可做為價(jià)格較低廉、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的氫氣過(guò)濾器。除了上文中所提及,具有單一進(jìn)/出氣端口的供氫系統(tǒng)可將純度為99.99%的氫氣過(guò)濾成純度達(dá)99.9995%的氫氣。如圖5所示,圖1A中所披露的供氫系統(tǒng)1額外加裝另一組管線裝置及控制閥18’,以使該供氫系統(tǒng)1具有兩個(gè)進(jìn)/出氣端口(16以及16’)。該另一組管線裝置及控制閥18’的設(shè)置方式與原有管線及原有控制閥18的設(shè)置方式相同。該座體12及每一個(gè)儲(chǔ)氫罐14在結(jié)構(gòu)上與該另一組管線裝置及控制閥18’的配合,亦與原有管線裝置及控制閥18的配合相同。當(dāng)圖5所示的供氫系統(tǒng)1與一氫氣源相連接時(shí),該氫氣源內(nèi)的氫氣可由該供氫系統(tǒng)1的一個(gè)一進(jìn)/出氣端口(例如,進(jìn)氣端口16)進(jìn)氣,而從該供氫系統(tǒng)1的另一個(gè)一進(jìn)/出氣端口(例如,進(jìn)氣端口16’)排出。若該氫氣源內(nèi)氫氣的純度為99.99%時(shí),該氫氣源內(nèi)氫氣經(jīng)由圖5所示的供氫系統(tǒng)1循環(huán)過(guò)濾,其氫氣的純度至少可高達(dá)99.9999%,以符合超大規(guī)模集成電路級(jí)對(duì)氫氣純度的要求。
      總結(jié)本發(fā)明的特征以及優(yōu)點(diǎn)在此列舉如下(a)根據(jù)本發(fā)明的供氫系統(tǒng)安全地儲(chǔ)存氫原子,并且以氣體型式供應(yīng)氫給使用氫的裝置使用,借此,確保需使用到所述使用氫的裝置的場(chǎng)所的安全,也借此,確保氫源在運(yùn)輸上的安全性;(b)根據(jù)本發(fā)明的供氫系統(tǒng)為可攜式供氫系統(tǒng),借此,提升氫源在運(yùn)輸上的便利性,也借此,讓可攜式使用氫的裝置,搭配可攜式供氫系統(tǒng),將大幅增加可攜式使用氫的裝置于現(xiàn)場(chǎng)使用的可行性;以及(c)根據(jù)本發(fā)明的供氫系統(tǒng)為可攜式供氫系統(tǒng),借此,可改變?nèi)剂想姵刂泄湎到y(tǒng)為非固定式、可更換的系統(tǒng)。
      通過(guò)以上較佳具體實(shí)施例的詳述,希望能更加清楚描述本發(fā)明的特征與精神,而并非以上述所披露的較佳具體實(shí)施例來(lái)對(duì)本發(fā)明的范疇加以限制。相反地,其目的是希望能涵蓋各種改變及具相等性的安排于本發(fā)明所欲申請(qǐng)的專利范圍的范疇內(nèi)。
      權(quán)利要求
      1.一種可攜式供氫系統(tǒng),該供氫系統(tǒng)用以安全地儲(chǔ)存氫原子并且能以氣體型式供應(yīng)氫給一使用氫的裝置,該供氫系統(tǒng)包含一座體,該座體具有一安設(shè)于其內(nèi)部的第一隔板以及一內(nèi)壁;至少一個(gè)儲(chǔ)氫罐,每一個(gè)儲(chǔ)氫槽皆收納一儲(chǔ)氫合金,該至少一個(gè)儲(chǔ)氫罐彼此皆隔開(kāi)并且皆固定至該第一隔板上,每一個(gè)儲(chǔ)氫罐皆具有一個(gè)別的并露在該第一隔板與該內(nèi)壁之間的開(kāi)口;一管線裝置,該管線裝置具有一第一端以及一第二端,該管線裝置的第一端分別密封地連接至每一個(gè)儲(chǔ)氫罐的開(kāi)口,該管線裝置的第二端露于該座體之外,一進(jìn)/出氣端口提供于該管線裝置的第二端處;以及一控制閥,該控制閥裝設(shè)于該管線裝置上近該進(jìn)/出氣端口處;其中當(dāng)該供氫系統(tǒng)先前即吸氫至每一個(gè)儲(chǔ)氫罐內(nèi),并且與該使用氫的裝置連結(jié)時(shí),該供氫系統(tǒng)則于該進(jìn)/出氣端口處供應(yīng)具有一穩(wěn)定壓力的氫氣給該使用氫的裝置,并且由該供氫系統(tǒng)所供應(yīng)的氫氣的壓力能通過(guò)調(diào)整該控制閥來(lái)改變。
