本發(fā)明涉及半導體設備領域,進一步地涉及一種溶液供給裝置及半導體設備。
背景技術:
1、在半導體濕法清洗和刻蝕設備中,需將不同溶液按比例混合使用,為保證產品刻蝕薄膜量穩(wěn)定在一定范圍,對混合溶液濃度穩(wěn)定性有較高要求,常見混合溶液包括例如:dhf溶液(水和49%氫氟酸的混合液)、sc1溶液(體積比例為1:2:50的氨水、雙氧水以及水的混合液)、hf/hno3溶液(氫氟酸和硝酸的混合液)?,F(xiàn)有設備端通過調節(jié)不同輸入管線中化學溶液的注入流量,從而控制各組分化學溶液的配比體積,以達到配置目標濃度溶液的目的。
2、但是由于管路設計和閥件響應調控需要一定時間等限制,溶液在混合過程中濃度波動較大,而且隨著在線實時補液次數的增加,濃度漂移會出現(xiàn)累計效應,進而將造成溶液對于產品薄膜的刻蝕量不穩(wěn)定,甚至導致產品報廢。
3、例如,在申請?zhí)枮?00510075183.4的發(fā)明專利中,公開了一種化學品混合和供給裝置及方法,如圖1所示,該化學品混合和供給裝置包括:第一化學品來源部分112、第二化學品來源部分122、第一輸送管線114、第二輸送管線124、主輸送管線140、位于主輸送管線140的混合器142、第一和第四流量計116和126、排出管線150以及用于比較基于由第一和第四流量計116和126提供的流速數據而計算出的化學品混合比與預設的化學品混合比以控制化學品的流速的控制部件130。排出管線150分別連接于第一和第二輸送管線114和124上,可分別與化學品來源部分112、122連接,因為最初輸送的化學品的流速非常不穩(wěn)定,最初輸送的化學品由排出管線150排放3-5秒鐘,此后維持穩(wěn)定的流速,即在流速調整的過程中排放化學品。
4、盡管上述排出管線150可用于排放第一和第二輸送管線114和124中不穩(wěn)定流動的化學品,防止具有不穩(wěn)定流量的化學品流向主輸送管線140及混合器142的作用。但當停止輸送化學品至排出管線150,并開始將其輸送至主輸送管線140時,第一輸送管線114和第二輸送管線124所輸送的化學品將在主輸送管線140混合,由于在開關閥前后管路內部的管阻和壓力發(fā)生變化,導致第一輸送管線114和第二輸送管線124內的化學品流量急劇變化,從而導致由第一輸送管線114和第二輸送管線124混合輸入到主輸送管線140的化學品流量不穩(wěn)定,進而導致主輸送管線140輸入混合器142內的化學品混合比出現(xiàn)偏差,以及由混合器142提供至處理裝置10的化學品溶液濃度出現(xiàn)偏差。
5、因此,本專利旨在提升混液中各化學組分的體積比例精度。
技術實現(xiàn)思路
1、針對上述技術問題,本發(fā)明的目的在于提升混液中各化學組分的體積比例精度,為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種溶液供給裝置及半導體設備。
2、在一些實施方式中,本發(fā)明提供了一種溶液供給裝置用于為處理裝置提供混合溶液,包括:
3、第一溶液輸入端,用于接收注入的第一溶液;第二溶液輸入端,用于接收注入的第二溶液;第一輸送管線,與所述第一溶液輸入端連接;第二輸送管線,與所述第二溶液輸入端連接;混合槽,連接于所述第一輸送管線遠離所述第一溶液輸入端的一端,及所述第二輸送管線遠離所述第二溶液輸入端的一端,用于混合所述第一溶液和所述第二溶液并形成混合溶液;主輸送管線,連接于所述混合槽與所述處理裝置之間,用于為所述處理裝置提供混合溶液;主排放管線,連接于所述主輸送管線;控制部件,與所述主排放管線和所述主輸送管線通信連接,用于在所述主輸送管線為所述處理裝置提供混合溶液之前,經所述主排放管線排放具有不穩(wěn)定流量的混合溶液。
4、在一些實施方式中,本發(fā)明提供了一種半導體設備,包括半導體處理裝置和上述溶液供給裝置。
5、與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明具有以下有益效果:
6、本發(fā)明通過在藥液混合完成后增設主排放管線,將混液初期因為流量不穩(wěn)定所導致濃度異常的溶液通過主排放管線排放掉,待穩(wěn)定配液流量后再輸送進入處理裝置,從而提升混合溶液中各組份體積比例精度。本發(fā)明還通過在管線中設置穩(wěn)壓器,穩(wěn)定所輸送的液壓,從而將具有穩(wěn)定流量的液體輸送進入處理裝置,提升混合溶液中各組份體積比例精度。
1.一種溶液供給裝置,用于為處理裝置提供混合溶液,其特征在于,包括:
2.根據權利要求1所述的溶液供給裝置,其特征在于:
3.根據權利要求1所述的溶液供給裝置,其特征在于:
4.根據權利要求1所述的溶液供給裝置,其特征在于,
5.根據權利要求1所述的溶液供給裝置,其特征在于,
6.根據權利要求1所述的溶液供給裝置,其特征在于,
7.根據權利要求1所述的溶液供給裝置,其特征在于,包括:
8.根據權利要求1或7所述的溶液供給裝置,其特征在于,包括:
9.一種溶液供給裝置,用于為處理裝置提供混合溶液,其特征在于,包括:
10.一種半導體設備,其特征在于,包括用于處理半導體的處理裝置和如權利要求1-9任一項所述的溶液供給裝置。