本公開(kāi)涉及一種流體控制裝置和基板處理裝置。

背景技術(shù)：

1、已知有一種帶儲(chǔ)罐室的塊閥，具有：氣體供給流路，其用于使從氣體供給源供給的氣體流向工藝腔；以及分支通路，其從氣體供給流路分支且與真空泵連接，其中，在分支通路的中途設(shè)置有儲(chǔ)罐室(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。

2、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

3、專利文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)平7-119844號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的問(wèn)題

2、本公開(kāi)提供一種能夠在短時(shí)間內(nèi)供給大流量的處理氣體的技術(shù)。

3、用于解決問(wèn)題的方案

4、基于本公開(kāi)的一個(gè)方式的流體控制裝置用于控制向處理容器內(nèi)供給的流體，所述流體控制裝置具備：流路塊；以及流體控制設(shè)備，其安裝于所述流路塊，其中，所述流路塊具有：氣體供給流路，其具有用于所述流體流入該氣體供給流路的入口和用于使該流體流向所述處理容器內(nèi)的出口；以及貯存室，其用于在處于所述入口與所述出口之間的所述氣體供給流路中貯存所述流體，所述流體控制設(shè)備具有：第一閥，其用于將處于所述入口與所述貯存室之間的所述氣體供給流路打開(kāi)和關(guān)閉；以及第二閥，其用于將處于所述貯存室與所述出口之間的所述氣體供給流路打開(kāi)和關(guān)閉。

5、發(fā)明的效果

6、根據(jù)本公開(kāi)，能夠在短時(shí)間內(nèi)供給大流量的處理氣體。

技術(shù)特征：

1.一種流體控制裝置，用于控制向處理容器內(nèi)供給的流體，所述流體控制裝置具備：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體控制裝置，其中，

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的流體控制裝置，其中，

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的流體控制裝置，其中，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體控制裝置，其中，

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的流體控制裝置，其中，

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體控制裝置，其中，

8.一種基板處理裝置，具備：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種流體控制裝置和基板處理裝置，能夠在短時(shí)間內(nèi)供給大流量的處理氣體?；诒竟_(kāi)的一個(gè)方式的流體控制裝置用于控制向處理容器內(nèi)供給的流體，所述流體控制裝置具備：流路塊；以及流體控制設(shè)備，其安裝于所述流路塊，其中，所述流路塊具有：氣體供給流路，其具有用于所述流體流入該氣體供給流路的入口、以及用于使該流體流向所述處理容器內(nèi)的出口；以及貯存室，其用于在處于所述入口與所述出口之間的所述氣體供給流路中貯存所述流體，所述流體控制設(shè)備具有：第一閥，其用于將處于所述入口與所述貯存室之間的所述氣體供給流路打開(kāi)和關(guān)閉；以及第二閥，其用于將處于所述貯存室與所述出口之間的所述氣體供給流路打開(kāi)和關(guān)閉。

技術(shù)研發(fā)人員：吉田崇
受保護(hù)的技術(shù)使用者：東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/10/10