      2.如權(quán)利要求1所述的供氫系統(tǒng),其中該儲(chǔ)氫合金為一AB5型合金并且表示成Lm(NixMy),Lm為一富鑭混合稀土金屬并且包含鑭以及選自由鈰、鐠、釹以及釤所組成的一群組中的至少一個(gè)元素,Ni為鎳元素,M包含選自由鋁、鈦、鋯、錫以及鈣所組成的一群組中的至少一個(gè)元素,x、y為摩爾數(shù),4.0≤x≤5.0,0≤y≤1.0,并且x+y=5。
      3.如權(quán)利要求2所述的供氫系統(tǒng),其中當(dāng)鑭元素達(dá)到該儲(chǔ)氫合金中Lm的70至90wt.%(重量百分比)的量,并且鈰元素達(dá)到該儲(chǔ)氫合金中Lm的5至25wt.%的量時(shí),通過(guò)將該控制閥完全地打開(kāi)該供氫系統(tǒng)所供應(yīng)的氫氣的壓力于室溫下等于或高于0.2Mpa。
      4.如權(quán)利要求2所述的供氫系統(tǒng),其中當(dāng)鑭元素達(dá)到該儲(chǔ)氫合金中Lm的50至70wt.%的量,并且鈰元素達(dá)到該儲(chǔ)氫合金的25至45wt.%的量時(shí),通過(guò)將該控制閥完全地打開(kāi)該供氫系統(tǒng)所供應(yīng)的氫氣的壓力于室溫下等于或高于0.7Mpa。
      5.如權(quán)利要求1所述的供氫系統(tǒng),其中該使用氫的裝置選自由一燃料電池、一氣相層析儀以及一熒光光譜分析儀所組成的一群組中的一個(gè)裝置。
      6.如權(quán)利要求1所述的供氫系統(tǒng),其中該座體還具有一第二隔板,該至少一個(gè)儲(chǔ)氫罐固定于該第一隔板與該第二隔板之間。
      7.如權(quán)利要求1所述的供氫系統(tǒng),其中該座體還具有一外殼,該外殼上提供有多個(gè)通氣孔以及至少一個(gè)把手。
      8.一種供氫系統(tǒng),該供氫系統(tǒng)能與一氫氣源連接,該供氫系統(tǒng)包含一座體,該座體具有一安設(shè)于其內(nèi)部的第一隔板以及一第一內(nèi)壁;至少一個(gè)儲(chǔ)氫罐,每一個(gè)儲(chǔ)氫槽皆收納一儲(chǔ)氫合金,該至少一個(gè)儲(chǔ)氫罐彼此皆隔開(kāi)并且皆固定至該第一隔板上,每一個(gè)儲(chǔ)氫罐皆具有一個(gè)別的并露在該第一隔板與該第一內(nèi)壁之間的第一開(kāi)口;一第一管線裝置,該第一管線裝置具有一第一端以及一第二端,該第一管線裝置的第一端分別密封地連接至每一個(gè)儲(chǔ)氫罐的第一開(kāi)口,該第一管線裝置的第二端露于該座體之外,一第一進(jìn)/出氣端口提供于該第一管線裝置的第二端處;以及一第一控制閥,該第一控制閥裝設(shè)于該第一管線裝置上近該第一進(jìn)/出氣端口處;其中當(dāng)該供氫系統(tǒng)與該氫氣源連接時(shí),該供氫系統(tǒng)以氫原子型態(tài)儲(chǔ)存該氫氣源排入的氫,并且以氣體型式排出氫給該氫氣源,并且排入至該供氫系統(tǒng)內(nèi)及由該供氫系統(tǒng)排出的氫氣的壓力能通過(guò)調(diào)整該第一控制閥來(lái)改變。
      9.如權(quán)利要求8所述的供氫系統(tǒng),其中該儲(chǔ)氫合金為一AB5型合金并且表示成Lm(NixMy),Lm為一富鑭混合稀土金屬并且包含鑭以及選自由鈰、鐠、釹以及釤所組成的一群組中的至少一個(gè)元素,Ni為鎳元素,M包含選自由鋁、鈦、鋯、錫以及鈣所組成的一群組中的至少一個(gè)元素,x、y為摩爾數(shù),4.0≤x≤5.0,0≤y≤1.0,并且x+y=5。
      10.如權(quán)利要求9所述的供氫系統(tǒng),其中當(dāng)鑭元素達(dá)到該儲(chǔ)氫合金中Lm的70至90wt.%(重量百分比)的量,并且鈰元素達(dá)到該儲(chǔ)氫合金中Lm的5至25wt.%的量時(shí),通過(guò)將該控制閥完全地打開(kāi)該供氫系統(tǒng)所供應(yīng)的氫氣的壓力于室溫下等于或高于0.2Mpa。
      11.如權(quán)利要求9所述的供氫系統(tǒng),其中當(dāng)鑭元素達(dá)到該儲(chǔ)氫合金中Lm的50至70wt.%的量,并且鈰元素達(dá)到該儲(chǔ)氫合金的25至45wt.%的量時(shí),通過(guò)將該控制閥完全地打開(kāi)該供氫系統(tǒng)所供應(yīng)的氫氣的壓力于室溫下等于或高于0.7Mpa。
      12.如權(quán)利要求8所述的供氫系統(tǒng),其中該座體并且具有一第二隔板及一第二內(nèi)壁,該至少一個(gè)儲(chǔ)氫罐固定于該第一隔板與該第二隔板之間,每一個(gè)儲(chǔ)氫罐皆具有一個(gè)別的并露在該第二隔板與該第二內(nèi)壁之間的第二開(kāi)口。
      13.如權(quán)利要求12所述的供氫系統(tǒng),進(jìn)一步包含一第二管線裝置,該第二管線裝置具有一第一端以及一第二端,該第二管線裝置的第一端分別密封地連接至每一個(gè)儲(chǔ)氫罐的第二開(kāi)口,該第二管線裝置的第二端露于該座體之外,一第二進(jìn)/出氣端口提供于該第二管線裝置的第二端處;以及一第二控制閥,該第二控制閥裝設(shè)于該第二管線裝置上近該第二進(jìn)/出氣端口處;其中當(dāng)該供氫系統(tǒng)與該氫氣源連接時(shí),該氫氣源內(nèi)的氫由該第一進(jìn)/出氣端口排入至該供氫系統(tǒng)內(nèi),并且從該第二進(jìn)/出氣端口排出回該氫氣源內(nèi),并且排入至該供氫系統(tǒng)內(nèi)的氫氣的壓力能通過(guò)調(diào)整該第一控制閥來(lái)改變,由該供氫系統(tǒng)排出的氫氣的壓力能通過(guò)調(diào)整該第二控制閥來(lái)改變。
      全文摘要
      本發(fā)明提供一種可攜式供氫系統(tǒng),用以安全地儲(chǔ)存氫原子并且能以氣體型式供應(yīng)氫給一使用氫的裝置。該供氫系統(tǒng)包含至少一個(gè)儲(chǔ)氫罐以及一控制閥,并且提供一進(jìn)/出氣端口。當(dāng)該供氫系統(tǒng)先前即吸氫至每一個(gè)儲(chǔ)氫罐內(nèi),并且與該使用氫的裝置連結(jié)時(shí),該供氫系統(tǒng)則于該進(jìn)/出氣端口處供應(yīng)具有一穩(wěn)定壓力的氫氣給該使用氫的裝置,并且由該供氫系統(tǒng)所供應(yīng)的氫氣的壓力能通過(guò)調(diào)整該控制閥來(lái)改變。
      文檔編號(hào)F17C13/00GK1755186SQ200410012030
      公開(kāi)日2006年4月5日 申請(qǐng)日期2004年9月28日 優(yōu)先權(quán)日2004年9月28日
      發(fā)明者施志剛, 黃先進(jìn), 安憶心 申請(qǐng)人:漢氫科技股份有限公司
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